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來源: 發(fā)布時間:2024-08-25

Nanoscribe稱,Quantum X是世界上基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photon grayscale lithography,,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),,目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,,可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型,。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,,從而減少多層微制造所需的打印時間,。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,,可制作單個光學元件,、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,,如球面和非球面透鏡,。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作Nanoscribe致力于不斷推動增材制造技術(shù)的發(fā)展,,為客戶提供高質(zhì)量,、高效率的解決方案。湖北高分辨率Nanoscribe多少錢

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Nanoscribe的技術(shù)在多個領(lǐng)域都有廣泛應用,。在光子學領(lǐng)域,,它可以制造光子晶體、超穎材料,、激光分布回饋術(shù)(DFB Lasers)等,。在微光學領(lǐng)域,它可以制造微光學器件和整合型光學,。在微流道技術(shù)領(lǐng)域,,它可以應用于生醫(yī)芯片系統(tǒng),、物質(zhì)研究開發(fā)與分析以及三維基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)等方面。在生命科學領(lǐng)域,,Nanoscribe的技術(shù)可以應用于細胞外數(shù)組結(jié)構(gòu),、干細胞分離術(shù)、細胞成長研究,、細胞遷移研究以及組織工程等方面,。此外,Nanoscribe的技術(shù)還可以制造游泳microbots,,用于精確高效地將藥物送至身體的目標區(qū)域,,以及制作極小的手術(shù)工具,用于顯微外科手術(shù),。


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Nanoscribe雙光子光刻技術(shù)實現(xiàn)在光子芯表面進行打印 ,。光子芯片上的光學元件的精確對準,,例如作為光子封裝的光學互連,是通過共聚焦單元提供的高分辨率3D拓撲映射實現(xiàn)的,。在nanoPrintX軟件中,,您可以將芯片布局和對準標記添加到打印作業(yè)中,打印系統(tǒng)會檢測標記并將其與打印作業(yè)進行匹配,,以確定光子芯片波導的確切位置和方向,。這確保了基于原理的2PP微納加工系統(tǒng)能實現(xiàn)微光學元件和光學互連具有比較好的光學性能的同時擁有**小耦合損耗,通過自由空間微光學耦合(FSMOC)實現(xiàn)高效的光耦合,,成為光子封裝的強大解決方案,。

Nanoscribe Quantum X align作為前列的3D打印系統(tǒng)具備了A2PL®對準雙光子光刻技術(shù),可實現(xiàn)在光纖和光子芯片上的納米級精確對準,。全新灰度光刻3D打印技術(shù)3D printing by 2GL®在實現(xiàn)優(yōu)異的打印質(zhì)量同時兼顧打印速度,,適用于微光學制造和光子封裝領(lǐng)域。3D printing by 2GL®將Nanoscribe的灰度技術(shù)推向了三維層面,。整個打印過程在最高速度掃描的同時實現(xiàn)實時動態(tài)調(diào)制激光功率,。這使得聚合的體素得到精確尺寸調(diào)整,以完美匹配任何3D形狀的輪廓,。在無需切片步驟,,不產(chǎn)生形狀失真的要求下,您將獲得具有無瑕疵光學表面的任意3D打印設(shè)計的真實完美形狀,。Nanoscribe的技術(shù)在微電子,、生物醫(yī)學、光學等領(lǐng)域有著廣泛的應用,,為各行各業(yè)帶來了創(chuàng)新和突破,。

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    傳統(tǒng)3D打印難以實現(xiàn)對于復雜設(shè)計或曲線形狀的高分辨率3D打印,,必須切片并分為大量水平和垂直層。這會明顯增加對于平滑,、曲線或精細結(jié)構(gòu)的打印時間,。雙光子聚合技術(shù)(2PP)則可以解決這個難題。Nanosribe于2019年推出的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)可實現(xiàn)體素調(diào)節(jié),,從而明顯減少打印層數(shù)。這是通過掃描過程中的快速激光調(diào)制來實現(xiàn)的,。并且,,這項技術(shù)已從原先適用于。Nanoscribe于2023年推出雙光子灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®,,該技術(shù)具備實現(xiàn)出色形狀精度的優(yōu)越打印品質(zhì),,并將Nanoscribe的灰度技術(shù)拓展到三維層面。整個打印過程在保持高速掃描的同時實現(xiàn)實時動態(tài)調(diào)整激光功率,。這使得聚合體素得到精確尺寸調(diào)整,,以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟,,不產(chǎn)生形狀失真的要求下,,您將獲得具有無瑕疵光學級表面的任意3D打印設(shè)計的真實完美形狀。 德國Nanoscribe公司的Photonic Professional GT系列是目前世界公認的打印精度處于頭一位的3D打印機,。雙光子Nanoscribe中國

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Nanoscribe作為一家納米,,微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造,,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D 微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案,。Nanoscribe成立于 2007 年,,是卡爾斯魯厄理工學院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,,有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術(shù)和定制應用解決方案,。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)于主導地位,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求,。

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