由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領(lǐng)域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,，包括仿生表面,，微光學元件,，機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,，包括導管鞘在內(nèi)的直徑只為mmNanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解無掩膜光刻技術(shù)相關(guān)信息,。浙江微納米無掩膜光刻技術(shù)

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度,。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應用有著重大意義,。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設(shè)備,，可實現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),，很大程度推動了生命科學,，微流體,，材料工程學中復雜應用的快速原型制作,。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統(tǒng),，非常適合標準6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造,。廣東工業(yè)級無掩膜光刻了解更多無掩膜光刻的技術(shù)和產(chǎn)品信息,，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”（CMM）,。文章中介紹了高精度3D打印,，并重點講解了先進的打印材料是如何讓雙光子聚合技術(shù)應用錦上添花的,。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強大了3D打印工作流程,，實現(xiàn)了各種不同的打印方案,。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作,。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作,。

借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計自由度和高精度特點,，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設(shè)計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案,。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。2GL通過創(chuàng)新的設(shè)計重新定義了典型復雜結(jié)構(gòu)微納光學元件的微納加工制造,。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能,，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度達到上限的微納3D打印機,。該設(shè)備將雙光子聚合的極高精度技術(shù)特點與跨尺度的微觀3D打印完美結(jié)合,，適合用于納米、微米,、中尺度以及厘米級別的快速成型,。Nanoscribe的Quantum X打印系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。

Nanoscribe的2PP技術(shù)將可調(diào)整模場的錐形體作為階躍折射率光波導光束,。來自德國亞琛工業(yè)大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復雜噴嘴設(shè)計?？茖W家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)（2PP）打印微型通道的聚合物母版,，并結(jié)合軟光刻技術(shù)做后續(xù)復制工作。隨后,，在密閉的微流道中通過芯片內(nèi)3D微納加工技術(shù)直接制作復雜結(jié)構(gòu)噴絲頭,。這種集成復雜3D結(jié)構(gòu)于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門,。布魯塞爾自由大學的光子學研究小組（B-PHOT）的科學家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)（2PP）將光波導漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進行高效和穩(wěn)健耦合這個難題,。這些錐形光束漏斗可調(diào)整SMF的模式場，以匹配光子芯片上光波導模式場,。易于實現(xiàn)自動化：無掩膜光刻技術(shù)自動化程度較高,，可以減少人工干預，提高生產(chǎn)效率,。湖南2GL無掩膜光刻技術(shù)

支持多種材料：無掩膜光刻技術(shù)不僅限于特定的材料,，還可以應用于各種不同的材料為制造帶來了更大的靈活性,。浙江微納米無掩膜光刻技術(shù)

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現(xiàn)通過簡單工作流程進行高精度和高設(shè)計自由度的制作,。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力,，即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造,，以達到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量?？偠灾I(yè)級QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進的微制造工藝,，適用于晶圓級批量加工,。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作,。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果,，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺,。QuantumXshape具有先進的激光焦點軌跡控制,，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度,，并以1MHz調(diào)制速率動態(tài)調(diào)整激光功率,。浙江微納米無掩膜光刻技術(shù)