QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細處理網(wǎng)格,，從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制,。此外,，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào)，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達到超光滑，同時保持高精度的形狀控制。它不只是應(yīng)用于生物醫(yī)學,、微光學、MEMS,、微流道,、表面工程學及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具，同時也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡易工具,。通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實用性,。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監(jiān)控及多用戶的使用配置，實現(xiàn)推動工業(yè)標準化及基于晶圓批量效率生產(chǎn),。Nanoscribe中國分公司-納糯三維帶您一起了解更多關(guān)于雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)的內(nèi)容,。北京高分辨率灰度光刻

Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司,。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領(lǐng)導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求,。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化,，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。湖北工業(yè)級灰度光刻3D打印想要了解Quantum X 雙光子灰度光刻微納打印設(shè)備,，歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

Nanoscribe成立于2007年,，總部位于德國卡爾斯魯厄,，擁有卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司的支持,。經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長，Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場的帶領(lǐng)者,，推動著諸如力學超材料,，微納機器人，再生醫(yī)學工程,，微光學等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,，并提供優(yōu)化制程方案。全新的QuantumX無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和,。作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統(tǒng),，在充分滿足設(shè)計自由的同時，一步制造具有光學質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學元件,，達到所見即所得,。PhotonicProfessionalGT2是全球精度排名頭一位的3D微納打印機。該設(shè)備將雙光子聚合的極高精度技術(shù)特點與跨尺度的微觀3D打印完美結(jié)合,，適合用于納米,、微米、中尺度以及厘米級別的快速成型,。

QuantumXshape是一款真正意義上的全能機型,。基于雙光子聚合技術(shù),，該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機型,，同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)模化生產(chǎn),。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細處理網(wǎng)格,，從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制,。此外，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào),，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達到超光滑,，同時保持高精度的形狀控制?；叶裙饪碳夹g(shù)可以應(yīng)用于微電子,、光電子、生物醫(yī)學等多個領(lǐng)域,。

微凹透鏡陣列結(jié)構(gòu)是光學器件中的一種常見組件,，具有較強的聚焦和成像能力。以往制備此類結(jié)構(gòu)的方法有熱回流、灰度光刻,、干法刻蝕和注射澆鑄等,。受加工手段的限制，傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結(jié)構(gòu),，這樣的1組微透鏡陣列無法將1個平面物體聚焦至1個像平面上,，會產(chǎn)生場曲。在商業(yè)生產(chǎn)中,，為了消除場曲這種光學像差,，只能在后續(xù)光路中引入場鏡組來進行校正，從而增加了器件復(fù)雜度和成本,。如果采用3D飛秒激光打印來加工微凹透鏡陣列即可通過設(shè)計一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場曲,。灰度光刻技術(shù)具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域,。山東2GL灰度光刻3D打印

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解灰度光刻的特點和應(yīng)用,。北京高分辨率灰度光刻

Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研,、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說,，在納米級,、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版,。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計自由度和高精度特點,，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設(shè)計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案,。北京高分辨率灰度光刻