Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造,，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D微納加工系統(tǒng)和無(wú)掩模光刻系統(tǒng),，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。Nanoscribe成立于2007年,，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司,。在全球前列大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過(guò)2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案,。Nanoscribe憑借其過(guò)硬的技術(shù)背景和市場(chǎng)敏銳度奠定了其市場(chǎng)優(yōu)于主導(dǎo)地位,，并以高標(biāo)準(zhǔn)來(lái)要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來(lái)進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實(shí)現(xiàn)多樣化,，以滿足不用客戶群的需求支持產(chǎn)品快速開發(fā),，因?yàn)榭梢灾圃煨螤顝?fù)雜的零件,，產(chǎn)品多樣化，但不增加成本,。浙江Nanoscribe3D打印三維光刻

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）,。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫，而是在孔型支架內(nèi),。通過(guò)調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過(guò)激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí),，對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過(guò)0.3,。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡,。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）。通過(guò)色散透鏡聚焦的光因波長(zhǎng)不同焦點(diǎn)位置也不盡相同,。河北實(shí)驗(yàn)室3D打印多少錢3D打印技術(shù)能夠制造出傳統(tǒng)生產(chǎn)技術(shù)無(wú)法制造的外形,，為設(shè)計(jì)師提供了更大的創(chuàng)新空間，使得產(chǎn)品設(shè)計(jì)更加優(yōu)化,。

Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過(guò)在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來(lái)完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間,。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件,、填充因子高達(dá)100%的陣列,，以及可以在直接和無(wú)掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡,。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè),，并通過(guò)交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目,，打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。該軟件有程序向?qū)В稍谝婚_始就指導(dǎo)設(shè)計(jì)師和工程師完成打印作業(yè),，并能夠接受任意光學(xué)設(shè)計(jì)的灰度圖像,。

這種集成復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門,。布魯塞爾自由大學(xué)的光子學(xué)研究小組（B-PHOT）的科學(xué)家們正在通過(guò)使用Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)（2PP）將光波導(dǎo)漏斗3D打印到光纖末端上來(lái)攻克將具有不同模場(chǎng)幾何形狀的兩個(gè)元件之間的光束進(jìn)行高效和穩(wěn)健耦合這個(gè)難題。這些錐形光束漏斗可調(diào)整SMF的模式場(chǎng),，以匹配光子芯片上光波導(dǎo)模式場(chǎng),。Nanoscribe的2PP技術(shù)將可調(diào)整模場(chǎng)的錐形體作為階躍折射率光波導(dǎo)光束。隨著3D打印技術(shù)的不斷進(jìn)步,，微納3D打印的出現(xiàn),，完美的解決了這個(gè)問(wèn)題。

作為微納加工和3D打印領(lǐng)域的帶領(lǐng)者,，Nanoscribe一直致力于推動(dòng)各個(gè)科研領(lǐng)域,，諸如力學(xué)超材料，微納機(jī)器人,，再生醫(yī)學(xué)工程,，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案,。2017年在上海成立的中國(guó)子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強(qiáng)了全球銷售活動(dòng),，并完善了亞太地區(qū)客戶服務(wù)范圍。此次推出的中文版官網(wǎng)在視覺(jué)效果上更清晰,，結(jié)構(gòu)分類上更明確,。首頁(yè)導(dǎo)航欄包括了產(chǎn)品信息，產(chǎn)品應(yīng)用數(shù)據(jù)庫(kù),，公司資訊和技術(shù)支持幾大專欄,。比較大化滿足用戶對(duì)信息的了解和需求。Nanoscribe中國(guó)子公司總經(jīng)理崔博士表示：“中文網(wǎng)站的發(fā)布是件值得令人高興的事情,，我們希望新的中文網(wǎng)站能讓我們的中國(guó)客戶無(wú)需顧慮語(yǔ)言障礙,，更全方面深入得了解我們的產(chǎn)品以及在科研和工業(yè)方面的應(yīng)用。3D打印技術(shù)是一種高精度,、高分辨率的增材制造技術(shù)。浙江Nanoscribe3D打印三維光刻

長(zhǎng)遠(yuǎn)來(lái)看,，3D打印將顛覆傳統(tǒng)制造,，實(shí)現(xiàn)大規(guī)模的個(gè)性化服務(wù)提供。浙江Nanoscribe3D打印三維光刻

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件，從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,，包括仿生表面,，微光學(xué)元件,，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm,。浙江Nanoscribe3D打印三維光刻