Nanoscribe成立于2007年,，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司,。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求,。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統(tǒng)基礎上進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化,，以滿足不用客戶群的需求,。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件。歡迎咨詢納糯三維科技（上海）有限公司關于雙光子聚合（2PP）和雙光子灰度光刻（2GL ?）的問題,，咨詢請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維,。工業(yè)級灰度光刻系統(tǒng)

近年來，利用雙光子聚合對聚合物類傳統(tǒng)光刻膠的3D飛秒激光打印技術已日臻成熟,，其高精度,、高度可設計性和維度可控性已經(jīng)在平行技術中排名在前。與此同時,，如何更有效地將微納結構功能化,，也逐漸成為各種微納加工技術的研究重點。在現(xiàn)階段,，對于3D飛秒激光打印技術而言,，具體來說就是利用其加工的高度可設計性來實現(xiàn)微納結構的功能化和芯片化，并使這些結構能夠更好地集成器件,，從而達到理想的應用目的,。微凹透鏡陣列結構是光學器件中的一種常見組件，具有較強的聚焦和成像能力,。以往制備此類結構的方法有熱回流,、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等,。受加工手段的限制,，傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結構，這樣的1組微透鏡陣列無法將1個平面物體聚焦至1個像平面上,，會產(chǎn)生場曲,。在商業(yè)生產(chǎn)中，為了消除場曲這種光學像差,，只能在后續(xù)光路中引入場鏡組來進行校正,，從而增加了器件復雜度和成本。如果采用3D飛秒激光打印來加工微凹透鏡陣列即可通過設計一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場曲,。工業(yè)級灰度光刻系統(tǒng)Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您介紹雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng),。

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設計迭代,，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型,，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)QuantumX，并榮獲創(chuàng)新獎,。該系統(tǒng)是世界上No.1基于雙光子灰度光刻技術（2GL?）的精密加工微納米打印系統(tǒng),，可應用于折射和衍射微光學。

Nanoscribe獨有的體素調諧技術2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質量的同時兼顧打印速度,，實現(xiàn)自由曲面微光學元件通過3D打印精確對準到光纖或光子芯片的光學軸線上,。NanoscribeQX平臺打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測，確保打印精細對準到光纖的光學軸線上,。共焦檢測模塊用于3D基板拓撲構圖,，實現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細打印對準。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術3Dprintingby2GL®是市場上基于2PP原理微納加工技術中打印速度**快的,。其動態(tài)體素調整需要相對較少的打印層次,，即可實現(xiàn)具有光學級別、光滑以及納米結構表面打印結果,。這意味著在滿足苛刻的打印質量要求的同時,，其打印速度遠遠超過任何當前可用的2PP三維打印系統(tǒng)。2GL®作為市場上快的增材制造技術,，非常適用于3D納米和微納加工，在滿足優(yōu)越打印質量的前提下,，其吞吐量相比任何當前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您一起了解雙光子灰度光刻系統(tǒng)的應用。

如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變,，以實現(xiàn)對原始表面的精確成像一直是一個重要議題,。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng)，雙光子聚合技術是實現(xiàn)微納尺度3D打印特別有效的技術,，其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級,，并可達到光學質量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結構,、自由設計的圖案、順滑的輪廓,、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,，以及非常普遍的材料-基板選擇,。灰度光刻技術采用圖像處理的方法,。工業(yè)級灰度光刻系統(tǒng)

灰度光刻技術可以應用于微電子,、光電子、生物醫(yī)學等多個領域,。工業(yè)級灰度光刻系統(tǒng)

經(jīng)過10年的市場銷售,，Nanoscribe已幫助了許多科學和工業(yè)領域的開拓者和創(chuàng)新的帶領者,，例如，為ICT生產(chǎn)DOE,，微光學以及光子引線鍵合,。他們的新IP-Visio在30個國家/地區(qū)擁有1,000多個用戶，受到業(yè)界的強烈關注,。2019年6月該公司推出了一款新型的機器QuantumX,，使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，尺寸可小至200微米,。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,，“Beers定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術,，克服了這些限制,，提供了前所未有的設計自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作,?！啊９I(yè)級灰度光刻系統(tǒng)