Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭增材制造技術具有高的堅固性，穩(wěn)定性,，耐用性,。高分辨率Nanoscribe三維微納米加工系統(tǒng)

QuantumXshape技術特點概要：快速原型制作，高精度,，高設計自由度，簡易明了的工程流程,；工業(yè)驗證的晶圓級批量生產(chǎn),；200個標準結構的通宵產(chǎn)量；通用及專門使用的打印材料,；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領域應用有著重大意義。高分辨率Nanoscribe三維微納米加工系統(tǒng)更多有關雙光子聚合技術和產(chǎn)品咨詢,，歡迎聯(lián)系納糯三維科技（上海）有限公司,。

全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設備，可實現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結構,，很大程度推動了生命科學,，微流體，材料工程學中復雜應用的快速原型制作,。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統(tǒng),，非常適合標準6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作,。這種高質(zhì)量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結果,，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺。QuantumXshape具有先進的激光焦點軌跡控制,，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度,，并以1MHz調(diào)制速率動態(tài)調(diào)整激光功率,。

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面,，微光學元件,，機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,，包括導管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm。更多有關3D微納加工技術和產(chǎn)品咨詢,，歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技（上海）有限公司,。

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型,。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時間,。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,，可制作單個光學元件,、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡,。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司為您淺析增材制造技術在制造業(yè)中的特點與應用。高分辨率Nanoscribe三維微納米加工系統(tǒng)

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光子集成電路(PhotonicIntegratedCircuit，PIC)與電子集成電路類似,，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管,、電容器,、電阻器等電子器件，而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件,，比如激光器,、電光調(diào)制器、光電探測器,、光衰減器,、光復用/解復用器以及光放大器等。集成光子學可較廣地應用于各種領域,，例如數(shù)據(jù)通訊,，激光雷達系統(tǒng)的自動駕駛技術和YL領域中的移動感應設備等。而光子集成電路這項關鍵技術,，尤其是微型光子組件應用,，可以很大程度縮小復雜光學系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關鍵技術還在于連接接口,，例如光纖到芯片的連接,，可以有效提高集成度和功能性。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性,，需要權衡對準、效率和寬帶方面的種種要求,。高分辨率Nanoscribe三維微納米加工系統(tǒng)