Nanoscribe公司成立于2007年,，總部位于德國卡爾斯魯厄，秉持著卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術背景的德國卡爾蔡司公司的支持,，經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長,，已然成為微納米生產(chǎn)的帶領者，一直致力于推動諸如力學超材料,，微納機器人,，再生醫(yī)學工程，微光學等創(chuàng)新領域的研究和發(fā)展,，并提供優(yōu)化制程方案,。如今，Nanoscribe客戶遍布全球30個國家，超過1500名用戶正在使用Nanoscribe3D打印系統(tǒng),。這些大學包含哈佛大學,、加州理工學院、牛津大學,、倫敦帝國理工學院和蘇黎世聯(lián)邦理工學院等等,。為了拓展并加強中國及亞太地區(qū)的銷售推廣和售后服務范圍，Nanoscribe于2017年底在上海成立了獨資子公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。自Nanoscribe進軍中國市場以來,，已有20多家出名大學和研究所成為了Nanoscribe用戶，其中包括多所C9前列高校聯(lián)盟成員,，例如：北京大學,，復旦大學，南京大學等等,。什么是Quantum X 新型超高速無掩模光刻系統(tǒng),？請咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。湖南雙光子聚合無掩膜光刻3D微納加工

為了進一步提升技術先進性,，科研人員又在新材料研發(fā)的過程中發(fā)現(xiàn)了巨大的潛力,。一方面，利用SCRIBE新技術的情況下,，高折射率的光刻膠可進一步拓展對打印結構的光學性能的調(diào)節(jié)度,。另一方面，低自發(fā)熒光的可打印材料非常適用于生物成像領域,。Nanoscribe公司的IP系列光刻膠,，例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自發(fā)熒光的IP-Visio已經(jīng)為接下來的研究提供了進一步的可能。為了證明SCRIBE新技術的巨大潛力,，科研人員打印了眾多令人矚目的光學組件,，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）,。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同,。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中,，成像中的熒光強度和折射率高度相關,，同時將打印的雙透鏡中的每個單獨透鏡可視化。廣東2PP無掩膜光刻3D打印Nanoscribe的Photonic Professional GT2提供世界上特別高分辨率的3D無掩模光刻技術,。

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,，可實現(xiàn)通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,，QuantumXshape提升了3D微納加工能力,，即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造,，以達到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量?？偠灾?，工業(yè)級QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工,。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作,。這種高質(zhì)量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結果，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺,。QuantumXshape具有先進的激光焦點軌跡控制,，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度，并以1MHz調(diào)制速率動態(tài)調(diào)整激光功率,。

Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型,。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行,。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時間,。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,，可制作單個光學元件,、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡,。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作,。為了更好地管理和安排用戶的項目,，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。無掩膜光刻技術的更多信息,，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。

借助Nanoscribe的3D微納加工技術，您可以實現(xiàn)亞細胞結構的三維成像,，適用于細胞研究和芯片實驗室應用（lab-on-a-chip）,。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細胞支架來研究細胞生長,、遷移和干細胞分化。此外,，3D微納加工技術還可以應用在微創(chuàng)手術的生物醫(yī)學儀器,，包括植入物，微針和微孔膜等制作,。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學和工業(yè)項目中備受青睞,。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應用前景,。也就是說，在納米級,、微米級以及中尺度結構上,，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。無掩膜光刻是一類不采用光刻掩膜版的光刻技術,。2PP無掩膜光刻技術3D打印

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儀器儀表行業(yè)已經(jīng)連續(xù)多年保持了經(jīng)濟高位運行的態(tài)勢,。即使當全球受金融風暴的影響,，各個行業(yè)經(jīng)濟東圃有所放緩，但從全景發(fā)展情況看來,，儀表行業(yè)的增長速度并沒有放緩,。隨著網(wǎng)絡消費的不斷遞增，而互聯(lián)網(wǎng)的的商業(yè)價值不斷被挖掘出來,，呈爆發(fā)式增長,，傳統(tǒng)的營銷模式將逐步被取代。外商獨資企業(yè)企業(yè)要抓住機遇,，融入到互聯(lián)網(wǎng)發(fā)展的行業(yè)中,，為行業(yè)的發(fā)展提高競爭力。工業(yè)領域轉(zhuǎn)型升級,、提升發(fā)展質(zhì)量等有利于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展,；**安全、社會安全,、產(chǎn)業(yè)和信息安全等需要自主,、PPGT2，Quantum X系列,，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng)裝備,，成為全社會共識；我國生產(chǎn)型發(fā)展迅速,，年均增長速度超過20%,。在相關報告中可以了解到在我國工業(yè)基礎生產(chǎn)型產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀研究的成果。湖南雙光子聚合無掩膜光刻3D微納加工

納糯三維科技（上海）有限公司是一家生產(chǎn)型類企業(yè),，積極探索行業(yè)發(fā)展,，努力實現(xiàn)產(chǎn)品創(chuàng)新。納糯三維是一家外商獨資企業(yè)企業(yè),，一直“以人為本,，服務于社會”的經(jīng)營理念;“誠守信譽，持續(xù)發(fā)展”的質(zhì)量方針,。公司擁有專業(yè)的技術團隊,，具有PPGT2，Quantum X系列,，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng)等多項業(yè)務。納糯三維自成立以來,，一直堅持走正規(guī)化,、專業(yè)化路線，得到了廣大客戶及社會各界的普遍認可與大力支持,。