Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統(tǒng)制造商，2019年6月25日,，南極熊從外媒獲悉,，該公司近日推出了一款新型的機器QuantumX。該系統(tǒng)使用雙光子光刻技術(shù)制造納米尺寸的折射和衍射微光學(xué)元件,，其尺寸可小至200微米,。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當(dāng)今的無掩模光刻設(shè)備施加了強大的限制,，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù),，克服了這些限制，提供了前所未有的設(shè)計自由度和易用性,，我們的客戶正在微加工的前沿工作,。“Nanoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學(xué)院,，現(xiàn)在在上海設(shè)有子公司,，在美國設(shè)有辦事處。該公司在財務(wù)和技術(shù)上獲得了蔡司的大力支持,，蔡司是德國歷史特別悠久,，規(guī)模比較大的光學(xué)系統(tǒng)制造商之一。納米標記系統(tǒng)基于雙光子吸收,，這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過程,。為了使用雙光子工藝制造3D物體，使用含有單體和雙光子活性光引發(fā)劑的凝膠作為原料,。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體,，其中吸收的光的強度特別高。 基于雙光子灰度光刻技術(shù) (2GL ?)的Quantum X打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作,。浙江高分辨率灰度光刻無掩膜激光直寫

Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL ®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作,。2GL通過創(chuàng)新的設(shè)計重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能,，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。而且GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結(jié)構(gòu),、自由設(shè)計的圖案,、順滑的輪廓、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設(shè)計的靈活性和操控的簡潔性，以及普遍的材料-基板選擇,。因此，它是一個理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,，超過1,000個開創(chuàng)性科學(xué)研究項目是這項技術(shù)強大的設(shè)計和制造能力的特別好證明。湖北2GL灰度光刻無掩光刻Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您了解成熟的灰度光刻技術(shù),。

雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件（DOE）,，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,，刻蝕和對準工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高,。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學(xué)元件,，可以直接作為原型使用,，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具,。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求,。基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作,，即一步打印多級衍射光學(xué)元件,，并以經(jīng)濟高效的方法將多達4,096層的設(shè)計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲,。

    Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實現(xiàn)微機械元件的制作，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,，并可以選擇添加金屬涂層,。此外,，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）,。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件（DOE）,，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級,。由于需要多次光刻,，刻蝕和對準工藝,，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高,。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學(xué)元件，可以直接作為原型使用,，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具,。 如需了解更多全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)Quantum X的內(nèi)容,，請咨詢Nanoscribe中國分公司納糯三維,。

Nanoscribe成立于2007年,，憑借著爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司（CarlZeissAG）的支持,，經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長成為了現(xiàn)在世界公認的微納米加工技術(shù)和3D打印市場的帶領(lǐng)者,，并于2017年在上海成立分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。公司主要產(chǎn)品有基于雙光子聚合技術(shù)（Two-PhotonPolymerization）并擁有多項國際專項的雙光子微納3D打印系統(tǒng)PhotonicProfessionalGT2,。全球頭一臺工業(yè)級雙光子灰度光刻（2GL®)微納打印設(shè)備QuantumX受到普遍關(guān)注并被眾多高學(xué)府和高科技單位所采用,，例如哈佛大學(xué),，牛津大學(xué)等出名的院校,，華為公司等,?？蓱?yīng)用于微納機器人，再生醫(yī)學(xué)工程,，微納光學(xué),，力學(xué)超材料等不同領(lǐng)域,。了解雙光子灰度光刻敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。浙江高精度灰度光刻無掩膜激光直寫

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您解析雙光子灰度光刻技術(shù)。浙江高分辨率灰度光刻無掩膜激光直寫

    QuantumX新型超高速無掩模光刻技術(shù)的中心是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）,。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時具備高速打印,，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點,。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求,。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代,，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具,。這項技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達到精細同步,，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面,。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結(jié)合，使其同時具備高速打印,，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點,。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求,。 浙江高分辨率灰度光刻無掩膜激光直寫

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