Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領(lǐng)域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設計迭代周期,，包括仿生表面,，微光學元件,，機械超材料和3D細胞支架等。 Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解雙光子灰度光刻技術(shù)的運用,。北京進口灰度光刻3D微納加工

    Nanoscribe成立于2007年,，總部位于德國卡爾斯魯厄，擁有卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司的支持,。經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長,，Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場的帶領(lǐng)者，推動著諸如力學超材料,，微納機器人,，再生醫(yī)學工程，微光學等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,，并提供優(yōu)化制程方案,。全新的QuantumX無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統(tǒng),，在充分滿足設計自由的同時,，一步制造具有光學質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學元件，達到所見即所得,。PhotonicProfessionalGT2是全球精度排名頭一位的3D微納打印機,。該設備將雙光子聚合的極高精度技術(shù)特點與跨尺度的微觀3D打印完美結(jié)合，適合用于納米,、微米,、中尺度以及厘米級別的快速成型。 北京進口灰度光刻3D微納加工Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您介紹雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)Quantum X,。

灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透,，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)（如下圖4所示,，八邊金字塔結(jié)構(gòu)）,。微透鏡陣列也是類似，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài),。需要注意,，灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多，約為Ra=100nm,，前兩者可以會的Ra=50nm的球面,。微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似，但是原理不同,，我們常見的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù),，利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu)，不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)（如下圖5所示），該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設計獲得想要的結(jié)構(gòu),，對于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu),，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進行后續(xù)的復制工作,，并通過納米壓印技術(shù)進行復制,。

    在計算成像領(lǐng)域中有一個重要的分支，即光場成像,。而光場成像中的中心光學元件,，即為微透鏡陣列。其材質(zhì)為透明玻璃,，表面刻有很多微小的透鏡,，組成陣列結(jié)構(gòu)，用來成像,。目前比較成熟的制作石英微透鏡的工藝是光刻膠制作圖形配合刻蝕的方法,，但該方法存在著各種各樣的問題。常用的光刻膠制作圖形配合刻蝕的方法在透鏡的設計時需通過掩膜板圖形確定,，無法自由調(diào)節(jié),，且成本高,，周期長,。這項技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達到準同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,，并在不影響速度的情況下,，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結(jié)合,，使其同時具備高速打印,，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求,。 想要了解Quantum X 雙光子灰度光刻微納打印設備,，歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

Quantum X采用雙光子灰度光刻技術(shù),，克服了這些限制,，提供了前所未有的設計自由度和易用性。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件,。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設計自由度和光學質(zhì)量的特點,，您可以進行幾乎任何形狀，包括球形,，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設計,。Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設計自由度，可以在各種預先構(gòu)圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作,。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結(jié)構(gòu),。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您詳細講解灰度光刻技術(shù)。湖南進口灰度光刻三維光刻

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如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變，以實現(xiàn)對原始表面的精確成像一直是一個重要議題,。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng),，雙光子聚合技術(shù)是實現(xiàn)微納尺度3D打印特別有效的技術(shù)，其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級,，并可達到光學質(zhì)量表面的要求,。Nanoscribe Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu),、自由設計的圖案,、順滑的輪廓、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及非常普遍的材料-基板選擇,。因此,，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室,。北京進口灰度光刻3D微納加工

納糯三維科技（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加楓路26號108室,。納糯三維致力于為客戶提供良好的PPGT2，Quantum X系列,，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng)，一切以用戶需求為中心,，深受廣大客戶的歡迎,。公司秉持誠信為本的經(jīng)營理念，在儀器儀表深耕多年,，以技術(shù)為先導,，以自主產(chǎn)品為重點，發(fā)揮人才優(yōu)勢,，打造儀器儀表良好品牌,。納糯三維秉承“客戶為尊、服務為榮,、創(chuàng)意為先,、技術(shù)為實”的經(jīng)營理念，全力打造公司的重點競爭力。