EDI超純水設(shè)備的基本工作原理,。EDI是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)（電滲析技術(shù)）相結(jié)合的純水制造技術(shù),。該技術(shù)利用離子交換能深度脫鹽來克服電滲析極化而脫鹽不徹底,，又利用電滲析極化而發(fā)生水電離產(chǎn)生H+和OH-，這些離子對離子交換樹脂進行連續(xù)再生，以使離子交換樹脂保持很優(yōu)狀態(tài),。EDI膜堆主要由交替排列的陽離子交換膜、濃水室,、陰離子交換膜,、淡水室和正、負電極組成,。離子交換樹脂充夾在陰陽離子交換膜之間形成單個處理單元,，并構(gòu)成淡水室，單元與單元之間用網(wǎng)狀物隔開,，形成濃水室,。在直流電場的作用下，淡水室中離子交換樹脂中的陽離子和陰離子沿樹脂和膜構(gòu)成的通道分別向負極和正極方向遷移,，陽離子透過陽離子交換膜,，陰離子透過陰離子交換膜，分別進入濃水室形成濃水,。同時EDI進水中的陽離子和陰離子跟離子交換樹脂中的氫離子和氫氧根離子交換,，形成超純水（高純水）。超極限電流使水電解產(chǎn)生的大量氫離子和氫氧根離子對離子交換樹脂進行連續(xù)的再生,。傳統(tǒng)的離子交換,，離子交換樹脂飽和后需要化學間歇再生。而EDI膜堆中的樹脂通過水的電解連續(xù)再生,，工作是連續(xù)的,，不需要酸堿化學再生。超純水設(shè)備有什么作用和用途,？制備飲料超純水設(shè)備廠家電話

    超純水設(shè)備的特點及工藝介紹,。超純水設(shè)備采用國際主流可靠產(chǎn)品，采用PLC+觸摸屏控制全套系統(tǒng)自動化程度高,，極大節(jié)省人力成本和維護成本,，水利用率高，經(jīng)濟合理,，是水處理行業(yè)優(yōu)先的產(chǎn)品,。一超純水設(shè)備特點1.進口零部件組裝，更加耐用,。2.可以隨時增加膜的數(shù)量以增加處理量,。3.自我保護系統(tǒng)，故障急停,。4.復(fù)合膜擁有更高的分離率和透過率,。5.水利用率高。6.體積更小，使用工地面積小,。7.淡水即可沖洗復(fù)合膜,。8.部件更加耐用，長期無需維修,。9.液晶顯示器用超純水設(shè)備設(shè)計有膜清洗系統(tǒng)用阻垢系統(tǒng),。超純水設(shè)備是在反滲透處理設(shè)備之后出現(xiàn)的水處理用設(shè)備，該設(shè)備的出現(xiàn)取代了傳統(tǒng)的離子置換設(shè)備,，并且有著出水質(zhì)量高,、資金投入少、操控簡單,、設(shè)備體積小等優(yōu)點,。 RO反滲透超純水設(shè)備維修化工行業(yè)用的超純水設(shè)備。

    在一般情況下,，在使用超純水設(shè)備一段時間后我們會發(fā)現(xiàn)產(chǎn)水會變慢,，很多客戶都比較費解，下面介紹一下超純水設(shè)備產(chǎn)水變慢的原因,。膜的堵塞,。前置過濾器濾長期不換、不清理,，造成機器內(nèi)部的水質(zhì)遠遠惡劣于進入機器之前的水質(zhì),。原水水質(zhì)差，廢水比例反而小,，造成廢水電磁閥或是沖洗組合閥的堵塞,，進而不出廢水，或是出廢水極少,，這就導(dǎo)致了膜的堵塞,，以及使用壽命變短。變壓器有故障,。變壓器有故障,，不能提供泵正常增壓所需要的電壓，轉(zhuǎn)速就慢,，增的壓力就小,，增壓小，自然達不到自來水通過RO膜所需要的壓力,，這時候產(chǎn)水就慢,。排除了泵的因素、膜的因素等影響制水慢的主要因素之后,，就有必要換一個新的變壓器試一下,。

    EDI超純水設(shè)備的凈水基本過程：（1）連續(xù)運行,，產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定（2）容易實現(xiàn)全自動控制（3）無須用酸堿再生（4）不會因再生而停機，節(jié)省了再生用水及再生污水處理設(shè)施（5）產(chǎn)水率高（可達95%）,。EDI裝置屬于精處理水系統(tǒng),，一般多與反滲透（RO）配合使用，組成預(yù)處理,、反滲透,、EDI裝置的超純水處理系統(tǒng)，取代了傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備,。EDI裝置進水要求為電阻率為0.025-0.5Ω·cm,，反滲透裝置完全可以滿足要求,。EDI裝置可生產(chǎn)電阻率高達15MΩ·cm以上的超純水,。對于高純水系統(tǒng)，無論從產(chǎn)水質(zhì)量,、性能和操作等方面考慮,，還是從運行費用和環(huán)保等方面考慮，反滲透+EDI工藝都是一個理想的選擇,。 碩科超純水設(shè)備具備完善的售后服務(wù)體系,，確保用戶無后顧之憂。

    超純水設(shè)備的工藝流程為：1,、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝),。2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→μm精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(新工藝),。3,、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(新工藝)。4,、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→μm精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(新工藝),。5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝),。 工業(yè)超純水設(shè)備一般需要做什么預(yù)處理呢,？制備飲料超純水設(shè)備廠家電話

超純水設(shè)備供應(yīng)商，大型工業(yè)超純水設(shè)備廠家,。制備飲料超純水設(shè)備廠家電話

      半導(dǎo)體芯片超純水設(shè)備,。半導(dǎo)體芯片用水主要在于前端晶棒硅切片冷卻用水，基板晶圓片檢測清洗用水,，中段晶圓片濺鍍,、曝光、電鍍,、光刻,、腐蝕等工藝清洗,，后段檢測封裝清洗。LED芯片主要是前段在MOCVD外延片生長用水,，中段主要在曝光,、顯影、去光阻清洗用水,，后段檢測封裝用水,。同時，半導(dǎo)體行業(yè)對TOC的要求較高,。設(shè)備優(yōu)點：采用反滲透作為預(yù)處理再配上離子交換其特點為初投次比采用離子交換樹脂方式要高,，但離子再生周期相對要長，耗費的酸堿比單純采用離子樹脂的方式要少很多,。但對環(huán)境還有一定破壞性,。 制備飲料超純水設(shè)備廠家電話