電子工業(yè)超純水設(shè)備工藝及使用注意事項(xiàng),。高純水又名超純水,，是指化學(xué)純度極高的水，其主要應(yīng)用在生物,、化學(xué)化工,、冶金、宇航,、電力等領(lǐng)域,，但其對水質(zhì)純度要求相當(dāng)高，所以一般應(yīng)用比較普遍的還是電子行業(yè),。在超純水設(shè)備的生產(chǎn)過程中,，水中的陰陽離子可用電滲析法、反滲透法及離子交換技術(shù)等去除,，水中的顆粒一般可用超過濾,、膜過濾等技術(shù)去除;水中的細(xì)菌，目前國內(nèi)多采用加藥或紫外燈照射或臭氧殺菌的方法去除;水中的TOC則一般用活性炭,、反滲透處理,。在高純水的應(yīng)用領(lǐng)域中，水的純度直接關(guān)系到器件的性能,、可靠性,，因此高純水要求具有相當(dāng)高的純度和精度。 光伏多晶硅超純水設(shè)備生產(chǎn)廠商,。鋰電池超純水設(shè)備生產(chǎn)

    制備電子工業(yè)用超純水的工藝流程,。電子工業(yè)制備超純水的工藝大致分成以下3種：(1)采用離子交換樹脂制備電子工業(yè)超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點(diǎn),。(2)采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合制備電子工業(yè)超純水的方式,，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點(diǎn)。圖片(3)采用反滲透設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進(jìn)行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式,，這是一種制取超純水的新工藝,，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì),，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點(diǎn)。 食品加工超純水設(shè)備定制碩科超純水設(shè)備能夠?yàn)槠髽I(yè)提供安全,、可靠的工業(yè)用水解決方案,。

多晶硅超純水設(shè)備主要用在多晶硅片清洗中，多晶硅片,半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中硅片須經(jīng)嚴(yán)格清洗,。微量污染也會導(dǎo)致器件失效,。清洗的目的在于去除表面污染雜質(zhì),，包括有機(jī)物和無機(jī)物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài),，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面,。有機(jī)污染包括光刻膠、有機(jī)溶劑殘留物,、合成蠟和人接觸器件,、工具、器皿帶來的油脂或纖維,。無機(jī)污染包括重金屬金、銅,、鐵,、鉻等，嚴(yán)重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo);堿金屬如鈉等,，引起嚴(yán)重漏電,顆粒污染包括硅渣,、塵埃、細(xì)菌,、微生物,、有機(jī)膠體纖維等，會導(dǎo)致各種缺陷,。針對多晶硅加工工藝需求和當(dāng)?shù)厮辞闆r,，可采用工藝流程:ASS+UF+1RO+2RO+EDI+SMB或MMF+ACF+1RO+2RO+EDI+SMB工藝流程，碩科環(huán)保采用國內(nèi)先進(jìn)設(shè)計(jì)理念,，確保系統(tǒng)設(shè)備產(chǎn)水達(dá)到標(biāo)準(zhǔn),。

    很多客戶在使用超純水設(shè)備的過程中，經(jīng)常會反映一個(gè)問題,，就是超純水設(shè)備中的反滲透膜很容易出現(xiàn)水垢,。業(yè)內(nèi)人員表示，超純水設(shè)備出現(xiàn)水垢后不僅會影響到超純水設(shè)備的正常運(yùn)行,，也會影響到出水的水質(zhì),，給人們使用設(shè)備帶來了不便。那么,，在使用過程中,，我們應(yīng)該怎么防止超純水設(shè)備結(jié)水垢呢?據(jù)了解，超純水設(shè)備在長時(shí)間使用的過程中,，通過反滲透膜兩側(cè)的壓力差作為動力,，進(jìn)行水交換，在水不斷的交換的同時(shí)會導(dǎo)致大量的鹽聚集,，鹽中含有大量的沉淀物質(zhì),，時(shí)間長了就會發(fā)生結(jié)垢現(xiàn)象,，結(jié)構(gòu)嚴(yán)重就會純凈水的質(zhì)量。因此,，在使用的過程中我們要有效的預(yù)防這種情況出現(xiàn),。有技術(shù)人員表示，在使用超純水設(shè)備的時(shí)候,，要保持過濾器過濾速度,，并且保持勻速，合理的過濾速度可以保證超純水設(shè)備的凈化效果,。另外,，在濾料的選擇上，建議選擇顆粒度大小基本一致的濾料,，這樣過濾出來的水就比較徹底,。 碩科生產(chǎn)超純水設(shè)備產(chǎn)品性能好，質(zhì)量可靠,。

    化工超純水設(shè)備的使用步驟是什么,？使用步驟：首先，開啟進(jìn)水水源并接通電源后化工超純水設(shè)備,，即可全自動制水工作其次,，如需取用RO反滲透水、DI去離子水,，開啟相應(yīng)的左右兩側(cè)取水球閥即可,。然后，取水完畢后關(guān)閉區(qū)水口,，設(shè)備即自動停機(jī),，此時(shí)開啟任何一個(gè)取水口，則自動重新啟動,，制造純水,。以此循環(huán)，制造出所需的純水,。注意：如長期不使用或下班前,，請務(wù)必關(guān)閉純水機(jī)電源，切斷自來水來源,，以避免發(fā)生意外,。以自來水為水源的系統(tǒng)，要求進(jìn)水壓力要符合設(shè)備要求,，進(jìn)水管徑不得小于規(guī)定尺寸,。 多晶硅超純水設(shè)備主要用在多晶硅片清洗中。電子工業(yè)超純水設(shè)備檢修

碩科專注于超純水設(shè)備的研發(fā),、生產(chǎn)與服務(wù),。鋰電池超純水設(shè)備生產(chǎn)

     超純水設(shè)備工藝流程如下：原水經(jīng)過雙級反滲透設(shè)備后,，經(jīng)過TOC脫除器降解有機(jī)物，隨后進(jìn)入EDI模塊,，出水水質(zhì)可達(dá)15MΩ·CM以上,，然后再經(jīng)過二級TOC脫除器后進(jìn)行深度降級TOC，使產(chǎn)水TOC下降至3ppb以下,，之后進(jìn)入脫氣膜脫除溶解氧,，然后進(jìn)入核子級混床，使出水水質(zhì)達(dá)到18.2MΩ·CM,。碩科環(huán)保超純水設(shè)備不僅具備簡單,、性能優(yōu)良、耐久性好,、適用性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),，其設(shè)備內(nèi)部還配備高質(zhì)量的膜元件，所得到的超純水純度高,，無病毒、細(xì)菌,、不含懸浮物質(zhì),，不含化學(xué)物質(zhì)污染，出水水質(zhì)可以達(dá)到18兆歐以上,，完全符合電子廠的用水標(biāo)準(zhǔn),。鋰電池超純水設(shè)備生產(chǎn)