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吉林UV納米光刻膠

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-05-07

厚板光刻膠

  • 電路板制造:在制作對(duì)線路精度和抗蝕刻性能要求高的電路板時(shí),,厚板光刻膠可確保線路的精細(xì)度和穩(wěn)定性,比如汽車(chē)電子,、工業(yè)控制等領(lǐng)域的電路板,,能承受復(fù)雜環(huán)境和大電流,、高電壓等工況。
  • 功率器件制造:像絕緣柵雙極晶體管(IGBT)這類(lèi)功率器件,,需要承受高電壓和大電流,,厚板光刻膠可用于其芯片制造過(guò)程中的光刻環(huán)節(jié),保障芯片內(nèi)部電路的精細(xì)布局,,提高器件的性能和可靠性,。


負(fù)性光刻膠

  • 半導(dǎo)體制造:在芯片制造過(guò)程中,用于制作一些對(duì)精度要求高,、圖形面積較大的結(jié)構(gòu),,如芯片的金屬互連層、接觸孔等,。通過(guò)負(fù)性光刻膠的曝光和顯影工藝,,能實(shí)現(xiàn)精確的圖形轉(zhuǎn)移,確保芯片各部分之間的電氣連接正常,。
  • 平板顯示制造:在液晶顯示器(LCD)和有機(jī)發(fā)光二極管顯示器(OLED)的制造中,,用于制作電極、像素等大面積圖案,。以 LCD 為例,,負(fù)性光刻膠可幫助形成液晶層與玻璃基板之間的電極圖案,控制液晶分子的排列,,從而實(shí)現(xiàn)圖像顯示,。


光刻膠國(guó)產(chǎn)替代的主要難點(diǎn)有哪些?吉林UV納米光刻膠

吉林UV納米光刻膠,光刻膠

技術(shù)挑戰(zhàn)與發(fā)展趨勢(shì)

 更高分辨率需求:

? EUV光刻膠需解決“線邊緣粗糙度(LER)”問(wèn)題(目標(biāo)<5nm),,通過(guò)納米顆粒分散技術(shù)或新型聚合物設(shè)計(jì)改善,。

 缺陷控制:

? 半導(dǎo)體級(jí)正性膠要求金屬離子含量<1ppb,,顆粒(>50nm)<1個(gè)/mL,需優(yōu)化提純工藝(如多級(jí)過(guò)濾+真空蒸餾),。

 國(guó)產(chǎn)化突破:

? 國(guó)內(nèi)企業(yè)(如上海新陽(yáng),、南大光電、容大感光)已在KrF/ArF膠實(shí)現(xiàn)批量供貨,,但EUV膠仍被日本JSR,、美國(guó)陶氏、德國(guó)默克壟斷,,需突破樹(shù)脂合成,、PAG純度等瓶頸。

 環(huán)保與節(jié)能:

? 開(kāi)發(fā)水基顯影正性膠(減少有機(jī)溶劑使用),,或低烘烤溫度膠(降低半導(dǎo)體制造能耗)。

典型產(chǎn)品示例

? 傳統(tǒng)正性膠:Shipley S1813(G/I線,,用于PCB),、Tokyo Ohka TSM-305(LCD黑矩陣)。

? DUV正性膠:信越化學(xué)的ArF膠(用于14nm FinFET制程),、中芯國(guó)際認(rèn)證的國(guó)產(chǎn)KrF膠(28nm節(jié)點(diǎn)),。

? EUV正性膠:JSR的NeXAR系列(7nm以下,全球市占率超70%),。

正性光刻膠是推動(dòng)半導(dǎo)體微縮的主要材料,,其技術(shù)進(jìn)步直接關(guān)聯(lián)芯片制程的突破,未來(lái)將持續(xù)向更高精度,、更低缺陷,、更綠色工藝演進(jìn)。
福州LCD光刻膠工廠吉田半導(dǎo)體助力區(qū)域經(jīng)濟(jì)發(fā)展,,推動(dòng)產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新,。

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應(yīng)用場(chǎng)景

 半導(dǎo)體集成電路(IC)制造:

? 邏輯芯片(CPU/GPU):在28nm以下制程中,正性DUV/EUV膠用于晶體管,、互連布線的精細(xì)圖案化(如10nm節(jié)點(diǎn)線寬只有100nm),。

? 存儲(chǔ)芯片(DRAM/NAND):3D堆疊結(jié)構(gòu)中,正性膠用于層間接觸孔(Contact)和柵極(Gate)的高深寬比圖形(深寬比>10:1),。

 平板顯示(LCD/OLED):

? 彩色濾光片(CF):制作黑矩陣(BM)和彩色層(R/G/B),,要求高透光率和邊緣銳利度(線寬5-10μm)。

? OLED電極:在柔性基板上形成微米級(jí)透明電極,,需低應(yīng)力膠膜防止基板彎曲變形,。

 印刷電路板(PCB):

? 高密度互連(HDI):用于細(xì)線路(線寬/線距≤50μm),如智能手機(jī)主板,,相比負(fù)性膠,,正性膠可實(shí)現(xiàn)更精細(xì)的線路邊緣,。

 微納加工與科研:

? MEMS傳感器:制作微米級(jí)懸臂梁、齒輪等結(jié)構(gòu),,需耐干法蝕刻的正性膠(如含硅樹(shù)脂膠),。

? 納米光刻:電子束光刻膠(正性為主)用于研發(fā)級(jí)納米圖案(分辨率<10nm)。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司以全球化視野布局市場(chǎng),,通過(guò)嚴(yán)格的質(zhì)量管控與完善的服務(wù)體系贏得客戶信賴,。公司產(chǎn)品不僅通過(guò) ISO9001 認(rèn)證,更以進(jìn)口原材料和精細(xì)化生產(chǎn)流程保障品質(zhì),,例如錫膏產(chǎn)品采用無(wú)鹵無(wú)鉛配方,,符合環(huán)保要求,適用于電子產(chǎn)品制造,。其銷(xiāo)售網(wǎng)絡(luò)覆蓋全球,,與富士康、聯(lián)想等企業(yè)保持長(zhǎng)期合作,,并在全國(guó)重點(diǎn)區(qū)域設(shè)立辦事處,,提供本地化技術(shù)支持與售后服務(wù)。

作為廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè),,吉田半導(dǎo)體始終將技術(shù)研發(fā)視為核心競(jìng)爭(zhēng)力,。公司投入大量資源開(kāi)發(fā)新型光刻膠及焊接材料,例如 BGA 助焊膏和針筒錫膏,,滿足精密電子組裝的需求,。同時(shí),依托東莞 “世界工廠” 的產(chǎn)業(yè)集群優(yōu)勢(shì),,公司強(qiáng)化供應(yīng)鏈協(xié)同,,縮短交付周期,為客戶提供高效解決方案,。未來(lái),,吉田半導(dǎo)體將持續(xù)深化技術(shù)創(chuàng)新與全球合作,助力中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁向更高臺(tái)階,。
無(wú)鹵無(wú)鉛錫膏廠家吉田,,RoHS 認(rèn)證,為新能源領(lǐng)域提供服務(wù),!

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LCD顯示

? 彩色濾光片(CF):

? 黑色矩陣(BM)光刻膠:隔離像素,,線寬精度±2μm,透光率<0.1%,。

? RGB色阻光刻膠:形成紅/綠/藍(lán)像素,,需高色純度(NTSC≥95%)和耐光性。

? 陣列基板(Array):

? 柵極絕緣層光刻膠:用于TFT-LCD的柵極圖案化,,分辨率≤3μm,。

 OLED顯示(柔性/剛性)

? 像素定義層(PDL)光刻膠:在基板上形成有機(jī)發(fā)光材料的 confinement 結(jié)構(gòu),,線寬精度±1μm,需耐溶劑侵蝕(適應(yīng)蒸鍍工藝),。

? 觸控電極(如ITO/PET):通過(guò)光刻膠圖形化實(shí)現(xiàn)透明導(dǎo)電線路,,線寬≤5μm。

 Mini/Micro LED

? 巨量轉(zhuǎn)移前的芯片制備:使用高分辨率光刻膠(分辨率≤5μm)定義微米級(jí)LED陣列,良率要求>99.99%。
光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體,,23 年研發(fā)經(jīng)驗(yàn),全自動(dòng)化生產(chǎn)保障品質(zhì),!黑龍江UV納米光刻膠

半導(dǎo)體光刻膠:技術(shù)領(lǐng)域取得里程碑。吉林UV納米光刻膠

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,主要涵蓋厚板、負(fù)性,、正性、納米壓印及光刻膠等類(lèi)別,,以滿足不同領(lǐng)域的需求,。

厚板光刻膠:JT-3001 型號(hào),具有優(yōu)異的分辨率和感光度,,抗深蝕刻性能良好,,符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),,保質(zhì)期 1 年,。適用于對(duì)精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝,如特定電路板制造,。

負(fù)性光刻膠

  • SU-3 負(fù)性光刻膠:分辨率優(yōu)異,,對(duì)比度良好,曝光靈敏度高,,光源適應(yīng),,重量 100g。常用于對(duì)曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工,、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域,。
  • 負(fù)性光刻膠 JT-1000:有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,具有優(yōu)異的分辨率,、良好的對(duì)比度和高曝光靈敏度,,光源適應(yīng)。主要應(yīng)用于對(duì)光刻精度要求高的領(lǐng)域,,如半導(dǎo)體器件制造,。
  • 耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT-NF100:重量 1L,具備耐腐蝕特性,。適用于有腐蝕風(fēng)險(xiǎn)的光刻工藝,,如特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造,。


吉林UV納米光刻膠

標(biāo)簽: 錫片 光刻膠