湖北UV納米光刻膠供應(yīng)商

來(lái)源：發(fā)布時(shí)間：2025-05-08

吉田半導(dǎo)體 JT-3001 厚板光刻膠：歐盟 RoHS 認(rèn)證,，PCB 電路板制造

憑借抗深蝕刻性能與環(huán)保特性，吉田 JT-3001 厚板光刻膠成為 PCB 行業(yè)材料,。
吉田半導(dǎo)體推出的 JT-3001 厚板光刻膠,，分辨率達(dá) 1.5μm，抗深蝕刻速率 > 500nm/min,，適用于高密度電路板制造,。產(chǎn)品通過(guò)歐盟 RoHS 認(rèn)證，采用無(wú)鹵無(wú)鉛配方,，符合環(huán)保要求,。其優(yōu)異的感光度與留膜率，確保復(fù)雜線路圖形的成型,，已應(yīng)用于華為 5G 基站主板量產(chǎn),。公司提供從材料選型到工藝優(yōu)化的全流程支持，助力客戶提升生產(chǎn)效率與良率。

無(wú)鹵無(wú)鉛錫育廠家吉田,，RoHS 認(rèn)證,，為新能源領(lǐng)域提供服務(wù)!湖北UV納米光刻膠供應(yīng)商

原料準(zhǔn)備

? 主要成分：樹脂（成膜劑，如酚醛樹脂,、聚酰亞胺等）、感光劑（光引發(fā)劑或光敏化合物,，如重氮萘醌,、光刻膠單體）、溶劑（溶解成分,，如丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA））,、添加劑（調(diào)節(jié)粘度、感光度,、穩(wěn)定性等,，如表面活性劑、穩(wěn)定劑）,。

? 原料提純：對(duì)樹脂,、感光劑等進(jìn)行高純度精制（純度通常要求99.9%以上），避免雜質(zhì)影響光刻精度,。

配料與混合

? 按配方比例精確稱量各組分,，在潔凈環(huán)境，如萬(wàn)中通過(guò)攪拌機(jī)均勻混合,，形成膠狀溶液,。

? 控制溫度（通常20-30℃）和攪拌速度，避免氣泡產(chǎn)生或成分分解,。

過(guò)濾與純化

? 使用納米級(jí)濾膜（孔徑0.05-0.2μm）過(guò)濾,，去除顆粒雜質(zhì)（如金屬離子、灰塵）,，確保膠液潔凈度,，避免光刻時(shí)產(chǎn)生缺陷。

性能檢測(cè)

? 物理指標(biāo)：粘度,、固含量,、表面張力、分子量分布等,，影響涂布均勻性,。

? 化學(xué)指標(biāo)：感光度、分辨率,、對(duì)比度,、耐蝕刻性，通過(guò)曝光實(shí)驗(yàn)和顯影測(cè)試驗(yàn)證。

? 可靠性：存儲(chǔ)穩(wěn)定性（常溫/低溫保存下的性能變化）,、耐溫性（烘烤過(guò)程中的抗降解能力）,。

包裝與儲(chǔ)存

? 在惰性氣體（如氮?dú)猓┉h(huán)境下分裝至避光容器（如棕色玻璃瓶或鋁罐），防止感光劑氧化或光分解,。

? 儲(chǔ)存條件：低溫（5-10℃）,、避光、干燥,，部分產(chǎn)品需零下環(huán)境（如EUV光刻膠）,。

湖北正性光刻膠生產(chǎn)廠家正性光刻膠生產(chǎn)原料。

定義與特性

負(fù)性光刻膠是一種在曝光后,，未曝光區(qū)域會(huì)溶解于顯影液的光敏材料,，形成與掩膜版（Mask）圖案相反的圖形。與正性光刻膠相比,，其主要特點(diǎn)是耐蝕刻性強(qiáng),、工藝簡(jiǎn)單、成本低,，但分辨率較低（通?！?μm），主要應(yīng)用于對(duì)精度要求相對(duì)較低,、需要厚膠或高耐腐蝕性的場(chǎng)景,。

化學(xué)組成與工作原理

主要成分

基體樹脂：

? 早期以聚異戊二烯橡膠（天然或合成）為主，目前常用環(huán)化橡膠（Cyclized Rubber）或聚乙烯醇肉桂酸酯,，提供膠膜的機(jī)械強(qiáng)度和耐蝕刻性,。

光敏劑：

? 主要為雙疊氮化合物（如雙疊氮芪）或重氮醌類衍生物，占比約5%-10%,，吸收紫外光后引發(fā)交聯(lián)反應(yīng),。

交聯(lián)劑：

? 如六亞甲基四胺（烏洛托品），在曝光后與樹脂發(fā)生交聯(lián),，形成不溶性網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),。

溶劑：

? 多為有機(jī)溶劑（如二甲苯、環(huán)己酮）,，溶解樹脂和光敏劑,，涂布后揮發(fā)形成均勻膠膜。

工作原理

曝光前：光敏劑和交聯(lián)劑均勻分散在樹脂中,，膠膜可溶于顯影液（有機(jī)溶劑）,。

曝光時(shí)：

? 光敏劑吸收紫外光（G線436nm為主）后產(chǎn)生活性自由基，引發(fā)交聯(lián)劑與樹脂分子間的共價(jià)鍵交聯(lián),，使曝光區(qū)域形成不溶于顯影液的三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),。

顯影后：

? 未曝光區(qū)域的樹脂因未交聯(lián),，被顯影液溶解去除，曝光區(qū)域保留,，形成負(fù)性圖案（與掩膜版相反）,。

正性光刻膠

半導(dǎo)體分立器件制造：對(duì)于二極管、三極管等半導(dǎo)體分立器件,，正性光刻膠可實(shí)現(xiàn)精細(xì)的圖形化加工,，滿足不同功能需求。比如在制作高精度的小尺寸分立器件時(shí),，正性光刻膠憑借其高分辨率和良好對(duì)比度,，能精確刻畫器件的結(jié)構(gòu)，提高器件性能,。
微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）制造：MEMS 器件如加速度計(jì),、陀螺儀等,，結(jié)構(gòu)復(fù)雜且尺寸微小,。正性光刻膠用于 MEMS 制造過(guò)程中的光刻步驟，可在硅片等材料上制作出高精度的微結(jié)構(gòu),，確保 MEMS 器件的功能實(shí)現(xiàn),。

正性光刻膠的工藝和應(yīng)用場(chǎng)景。

企業(yè)定位與資質(zhì)

? 成立背景：深耕半導(dǎo)體材料行業(yè)23年,，位于松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū),，注冊(cè)資本2000萬(wàn)元，是國(guó)家高新技術(shù)企業(yè),、廣東省專精特新企業(yè)及廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè),。

? 質(zhì)量體系：通過(guò)ISO9001:2008認(rèn)證，嚴(yán)格執(zhí)行8S現(xiàn)場(chǎng)管理,，原材料源自美國(guó),、德國(guó)、日本等國(guó),，確保產(chǎn)品穩(wěn)定性,。

? 市場(chǎng)布局：產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球，與世界500強(qiáng)企業(yè)及多家電子加工企業(yè)建立長(zhǎng)期合作關(guān)系,，覆蓋集成電路,、顯示面板、先進(jìn)封裝等領(lǐng)域,。

吉田技術(shù)研發(fā)與生產(chǎn)能力,。湖北正性光刻膠生產(chǎn)廠家

企業(yè)優(yōu)勢(shì)

? 研發(fā)能力：擁有多項(xiàng)專利證書，自主研發(fā)芯片光刻膠,、納米壓印光刻膠等產(chǎn)品,，配備全自動(dòng)化生產(chǎn)設(shè)備,，具備從材料合成到成品制造的全流程能力。

? 產(chǎn)能與品控：采用進(jìn)口原材料和嚴(yán)格制程管控,，確保金屬雜質(zhì)含量低于行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)（如半導(dǎo)體光刻膠金屬雜質(zhì)<5ppb）,，良率達(dá)99%以上。

吉田技術(shù)自主化與技術(shù)領(lǐng)域突破,！湖北UV納米光刻膠供應(yīng)商

? 正性光刻膠

? YK-300：適用于半導(dǎo)體制造,，具備高分辨率（線寬≤10μm）、耐高溫（250℃）,、耐酸堿腐蝕特性,，主要用于28nm及以上制程的晶圓制造，適配UV光源（365nm/405nm）,。

? 技術(shù)優(yōu)勢(shì)：采用進(jìn)口樹脂及光引發(fā)劑,，絕緣阻抗高（>10^14Ω），滿足半導(dǎo)體器件對(duì)絕緣性的嚴(yán)苛要求,。

? 負(fù)性光刻膠

? JT-1000：負(fù)性膠,，主打優(yōu)異抗深蝕刻性能，分辨率達(dá)3μm,，適用于功率半導(dǎo)體,、MEMS器件制造，可承受氫氟酸（HF）,、磷酸（H3PO4）等強(qiáng)腐蝕液處理,。

? SU-3：經(jīng)濟(jì)型負(fù)性膠，性價(jià)比高,，適用于分立器件及低端邏輯芯片,，光源適應(yīng)性廣（248nm-436nm），曝光靈敏度≤200mJ/cm2,。

2. 顯示面板光刻膠

? LCD正性光刻膠YK-200：專為TFT-LCD制程設(shè)計(jì),，具備高涂布均勻性（膜厚誤差±1%）、良好的基板附著力,，用于彩色濾光片（CF）和陣列基板（Array）制造,，支持8.5代線以上大規(guī)模生產(chǎn)。

? 水性感光膠JT-1200：環(huán)保型產(chǎn)品,，VOC含量<50g/L,，符合歐盟RoHS標(biāo)準(zhǔn)，適用于柔性顯示基板,，可制作20μm以下精細(xì)網(wǎng)點(diǎn),，主要供應(yīng)京東方、TCL等面板廠商,。

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標(biāo)簽：錫片光刻膠

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吉田半導(dǎo)體 JT-3001 厚板光刻膠：歐盟 RoHS 認(rèn)證,，PCB 電路板制造

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