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青海高溫光刻膠廠家

來源: 發(fā)布時間:2025-05-25

廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,各有特性與優(yōu)勢,,適用于不同領域,。

厚板光刻膠 JT - 3006:具有優(yōu)異的分辨率和感光度,抗深蝕刻性能良好,,符合歐盟 ROHS 標準,,保質期 1 年。需保存在干燥區(qū)域并密封,,使用前要閱讀參考技術資料,。適用于厚板的光刻加工,在對精度,、感光度和抗蝕刻要求高的生產(chǎn)場景中發(fā)揮作用,,如特定的電路板制造領域。

水油光刻膠 SR - 3303:適用于光學儀器,、太陽能電池等領域的光刻工藝,。品質保障、性能穩(wěn)定的特點,,由工廠研發(fā)且支持定制,,工廠直銷。 光刻膠的關鍵應用領域,。青海高溫光刻膠廠家

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LCD顯示

? 彩色濾光片(CF):

? 黑色矩陣(BM)光刻膠:隔離像素,,線寬精度±2μm,透光率<0.1%,。

? RGB色阻光刻膠:形成紅/綠/藍像素,,需高色純度(NTSC≥95%)和耐光性。

? 陣列基板(Array):

? 柵極絕緣層光刻膠:用于TFT-LCD的柵極圖案化,,分辨率≤3μm,。

 OLED顯示(柔性/剛性)

? 像素定義層(PDL)光刻膠:在基板上形成有機發(fā)光材料的 confinement 結構,線寬精度±1μm,,需耐溶劑侵蝕(適應蒸鍍工藝),。

? 觸控電極(如ITO/PET):通過光刻膠圖形化實現(xiàn)透明導電線路,線寬≤5μm,。

 Mini/Micro LED

? 巨量轉移前的芯片制備:使用高分辨率光刻膠(分辨率≤5μm)定義微米級LED陣列,,良率要求>99.99%。
陜西網(wǎng)版光刻膠國產(chǎn)廠家正性光刻膠生產(chǎn)原料。

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光刻膠系列

厚板光刻膠 JT - 3001,,具備優(yōu)異分辨率,、感光度和抗深蝕刻性能,符合歐盟 ROHS 標準,,保質期 1 年,;

水油光刻膠 SR - 3308,容量 5L,;SU - 3 負性光刻膠,,分辨率優(yōu)異,對比度良好,,曝光靈敏度高,,光源適應,重量 100g,;

液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000,,有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格,分辨率高,,準確性和穩(wěn)定性好,;

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠,耐強酸強堿,,耐高溫達 250°C,長期可靠性高,,粘接強度高,,重量 100g;

LCD 正性光刻膠 YK - 200,,具有較大曝光,、高分辨率、良好涂布和附著力,,重量 100g,;

半導體正性光刻膠 YK - 300,具備耐熱耐酸,、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,重量 100g,;

耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100,,重量 1L。

公司遵循國際質量管理標準,,通過 ISO9001:2008 認證,,并在生產(chǎn)過程中執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理,從原料入庫到成品出庫實現(xiàn)全流程監(jiān)控。以錫膏產(chǎn)品為例,,其無鹵無鉛配方符合環(huán)保要求,,同時具備低飛濺、高潤濕性等特點,,適用于電子產(chǎn)品組裝,。此外,公司建立了行業(yè)標準化實驗室,,配備先進檢測設備,,確保產(chǎn)品性能達到國際同類水平。

憑借多年研發(fā)積累,,公司形成了覆蓋光刻膠,、焊接材料、電子膠等領域的豐富產(chǎn)品線,。在焊接材料方面,,不僅提供常規(guī)錫膏、助焊膏,,還針對特殊場景開發(fā)了 BGA 助焊膏,、針筒錫膏等定制化產(chǎn)品,滿足精密電子組裝的多樣化需求,。同時,,感光膠系列產(chǎn)品分為水性與油性兩類,兼具耐潮性與易操作性,,廣泛應用于印刷電路板制造,。
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光刻膠的工作原理:

1. 涂覆與曝光:在基底(如硅片,、玻璃,、聚合物)表面均勻涂覆光刻膠,通過掩膜(或直接電子束掃描)對特定區(qū)域曝光,。

2. 化學變化:曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生光化學反應(正性膠曝光后溶解,,負性膠曝光后交聯(lián)不溶)。

3. 顯影與刻蝕:溶解未反應的部分,,留下圖案化的膠層,,作為后續(xù)刻蝕或沉積的掩模,將圖案轉移到基底上,。

在納米技術中,,關鍵挑戰(zhàn)是突破光的衍射極限(λ/2),因此需依賴高能束曝光技術(如電子束光刻,、極紫外EUV光刻)和高性能光刻膠(高分辨率,、低缺陷)。

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聚焦封裝需求,,吉田公司提供從光刻膠到配套材料的一站式服務。青海高溫光刻膠廠家

廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,,各有特性與優(yōu)勢,,適用于不同領域。

LCD 正性光刻膠 YK - 200:具有較大曝光,、高分辨率,、良好涂布和附著力的特點,重量 100g,。適用于液晶顯示領域的光刻工藝,,能確保 LCD 生產(chǎn)過程中圖形的精確轉移和良好的涂布效果。

半導體正性光刻膠 YK - 300:具備耐熱耐酸,、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,重量 100g,。主要用于半導體制造工藝,,滿足半導體器件對光刻膠在化學穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求。

耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100:重量 1L,,具有耐腐蝕的特性,,適用于在有腐蝕風險的光刻工藝中,比如一些特殊環(huán)境下的半導體加工或電路板制造,。 青海高溫光刻膠廠家

標簽: 錫片 錫膏 光刻膠