外觀和描述：氧化鉿是鉿的主要氧化物,，通常狀況下為白色無臭無味晶體,。英文名稱:hafniumdioxide中文名:二氧化鉿CASNo.:12055-23-1化學式:HfO2分子量:210.6密度:9.68克/立方厘米熔點:約2850℃沸點:約沸點5400℃2,、性質(zhì)：氧化鉿是一種,、無味的白色固體,，不溶于水、鹽酸和硝酸,，可溶于濃硫酸和氟氫酸,；化學性質(zhì)不活潑，具有薄膜特性：透光范圍～220～12000nm,；折射率（250nm）～2.15（500nm）～2,，且高熔點，所以用途***,。3,、用途：1）金屬鉿及其化合物的原料；2）耐火材料,、抗放射性涂料和特殊的催化劑,；3）度玻璃涂層。氧化鉿的物理性質(zhì)有哪些,？甘肅分析純氧化鉿

氧化鉿為白色立方晶體,，比重9.68。熔點2,，758±25℃,。沸點約5，400℃,。單斜晶系的二氧化鉿在1,，475～1，600℃足量氧氣氛中轉(zhuǎn)化為四方晶系,。不溶于水和一般無機酸,，但在氫氟酸中緩慢溶解?；瘜W反應(yīng)與熱的濃硫酸或酸式硫酸鹽作用形成硫酸鉿Chemicalbook[Hf(SO4)2],，與碳混合后加熱通氯生成四氯化鉿(HfCl4)，與氟硅酸鉀作用生成氟鉿酸鉀(K2HfF6),，與碳在1,，500℃以上作用形成碳化鉿HfC。制備氧化鉿可由鉿的碳化物,、四氯化物,、硫化物、硼化物,、氮化物或水合氧化物直接高溫灼燒制取,。重慶西隴氧化鉿氧化鉿是怎么制備而來的,？

中文名氧化鉿(IV)英文名Hafnium(IV)oxide中文別名氧化鉿(III)|二氧化鉿|氧化鉿物理性質(zhì)氧化鉿（HfO2）是白色晶體粉末。純氧化鉿以三種形式存在,，一種是無定型狀態(tài),，另外兩種為晶體。在＜400℃煅燒氫氧化鉿,、氧氯化鉿等不穩(wěn)定的化合物時,，可以得到無定型氧化鉿。將其氧化鉿繼續(xù)加熱至450~480℃,，開始轉(zhuǎn)化為單斜晶體,，繼續(xù)加熱至1000~1650℃發(fā)生晶格常數(shù)逐步增加的趨勢，并轉(zhuǎn)化為4個氧化鉿分子的單體,。當1700~1865℃Chemicalbook時開始轉(zhuǎn)化為四方晶系,。向氧化鉿中添加少量氧化鎂、氧化鈣,、氧化錳等氧化鉿，在1500℃以上可以形成面心立方晶格的固溶體,。如向氧化鉿中加8%~20%氧化鈣,，則晶格常數(shù)α相應(yīng)從0.5082nm增加至0.5098nm。若添加的量達到形成CaHfO3時,，則晶體結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)化為菱形晶系,。單斜晶體氧化鉿的密度為9.68g/cm3，熔點3031K,，沸點5673K,。

基本信息中文名稱:氧化鉿分子式:HfO?英文名稱:Hafnium(IV)oxide英文別名:Hafniumoxideoffwhitepowder;Hafniumdioxide;Hafniumoxidesinteredlumps;Hafnium(IV)鎜xide(99.998%-Hf)PURATREM;Hafniumoxide;hafnium(+4)cation;oxygen(-2)anion;dioxohafniumEINECS:235-013-2分子量:210.4888毒理學數(shù)據(jù)主要的刺激性影響在皮膚上面：刺激皮膚和粘膜在眼睛上面：刺激的影響致敏作用：沒有已知的敏化現(xiàn)象。性質(zhì)與穩(wěn)定性常溫常壓下穩(wěn)定避免的物料酸,。氧化鉿薄膜的特性與應(yīng)用,？

氧化鉿更多1.性狀：白色粉末。2.密度（g/mL,25℃）：9.683.相對蒸汽密度（g/mL,空氣=1）：未確定4.熔點（oC）：21825.沸點（oC,常壓）：未確定6.沸點（oC,，1mmHg）：未確定7.折射率：未確定8.閃點（oC）：未確定9.比旋光度（o）：未確定10.自燃點或引燃溫度（oC）：未確定11.蒸氣壓（20oC）：未確定12.飽和蒸氣壓（kPa,60oC）：未確定13.燃燒熱（KJ/mol）：未確定14.臨界溫度（oC）：未確定15.臨界壓力（KPa）：未確定16.油水（辛醇/水）分配系數(shù)的對數(shù)值：未確定17.上限（%,V/V）：未確定18.下限（%,V/V）：未確定19.溶解性：未確定氧化鉿的MSDS,。。,。,。甘肅分析純氧化鉿

氧化鉿基本的理化特性的信息？甘肅分析純氧化鉿

氧化鉿（HfO2）為鋯鉿分離的產(chǎn)物,，目前只有美,、法等國家在生產(chǎn)核級鋯時產(chǎn)生有氧化鉿。中國早期就已經(jīng)具備生產(chǎn)核級Zr,，并生產(chǎn)少量氧化鉿的能力,。但是產(chǎn)品數(shù)量稀少,，價格昂貴。作為鉿的主要化學產(chǎn)品,，通常用作光學鍍膜材料,，很少量開始試用于高效集成電路，氧化鉿在**領(lǐng)域的應(yīng)用尚待開發(fā),。氧化鉿在光學鍍膜領(lǐng)域的應(yīng)用HfO2的熔點比較高,、同時鉿原子的吸收截面較大，捕Chemicalbook獲中子的能力強,，化學性質(zhì)特別穩(wěn)定,，因此在原子能工業(yè)中具有非常大應(yīng)用的價值。自上世紀以來,，光學鍍膜得到了很快的發(fā)展,，HfO2在光學方面的特性已經(jīng)越來越適應(yīng)光學鍍膜技術(shù)的要求，所以HfO2在鍍膜領(lǐng)域的應(yīng)用也越來越***,，特別是它對光有比較寬的透明波段,，在光透過氧化鉿薄膜時，對光的吸收少,，大部分通過折射透過薄膜,，因此HfO2在光學鍍膜領(lǐng)域的應(yīng)用越來越被重視。甘肅分析純氧化鉿