產(chǎn)品特性與用途二氧化鉿(HfO2)是一種具有較高介電常數(shù)的氧化物。作為一種介電材料,，因其較高的介電常數(shù)值(~20),，較大的禁帶寬度(~5.5eV)，以及在硅基底上良好的穩(wěn)定性,，HfO2被認(rèn)為是替代場(chǎng)效應(yīng)晶體管中傳統(tǒng)SiO2介電層的理想材料,。如果互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體器件尺寸低于1μm，以二氧化硅為傳統(tǒng)柵介質(zhì)的技術(shù)會(huì)帶來(lái)芯片的發(fā)熱量增加,、多晶硅損耗等一系列問(wèn)題,，隨著晶體管的尺寸縮小，二氧化硅介質(zhì)要求必須越來(lái)Chemicalbook越薄,，但是漏電流的數(shù)值會(huì)因?yàn)榱孔有?yīng)的影響隨著二氧化硅介質(zhì)厚度的較小而急劇升高,，所以急需一種更可行的物質(zhì)來(lái)取代二氧化硅作為柵介質(zhì)。二氧化鉿是一種具有寬帶隙和高介電常數(shù)的陶瓷材料,，近來(lái)在工業(yè)界特別是微電子領(lǐng)域被引起極度的關(guān)注,，由于它很可能替代目前硅基集成電路的**器件金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)管(MOSFET)的柵極絕緣層二氧化硅(SiO2)，以解決目前MOSFET中傳統(tǒng)SiO2/Si結(jié)構(gòu)的發(fā)展的尺寸極限問(wèn)題,。氧化鉿的分子量是多少,？吉林氧化鉿眼睛防護(hù)

產(chǎn)品特性與用途二氧化鉿(HfO2)是一種具有較高介電常數(shù)的氧化物。作為一種介電材料,，因其較高的介電常數(shù)值(~20),，較大的禁帶寬度(~5.5eV)，以及在硅基底上良好的穩(wěn)定性,，HfO2被認(rèn)為是替代場(chǎng)效應(yīng)晶體管中傳統(tǒng)SiO2介電層的理想材料,。如果互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體器件尺寸低于1μm，以二氧化硅為傳統(tǒng)柵介質(zhì)的技術(shù)會(huì)帶來(lái)芯片的發(fā)熱量增加、多晶硅損耗等一系列問(wèn)題,，隨著晶體管的尺寸縮小,，二氧化硅介質(zhì)要求必須越來(lái)越薄，但是漏電流的數(shù)值會(huì)因?yàn)榱孔有hemicalbook應(yīng)的影響隨著二氧化硅介質(zhì)厚度的較小而急劇升高,，所以急需一種更可行的物質(zhì)來(lái)取代二氧化硅作為柵介質(zhì),。二氧化鉿是一種具有寬帶隙和高介電常數(shù)的陶瓷材料，近來(lái)在工業(yè)界特別是微電子領(lǐng)域被引起極度的關(guān)注,，由于它很可能替代目前硅基集成電路的**器件金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)管(MOSFET)的柵極絕緣層二氧化硅(SiO2),，以解決目前MOSFET中傳統(tǒng)SiO2/Si結(jié)構(gòu)的發(fā)展的尺寸極限問(wèn)題。用途為生產(chǎn)金屬鉿和鉿合金的原料,。用作耐火材料,、抗放射性涂料和催化劑。化學(xué)試劑氧化鉿使用注意事項(xiàng)氧化鉿的化學(xué)性質(zhì)有哪些,？

中文名稱:氧化鉿分子式:HfO?英文名稱:Hafnium(IV)oxide英文別名:Hafniumoxideoffwhitepowder;Hafniumdioxide;Hafniumoxidesinteredlumps;Hafnium(IV)鎜xide(99.998%-Hf)PURATREM;Hafniumoxide;hafnium(+4)cation;oxygen(-2)anion;dioxohafniumEINECS:235-013-2分子量:210.4888應(yīng)用領(lǐng)域氧化鉿（HfO2）為鋯鉿分離的產(chǎn)物,，目前只有美、法等國(guó)家在生產(chǎn)核級(jí)鋯時(shí)產(chǎn)生有氧化鉿,。中國(guó)早期就已經(jīng)具備生產(chǎn)核級(jí)Zr,，并生產(chǎn)少量氧化鉿的能力。但是產(chǎn)品數(shù)量稀少,，價(jià)格昂貴,。作為鉿的主要化學(xué)產(chǎn)品，通常用作光學(xué)鍍膜材料,，很少量開(kāi)始試用于高效集成電路,，氧化鉿在**領(lǐng)域的應(yīng)用尚待開(kāi)發(fā)。氧化鉿在光學(xué)鍍膜領(lǐng)域的應(yīng)用HfO2的熔點(diǎn)比較高,、同時(shí)鉿原子的吸收截面較大Chemicalbook,，捕獲中子的能力強(qiáng)，化學(xué)性質(zhì)特別穩(wěn)定,，因此在原子能工業(yè)中具有非常大應(yīng)用的價(jià)值,。自上世紀(jì)以來(lái)，光學(xué)鍍膜得到了很快的發(fā)展,，HfO2在光學(xué)方面的特性已經(jīng)越來(lái)越適應(yīng)光學(xué)鍍膜技術(shù)的要求,，所以HfO2在鍍膜領(lǐng)域的應(yīng)用也越來(lái)越***，特別是它對(duì)光有比較寬的透明波段,，在光透過(guò)氧化鉿薄膜時(shí),，對(duì)光的吸收少，大部分通過(guò)折射透過(guò)薄膜,，因此HfO2在光學(xué)鍍膜領(lǐng)域的應(yīng)用越來(lái)越被重視。

性質(zhì)白色粉末，有單斜,、四方和立方三種晶體結(jié)構(gòu),。密度分別為10.3，10.1和10.43g/cm3,。熔點(diǎn)2780～2920K,。沸點(diǎn)5400K。熱膨脹系數(shù)5.8×10-6/℃,。不溶于水,、鹽酸和硝酸，可溶于濃硫酸和氟氫酸,。由硫酸鉿,、氯氧化鉿等化合物熱分解或水解制取。為生產(chǎn)金屬鉿和鉿合金的原料,。用作耐火材料,、抗放射性涂料和催化劑。應(yīng)用二氧化鉿(HfO?)是一種具有寬帶隙和高介電常數(shù)的陶瓷材料,，近來(lái)在工業(yè)界特別是微電子領(lǐng)域被引起極度的關(guān)注,，由于它**可能替代硅基集成電路的**器件金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)管(MOSFET)的柵極絕緣層二氧化硅(SiO?)，以解決MOSFET中傳統(tǒng)SiO?/Si結(jié)構(gòu)的發(fā)展的尺寸極限問(wèn)題,。氧化鉿的危險(xiǎn)性描述,？

氧化鉿又稱氧化鉿(IV)，它是一種無(wú)機(jī)化工產(chǎn)品,，其分子式為HfO2,，分子量為210.4888。存儲(chǔ)方法常溫密閉,，陰涼通風(fēng)干燥,。合成方法當(dāng)加熱到高溫時(shí)鉿與氧直接化合生成氧化鉿。也可通過(guò)其硫酸鹽或草酸鹽經(jīng)灼燒而得,。主要用途用于光譜分析及催化劑體系,，耐熔材料。系統(tǒng)編號(hào)CAS號(hào)：12055-23-1MDL號(hào)：MFCD00003565EINECS號(hào)：235-013-2PubChem號(hào)：24873674,，毒理學(xué)數(shù)據(jù)主要的刺激性影響：在皮膚上面：刺激皮膚和粘膜在眼睛上面：刺激的影響致敏作用：沒(méi)有已知的敏化現(xiàn)象氧化鉿的應(yīng)用領(lǐng)域有那些,？西藏氧化鉿銷售公司

氧化鉿的分子式是多少？吉林氧化鉿眼睛防護(hù)

二氧化鉿(HfO2)是鉿元素的一種氧化物,，常溫常壓下為白色固體,。基本信息中文名二氧化鉿英文名Hafnium(IV)oxide別稱氧化鉿(IV)化學(xué)式HfO2分子量210.49CAS登錄號(hào)12055-23-1熔點(diǎn)2758℃沸點(diǎn)5400℃水溶性難溶于水密度9.68g/cm3外觀白色固體應(yīng)用遠(yuǎn)紅外波段材料,，應(yīng)用二氧化鉿(HfO?)是一種具有寬帶隙和高介電常數(shù)的陶瓷材料,，近來(lái)在工業(yè)界特別是微電子領(lǐng)域被引起極度的關(guān)注,，由于它**可能替代目前硅基集成電路的**器件金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)管(MOSFET)的柵極絕緣層二氧化硅(SiO?)，以解決目前MOSFET中傳統(tǒng)SiO?/Si結(jié)構(gòu)的發(fā)展的尺寸極限問(wèn)題,。吉林氧化鉿眼睛防護(hù)