中文名稱:氧化鉿分子式:HfO?英文名稱:Hafnium(IV)oxide英文別名:Hafniumoxideoffwhitepowder;Hafniumdioxide;Hafniumoxidesinteredlumps;Hafnium(IV)鎜xide(99.998%-Hf)PURATREM;Hafniumoxide;hafnium(+4)cation;oxygen(-2)anion;dioxohafniumEINECS:235-013-2分子量:210.4888應(yīng)用領(lǐng)域氧化鉿（HfO2）為鋯鉿分離的產(chǎn)物，目前只有美,、法等國家在生產(chǎn)核級鋯時產(chǎn)生有氧化鉿,。中國早期就已經(jīng)具備生產(chǎn)核級Zr,，并生產(chǎn)少量氧化鉿的能力,。但是產(chǎn)品數(shù)量稀少，價格昂貴,。作為鉿的主要化學(xué)產(chǎn)品,，通常用作光學(xué)鍍膜材料,，很少量開始試用于高效集成電路,，氧化鉿在**領(lǐng)域的應(yīng)用尚待開發(fā)。氧化鉿在光學(xué)鍍膜領(lǐng)域的應(yīng)用HfO2的熔點比較高,、同時鉿原子的吸收截面較大Chemicalbook,，捕獲中子的能力強,，化學(xué)性質(zhì)特別穩(wěn)定,，因此在原子能工業(yè)中具有非常大應(yīng)用的價值。自上世紀以來,，光學(xué)鍍膜得到了很快的發(fā)展,，HfO2在光學(xué)方面的特性已經(jīng)越來越適應(yīng)光學(xué)鍍膜技術(shù)的要求，所以HfO2在鍍膜領(lǐng)域的應(yīng)用也越來越***,，特別是它對光有比較寬的透明波段，在光透過氧化鉿薄膜時,，對光的吸收少,，大部分通過折射透過薄膜,，因此HfO2在光學(xué)鍍膜領(lǐng)域的應(yīng)用越來越被重視,。氧化鉿的產(chǎn)品特性與用途？江西氧化鉿眼睛防護

氧化鉿用途與合成方法物理性質(zhì)氧化鉿（HfO2）是白色晶體粉末,。純氧化鉿以三種形式存在,，一種是無定型狀態(tài),，另外兩種為晶體。在＜400℃煅燒氫氧化鉿,、氧氯化鉿等不穩(wěn)定的化合物時，可以得到無定型氧化鉿。將其氧化鉿繼續(xù)加熱至450~480℃,，開始轉(zhuǎn)化為單斜晶體,，繼續(xù)加熱至1000~1650℃發(fā)生晶格常數(shù)逐步增加的趨勢,，并轉(zhuǎn)化為4個氧化鉿分子的單體。當(dāng)1700~Chemicalbook1865℃時開始轉(zhuǎn)化為四方晶系,。向氧化鉿中添加少量氧化鎂、氧化鈣,、氧化錳等氧化鉿，在1500℃以上可以形成面心立方晶格的固溶體,。如向氧化鉿中加8%~20%氧化鈣，則晶格常數(shù)α相應(yīng)從0.5082nm增加至0.5098nm,。若添加的量達到形成CaHfO3時，則晶體結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)化為菱形晶系,。單斜晶體氧化鉿的密度為9.68g/cm3，熔點3031K,，沸點5673K,。質(zhì)量好氧化鉿近期價格氧化鉿的安全操作的注意事項,？

產(chǎn)品特性與用途二氧化鉿(HfO2)是一種具有較高介電常數(shù)的氧化物,。作為一種介電材料，因其較高的介電常數(shù)值(~20),，較大的禁帶寬度(~5.5eV),，以及在硅基底上良好的穩(wěn)定性,，HfO2被認為是替代場效應(yīng)晶體管中傳統(tǒng)SiO2介電層的理想材料。如果互補金屬氧化物半導(dǎo)體器件尺寸低于1μm,，以二氧化硅為傳統(tǒng)柵介質(zhì)的技術(shù)會帶來芯片的發(fā)熱量增加,、多晶硅損耗等一系列問題，隨著晶體管的尺寸縮小,，二氧化硅介質(zhì)要求必須越來越薄,，但是漏電流的數(shù)值會因為量子效Chemicalbook應(yīng)的影響隨著二氧化硅介質(zhì)厚度的較小而急劇升高,，所以急需一種更可行的物質(zhì)來取代二氧化硅作為柵介質(zhì)。二氧化鉿是一種具有寬帶隙和高介電常數(shù)的陶瓷材料,，近來在工業(yè)界特別是微電子領(lǐng)域被引起極度的關(guān)注,，由于它很可能替代目前硅基集成電路的**器件金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)管(MOSFET)的柵極絕緣層二氧化硅(SiO2)，以解決目前MOSFET中傳統(tǒng)SiO2/Si結(jié)構(gòu)的發(fā)展的尺寸極限問題,。用途為生產(chǎn)金屬鉿和鉿合金的原料,。用作耐火材料,、抗放射性涂料和催化劑,。

用途為生產(chǎn)金屬鉿和鉿合金的原料。用作耐火材料,、抗放射性涂料和催化劑,。生產(chǎn)方法當(dāng)加熱到高溫時鉿與氧直接化合生成氧化鉿。也可通Chemicalbook過其硫酸鹽或草酸鹽經(jīng)灼燒而得,。安全信息安全說明22-24/25WGKGermany3TSCAYes海關(guān)編碼28259085應(yīng)用領(lǐng)域氧化鉿（HfO2）為鋯鉿分離的產(chǎn)物,，目前只有美,、法等國家在生產(chǎn)核級鋯時產(chǎn)生有氧化鉿,。中國早期就已經(jīng)具備生產(chǎn)核級Zr，并生產(chǎn)少量氧化鉿的能力,。但是產(chǎn)品數(shù)量稀少,，價格昂貴。作為鉿的主要化學(xué)產(chǎn)品,，通常用作光學(xué)鍍膜材料,，很少量開始試用于高效集成電路，氧化鉿在**領(lǐng)域的應(yīng)用尚待開發(fā),。氧化鉿在光學(xué)鍍膜領(lǐng)域的應(yīng)用HfO2的熔點比較高,、同時鉿原子的吸收截面較大Chemicalbook，捕獲中子的能力強,，化學(xué)性質(zhì)特別穩(wěn)定，因此在原子能工業(yè)中具有非常大應(yīng)用的價值,。自上世紀以來，光學(xué)鍍膜得到了很快的發(fā)展,，HfO2在光學(xué)方面的特性已經(jīng)越來越適應(yīng)光學(xué)鍍膜技術(shù)的要求,，所以HfO2在鍍膜領(lǐng)域的應(yīng)用也越來越***，特別是它對光有比較寬的透明波段，在光透過氧化鉿薄膜時,，對光的吸收少,，大部分通過折射透過薄膜，因此HfO2在光學(xué)鍍膜領(lǐng)域的應(yīng)用越來越被重視,。氧化鉿的重原子數(shù)量？

用途為生產(chǎn)金屬鉿和鉿合金的原料,。用作耐火材料,、抗放射性涂料和催化劑,。生產(chǎn)方法當(dāng)加熱到高溫時鉿與氧直接化合生成氧化鉿,。也可通過其硫酸鹽或草酸鹽經(jīng)灼燒而得,。性質(zhì)氧化鉿為白色立方晶體,，比重9.68。熔點2,，758±25℃,。沸點約5,，400℃,。單斜晶系的二氧化鉿在1,，475～1，600℃足量氧氣氛中轉(zhuǎn)化為四方晶系,。不溶于水和一般無機酸，但在氫氟酸中緩慢溶解,。化學(xué)反應(yīng)與熱的濃硫酸或酸式硫酸鹽作用形成硫酸鉿[ChemicalbookHf(SO4)2],，與碳混合后加熱通氯生成四氯化鉿(HfCl4),，與氟硅酸鉀作用生成氟鉿酸鉀(K2HfF6)，與碳在1,，500℃以上作用形成碳化鉿HfC,。制備氧化鉿可由鉿的碳化物、四氯化物,、硫化物,、硼化物,、氮化物或水合氧化物直接高溫灼燒制取,。應(yīng)用領(lǐng)域氧化鉿的閃點是多少？氧化鉿眼睛防護

氧化鉿的物理化學(xué)性質(zhì),？江西氧化鉿眼睛防護

常用名氧化鉿英文名hafniumoxideCAS號12055-23-1分子量210.48900密度9.68沸點N/A分子式HfO2熔點2812oCMSDS閃點N/A。

氧化鉿用途用于光譜分析及催化劑體系,，耐熔材料。儲存條件常溫密閉,，陰涼通風(fēng)干燥穩(wěn)定性常溫常壓下穩(wěn)定避免的物料酸計算化學(xué)1,、氫鍵供體數(shù)量：12、氫鍵受體數(shù)量：23,、可旋轉(zhuǎn)化學(xué)鍵數(shù)量：04,、拓撲分子極性表面積（TPSA）：34.15,、重原子數(shù)量：36、表面電荷：07,、復(fù)雜度：18.38,、同位素原子數(shù)量：09,、確定原子立構(gòu)中心數(shù)量：010,、不確定原子立構(gòu)中心數(shù)量：011,、確定化學(xué)鍵立構(gòu)中心數(shù)量：012、不確定化學(xué)鍵立構(gòu)中心數(shù)量：013,、共價鍵單元數(shù)量：1 江西氧化鉿眼睛防護