探索新型制冷劑技術,帶來環(huán)保,、節(jié)能的制冷解決方案
上海泛賦化工科技有限公司專注于霍尼韋爾(Honeywell)極冷致制冷劑(冷媒)產品、第四代HFO速思凈制冷劑,,氣霧,、清洗劑產品的銷售。又代理了巨化制冷劑,,大金制冷劑,,域適都制冷系統(tǒng)--AEL恒壓閥,、制冷控制部件。近年來,,為了更好的服務客戶,,增加了海立轉子壓縮機、賽科為渦旋壓縮機,、CPS制冷維修工縣等,。
上海泛賦化工科技有限公司是全球環(huán)保制冷劑制造商Honeywell(霍尼韋爾)在全球重要的代理經(jīng)銷商之一。關于新型制冷劑(冷媒)HFO研究中外刊指出其中涉及HFO在對流層的分解數(shù)據(jù),。
大多數(shù)HFO和HCFO在對流層中通過中間產物分解,,然后進一步分解。實驗表明,,CF3H (HFC-23) 不是在對流層中HFO和HCFO分解過程中形成的,。在這項后續(xù)研究中了解了平流層中發(fā)生的條件下CF3H的潛在形成,因為平流層中會發(fā)生波長較短,、能量較高的輻射,。
結論是,大部分CF3CHO會在對流層低層發(fā)生光化學降解,。因此,CF3CHO的光化學降解對CF3H的大氣負荷貢獻可以忽略不計,。
結果顯示,,CF3CHO光解形成CF3H大約于30-40公里以上的高度,即平流層,。CF3CHO主要是CFC替代化合物的降解產物,,包括第三代替代化合物,如HFO-1234ze (CF3CH=CHCF),。HFO在大氣中的壽命一般為數(shù)十天,,而空氣從對流層輸送到平流層則需要幾年的時間。因此,,預計只有少量HFO或其降解產物(包括CF3CHO)會到達平流層,。任何在對流層低層內直接排放或光化學產生的CF3CHO都是可忽略不計的CF3H來源。
平流層中的HFC-143a生成CF3H:
這項新研究解釋了CF3CHO的長壽命前體,,如HFC-143a (CF3CH3),,其在大氣中的壽命約為半個世紀,預計將到達平流層,,并通過光化學降解,,將CF3CHO輸送到平流層。對于這種化合物和類似的化合物,,目前的研究結果表明,,CF3H可能是這些化合物在平流層中的二次降解產物,,從而對氣候的輻射強迫產生了二次貢獻。根據(jù)該論文,,平流層中CF3CHO產生CF3H的估計產量約為2.5%,。
通過簡單計算估算HFC-143a每年產生的CF3H:
通過簡單計算可以估計出平流層中HFC-143a產生的CF3H。然而,,考慮不同物理化學過程的更詳細的傳輸模型將提供更準確的估計,。據(jù)計算估計,由于平流層中的降解,,目前HFC-143a的排放每年較多產生約20噸CF3H。使用以下數(shù)據(jù)進行簡單計算:
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根據(jù)James B. Burkholder,、R. A. Cox和A. R. Ravishankara的《臭氧消耗物質,、其替代品和相關物種的大氣降解》,HFC-143a的平流層損失占其全球總損失的14%,。
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平流層中CF3CHO產生CF3H的產量為5%(來自新研究)
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假設從HFC-143a中CF3CHO的收率為100%那么HFC-143a的總大氣壽命為51.8年(SAP 2022:世界氣象組織 (WMO),,臭氧消耗科學評估:2022年,GAW報告第278號)
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SAP中報告的HFC-143a排放量以及來自現(xiàn)場和空氣檔案大氣觀測的HFC-143a (CH3CF3) 和HFC-32 (CH2F2)全球排放量,。