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來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-05-03

真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤裰饕獞?yīng)用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(例如阿摩利亞氣體)破壞,,解決探針卡潮濕及氧化問(wèn)題解決光罩的受潮問(wèn)題---黃光部封裝的金線,,解決液晶的受潮問(wèn)題,解決線路板受潮問(wèn)題,。下面為大家簡(jiǎn)單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤竦倪^(guò)濾系統(tǒng),。1.EBM電子式EC馬達(dá)控制無(wú)塵室FFU。2.鏡面不銹鋼結(jié)構(gòu)體,。3.特殊導(dǎo)流風(fēng)道設(shè)計(jì),,風(fēng)壓平均,可有效提供風(fēng)量,,降低噪音,。4.電路板控制模塊,提供安全保護(hù)裝置,,運(yùn)轉(zhuǎn)異常指示燈及控制干接點(diǎn)輸出,。5.無(wú)段式風(fēng)量調(diào)速器可任意調(diào)整風(fēng)量大小。6.濾網(wǎng)ULPA,,0.12μm,,99.9995%以上的過(guò)濾效果。7.電力規(guī)格:?jiǎn)蜗?20V50Hz0.95A,,輸出功率150W,。合肥真萍科技為您提供存儲(chǔ)柜的詳細(xì)介紹。蕪湖存儲(chǔ)柜參考價(jià)格

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使用高溫鐘罩爐有特定的操作方法,,需按照標(biāo)準(zhǔn)操作規(guī)范進(jìn)行,,下面是真萍科技的鐘罩爐的使用注意事項(xiàng)。在使用高溫鐘罩爐時(shí),,其升溫要緩慢地用逐漸進(jìn)步電壓的方法進(jìn)行,。留意不要超過(guò)安全溫度,避免焚毀電熱絲,。將物料放入爐膛時(shí),,切勿碰及熱電偶,因伸入爐膛內(nèi)的熱電偶熱端在高溫下易于折斷,。將金屬以及其它礦藏放入高溫鐘罩爐爐內(nèi)加熱時(shí),,有必要置于耐高溫的瓷坍渦或瓷皿中,,或墊以耐火泥板或石棉板,避免與爐膛粘連在一起,。不要讓高溫鐘罩爐受潮,以防漏電,。無(wú)錫存儲(chǔ)柜銷售價(jià)格存儲(chǔ)柜的優(yōu)點(diǎn)體現(xiàn)在哪,?

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冷熱沖擊試驗(yàn)箱具有模擬大氣環(huán)境中溫度變化規(guī)律。主要針對(duì)于電工,,電子產(chǎn)品,,以及其元器件及其它材料在高溫,低溫綜合環(huán)境下運(yùn)輸,,使用時(shí)的適應(yīng)性試驗(yàn),。用于產(chǎn)品設(shè)計(jì),改進(jìn),,鑒定及檢驗(yàn)等環(huán)節(jié),。真萍科技作為冷熱沖擊試驗(yàn)箱設(shè)備制造廠商,在冷熱沖擊試驗(yàn)箱設(shè)備制造領(lǐng)域的專業(yè)性是不用多說(shuō)的,。下面讓真萍科技從溫度方面,,帶您了解冷熱沖擊試驗(yàn)箱。一,、溫度均勻度舊標(biāo)準(zhǔn)稱均勻度,,新標(biāo)準(zhǔn)稱梯度。溫度穩(wěn)定后,,在任意時(shí)間間隔內(nèi),,工作空間內(nèi)任意兩點(diǎn)的溫度平均值之差的較大值。這個(gè)指標(biāo)比下面的溫度偏差指標(biāo)更可以考核產(chǎn)品的**技術(shù),,因此好多公司的樣本及方案刻意隱藏此項(xiàng),。一般標(biāo)準(zhǔn)要求指標(biāo)為≤2℃。二,、溫度偏差溫度穩(wěn)定后,,在任意時(shí)間間隔內(nèi),工作空間中心溫度的平均值和工作空間內(nèi)其它點(diǎn)的溫度平均值之差,。雖然新舊標(biāo)準(zhǔn)對(duì)此指標(biāo)的定義和稱呼相同,,但檢測(cè)已有所改變,新標(biāo)準(zhǔn)更實(shí)際,,更苛刻一點(diǎn),,但考核時(shí)間短點(diǎn)。一般標(biāo)準(zhǔn)要求指標(biāo)為±2℃,,純高溫試驗(yàn)箱200℃以上可按實(shí)際使用溫度攝氏度(℃)±2%要求,。

恒溫恒濕箱試驗(yàn)箱是航空,、汽車、家電,、科研等領(lǐng)域必備的檢測(cè)設(shè)備,,用于測(cè)試電子、電工及其它產(chǎn)品及材料進(jìn)行高溫,、低溫,、交變濕熱度或恒定試驗(yàn)的溫度環(huán)境變化參數(shù)及性能。該系列產(chǎn)品適用于航空航天產(chǎn)品,、信息電子儀器儀表,、材料、電工,、電子產(chǎn)品,、各種電子元?dú)饧诟叩蜏鼗驖駸岘h(huán)境下、檢驗(yàn)其各項(xiàng)性能指標(biāo),。下面為大家介紹一下真萍科技的恒溫恒濕試驗(yàn)箱的構(gòu)造特點(diǎn),。在箱體構(gòu)造方面,恒溫恒濕箱是采用數(shù)控機(jī)床加工成型,,造型美觀大方,、新穎,并采用無(wú)反作用把手,,操作簡(jiǎn)便,。工作室采用進(jìn)口鏡面板不銹鋼制作而成,箱體外膽采用A3鋼板噴塑,。箱體外與內(nèi)膽之間填充超細(xì)保溫棉,,隔溫效果很好,有效的降低試驗(yàn)箱內(nèi)的溫度波動(dòng)率,,再配合抗老化硅橡膠密封條的嚴(yán)實(shí)密封,,使箱體無(wú)霧氣泄漏現(xiàn)象產(chǎn)生。由于試驗(yàn)箱內(nèi)的環(huán)境惡劣,,為觀察清晰試驗(yàn)箱內(nèi)的情況,,合肥真萍在觀察窗方面是選用多層鋼化玻璃制作,并且在觀察窗設(shè)置單獨(dú)的照明燈和霧刷,,保持良好的觀察視野,,隨時(shí)監(jiān)控試驗(yàn)情況。當(dāng)然,,為采集試驗(yàn)數(shù)據(jù),,箱體專門配置了直徑50mm的測(cè)試孔,可連接記錄儀,,打印機(jī)和電腦合肥真萍科技存儲(chǔ)柜誠(chéng)信經(jīng)營(yíng),。

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本篇介紹專業(yè)全自動(dòng)HMDS真空烤箱,,首先簡(jiǎn)單介紹一下HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),,涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條,、浮膠等,,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕,。  增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況,。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物,。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用,。存儲(chǔ)柜的發(fā)展趨勢(shì)如何,?無(wú)錫存儲(chǔ)柜銷售價(jià)格

合肥真萍科技的存儲(chǔ)柜怎么樣?實(shí)地考察下真萍就知道了,。蕪湖存儲(chǔ)柜參考價(jià)格

超高真空烘箱廣泛應(yīng)用于航空,、航天、電子,、通訊等科研及生產(chǎn)單位,。確定儀器儀表、電工產(chǎn)品,、材料,、零部件、設(shè)備等在低氣壓,、高溫單項(xiàng)或同時(shí)作用下的環(huán)境適應(yīng)性與可靠性試驗(yàn),。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的降溫速率。1.升溫時(shí)間:①常壓時(shí):90min(常溫~+260℃)②低氣壓0.0001pa時(shí):180min(常溫~+260℃)2.降溫時(shí)間:3℃~10℃/min(260℃~120℃),1℃~5℃/min(120℃~常溫℃)3.降溫方式:水冷降溫4.試驗(yàn)箱承壓方式:采用內(nèi)承壓方式5.壓力范圍:常壓~0.0001Pa蕪湖存儲(chǔ)柜參考價(jià)格