維度光電深刻認識到高功率光束檢測在激光應用中的性和難度,。大多數(shù)光斑分析儀使用的面陣傳感器在**功率下就會飽和,，而常規(guī)激光器功率普遍較高，這使得大功率光束檢測成為激光應用的難點,。為解決這一問題,，維度光電推出 BeamHere 光斑分析儀系列和大功率光束取樣系統(tǒng)。掃描狹縫式光斑分析儀憑借創(chuàng)新的狹縫物理衰減機制,，可直接測量近 10W 高功率激光,，保障了測試過程的安全與高效。為應對更高功率,，又推出單次和雙次取樣配件,，可疊加使用形成多次取樣系統(tǒng)。搭配合適衰減片,，可測功率超 1000W,。單次取樣配件 DL - LBA - 1，取樣率 4% - 5%,，采用 45° 傾斜設計和 C 口安裝,，有鎖緊環(huán)可固定在任意方向測量不同角度入射激光；雙次取樣配件 DL - LBA - 2,，取樣率 0.16% - 0.25%,，內(nèi)部兩片取樣透鏡緊湊安裝，能應對 400W 功率光束,，多面體結(jié)構(gòu)便于工業(yè)或?qū)嶒灜h(huán)境安裝,。組合安裝配件可獲得高衰減程度，實現(xiàn)更高功率激光測量,。同時,，其緊湊結(jié)構(gòu)設計的取樣光程滿足聚焦光斑測量，單次 68mm,，雙次 53mm,，為激光生產(chǎn)提供了強大的檢測支持。國產(chǎn)光斑分析儀廠家有哪些,？維度光電深耕18年,。激光發(fā)散角光斑分析儀軟件

選擇適合特定應用的 BeamHere 光斑分析儀需綜合考量光束特性,、應用場景及功能需求： 1. 光束特性分析 光斑尺寸：亞微米級光斑（如半導體加工）優(yōu)先選擇狹縫式（支持 2.5μm 精度），毫米級光斑（如激光焊接）推薦相機式（覆蓋 10mm 量程）,。 功率等級：高功率激光（如工業(yè)切割）應選狹縫式（直接測量近 10W）,，微瓦級弱光（如科研實驗）可采用相機式（通過 6 片衰減片適配）。 光束形態(tài)：高斯或規(guī)則光斑兩者均可（狹縫式更經(jīng)濟）,，非高斯光束（如貝塞爾光束）需相機式保留細節(jié),。 脈沖特性：單脈沖分析選相機式（觸發(fā)同步），連續(xù)或高頻脈沖適配狹縫式（需匹配掃描頻率）,。 2. 應用場景適配 工業(yè)制造：高功率加工（>1W）選狹縫式,，動態(tài)監(jiān)測與大光斑校準選相機式，組合方案可覆蓋全流程需求,。 醫(yī)療設備：眼科準分子激光需相機式實時監(jiān)測能量分布,，脈沖激光適配觸發(fā)模式，確保手術(shù)精度,。 ：超短脈沖測量、復雜光束分析（如 M2 因子）依賴相機式,，材料加工優(yōu)化可結(jié)合狹縫式高精度掃描,。 光通信：光纖端面檢測選相機式分析光斑形態(tài)，激光器表征適配狹縫式高靈敏度測量,。國內(nèi)光斑分析儀光斑測試光斑分析儀都有哪些類型,？

相機式與狹縫式光斑分析儀對比指南 光斑分析儀的選擇需基于應用場景的光斑尺寸、功率,、脈沖特性及形態(tài)復雜度： 光斑尺寸 ≤55μm → 狹縫式（2.5μm 精度） ≥55μm → 相機式（10mm 量程） 激光功率 ≥1W → 狹縫式（直接測量近 10W） ≤1W → 相機式（6 片衰減片適配） 光斑形態(tài) 高斯 / 規(guī)則 → 兩者均可（狹縫式更經(jīng)濟） 非高斯 / 高階橫模 → 相機式（保留細節(jié)） 脈沖特性 需單脈沖分析 → 相機式（觸發(fā)同步） 連續(xù)或匹配重頻 → 狹縫式（高精度掃描） 推薦組合： 場景：相機式 + 狹縫式組合,，覆蓋全尺寸與復雜形態(tài) 工業(yè)產(chǎn)線：狹縫式（高功率）+ 相機式（動態(tài)監(jiān)測） 醫(yī)療設備：相機式（脈沖激光）+M2 模塊（光束質(zhì)量評估） 維度光電 BeamHere 系列提供模塊化解決方案，支持快速切換檢測模式,，幫助用戶降**設備購置成本與檢測周期,。

全系列產(chǎn)品矩陣與智能分析系統(tǒng) Dimension-Labs BeamHere 系列產(chǎn)品通過全光譜覆蓋與模塊化設計，構(gòu)建起完整的光束質(zhì)量測量生態(tài)系統(tǒng)： 1. 全場景產(chǎn)品體系 光譜覆蓋：190-2700nm 超寬響應范圍,，滿足紫外到遠紅外波段的測試需求 技術(shù)方案： 掃描狹縫式：支持 2.5μm-10mm 光斑檢測,，0.1μm 超高分辨率，可測近 10W 高功率激光,，適合半導體加工,、高功率焊接等場景 相機式：400-1700nm 實時成像，5.5μm 像元精度,，標配 6 片濾光片轉(zhuǎn)輪實現(xiàn) 1μW-1W 寬功率測量,，擅長復雜光斑分析與脈沖激光檢測 結(jié)構(gòu)創(chuàng)新：掃描狹縫式采用 ±90° 轉(zhuǎn)筒調(diào)節(jié)與可調(diào)光闌設計，相機式支持濾光片轉(zhuǎn)輪與相機分離,，拓展科研成像功能 2. M2 因子測試模塊 兼容全系產(chǎn)品,，基于 ISO 11146 標準算法實現(xiàn)光束質(zhì)量參數(shù)測量 可獲?。?光束發(fā)散角（mrad） 束腰位置（mm） M2 因子（無量綱） 瑞利長度（mm） 支持光束傳播方向上的全鏈路分析，為激光系統(tǒng)設計提供數(shù)據(jù)半導體行業(yè)激光光束質(zhì)量檢測方案,。

Dimension-Labs 維度光電相機式與狹縫式光斑分析儀的選擇需基于應用場景的光斑尺寸,、功率等級、脈沖特性及形態(tài)復雜度,。相機式基于面陣傳感器成像,，可測大10mm 光斑（受限于 sensor 尺寸），小光斑為 55μm（10 倍 5.5μm 像元）,，結(jié)合 6 片衰減片（BeamHere 標配）實現(xiàn) 1W 功率測量,，適合大光斑、脈沖激光（觸發(fā)模式同步捕獲單脈沖）及非高斯光束（如貝塞爾光束）檢測,，通過面陣實時反饋保留復雜形態(tài)細節(jié),。狹縫式采用正交狹縫掃描，刀口模式可測小 2.5μm 光斑,，創(chuàng)新狹縫物理衰減機制允許直接測量近 10W 高功率激光,，適合亞微米光斑、高功率及高斯光斑檢測,，但需嚴格匹配掃描頻率與激光重頻以避免脈沖丟失,，且復雜光斑會因狹縫累加導致能量分布失真。維度光電 BeamHere 系列提供雙技術(shù)方案,，用戶可根據(jù)光斑尺寸（亞微米選狹縫,，大光斑選相機）、功率等級（高功率選狹縫,，微瓦級選相機）及光斑類型（復雜形態(tài)選相機,，高斯光斑選狹縫）靈活選擇，實現(xiàn)光斑檢測全場景覆蓋,。用于激光加工測試的光斑質(zhì)量分析儀,。小光斑光斑分析儀性能

如何利用光斑分析儀和 M2 因子測量模塊評估激光光束的質(zhì)量？激光發(fā)散角光斑分析儀軟件

維度光電致力于激光領域的應用,，將展示一系列針對千瓦級高功率,、微米級小光斑以及脈沖激光的光束質(zhì)量測量解決方案。在此次展示中,，我們將拆解光斑分析儀的全系列產(chǎn)品,，深度剖析其技術(shù)，從光學原理到智能算法,，為您層層揭秘,。通過實際操作演示，直觀展現(xiàn)產(chǎn)品在復雜工況下的良好的穩(wěn)定性和超高測量精度。 我們將詳細介紹光斑分析儀的工作原理,，包括其光學系統(tǒng)的設計,、信號處理技術(shù)以及數(shù)據(jù)處理算法等環(huán)節(jié)。同時,，我們還將展示光斑分析儀在不同應用場景中的表現(xiàn),，例如在工業(yè)生產(chǎn)、科研探索以及質(zhì)量檢測等方面的實際應用案例,。通過這些案例,，您可以了解到光斑分析儀如何在各種復雜環(huán)境下保持高穩(wěn)定性和高測量精度。 此外,，針對工業(yè)生產(chǎn)和科研探索的不同需求,，我們還將分享一系列精心打造的一站式完備方案。這些方案不僅包括光斑分析儀,，還涵蓋了其他相關設備和軟件,，旨在為您提供專業(yè)的技術(shù)支持和服務。我們的目標是幫助您突破技術(shù)瓶頸,，在激光領域取得新的突破,，從而推動整個行業(yè)的發(fā)展。激光發(fā)散角光斑分析儀軟件

深圳市維度科技有限公司（DimensionTechnologyCo.,Ltd）2007年于深圳成立,，為國際前列光測量整體解決方案供應商,，自創(chuàng)立以來便不斷深耕，積累了深厚的行業(yè)經(jīng)驗,。旗下維度光電（Dimension-labs）以突破技術(shù)壁壘、打破國外壟斷,、加速國產(chǎn)化替代為己任,，構(gòu)建并培育網(wǎng)狀光電生態(tài)鏈，維度光電產(chǎn)品覆蓋全系列光斑,、光功率,、光譜測量等儀器、高精度成像系統(tǒng),、高穩(wěn)定光機械,、光學元件等多領域，服務全球高校,、科研機構(gòu),、企業(yè)及創(chuàng)客團體，在行業(yè)內(nèi)影響力深遠,，著光電產(chǎn)業(yè)的發(fā)展潮流,，通過一站式光電產(chǎn)品線上/線下服務平臺，一站下單,，現(xiàn)貨秒發(fā),，深度融合互聯(lián)網(wǎng)電子商務與光電行業(yè)，形成創(chuàng)新型數(shù)字化產(chǎn)業(yè)生態(tài)鏈，助力各領域創(chuàng)新發(fā)展,。