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小光斑光斑分析儀性能

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-04-09

維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列提供高性?xún)r(jià)比光束質(zhì)量檢測(cè)解決方案,涵蓋掃描狹縫式、相機(jī)式及 M2 測(cè)試模塊三大產(chǎn)品線: 掃描狹縫式光斑分析儀采用國(guó)內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù),,支持 190-2700nm 寬光譜范圍,可測(cè)量 2.5μm-10mm 光束直徑,,0.1μm 超高分辨率實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)光斑細(xì)節(jié)捕捉。創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制使其無(wú)需外置衰減片即可直接測(cè)量近 10W 高功率激光,,適用于激光加工等高能量場(chǎng)景,。 相機(jī)式光斑分析儀覆蓋 400-1700nm 波段,支持 2D/3D 實(shí)時(shí)成像與動(dòng)態(tài)分析,,可測(cè)量非高斯光束(如平頂,、貝塞爾光束)。獨(dú)特的六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展,,可拆卸結(jié)構(gòu)支持科研成像功能拓展,。 M2 測(cè)試模塊適配全系產(chǎn)品,通過(guò) ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法測(cè)量光束傳播參數(shù)(M2 因子,、發(fā)散角,、束腰位置等),結(jié)合 BeamHere 軟件實(shí)現(xiàn)一鍵生成報(bào)告,、多參數(shù)同步分析。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計(jì)滿(mǎn)足光通信,、醫(yī)療,、工業(yè)等領(lǐng)域的光斑檢測(cè)需求,兼顧實(shí)驗(yàn)室與產(chǎn)線在線監(jiān)測(cè)場(chǎng)景,。半導(dǎo)體行業(yè)激光光束質(zhì)量檢測(cè)方案,。小光斑光斑分析儀性能

光斑分析儀

Dimension-Labs 推出的掃描狹縫式光斑分析儀,通過(guò)國(guó)內(nèi)的雙模式切換技術(shù),,實(shí)現(xiàn) 190-2700nm 寬光譜覆蓋與 2.5μm-10mm 光束直徑測(cè)量,。其 0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級(jí)光斑細(xì)節(jié),創(chuàng)新設(shè)計(jì)解決三大檢測(cè)痛點(diǎn): 小光斑測(cè)量:刀口模式分析 < 20μm 光斑形態(tài),,避免像素丟失 高功率檢測(cè):狹縫物理衰減機(jī)制允許直接測(cè)量近 10W 激光,,無(wú)需衰減片 大光斑分析:狹縫模式支持 10mm 光斑能量分布檢測(cè) 設(shè)備采用正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪結(jié)構(gòu),,通過(guò)旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù),經(jīng)算法處理輸出光束直徑,、橢圓率等參數(shù),。緊湊設(shè)計(jì)適配多場(chǎng)景安裝,通過(guò) CE/FCC 認(rèn)證,,適用于激光加工,、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域,幫助客戶(hù)提升光束質(zhì)量檢測(cè)效率,,降**檢測(cè)成本,。束腰半徑光斑分析儀操作光斑分析儀培訓(xùn)服務(wù)?維度光電提供線上 + 線下技術(shù)培訓(xùn),,包教包會(huì),。

小光斑光斑分析儀性能,光斑分析儀

維度光電深刻認(rèn)識(shí)到高功率光束檢測(cè)在激光應(yīng)用中的性和難度。大多數(shù)光斑分析儀使用的面陣傳感器在**功率下就會(huì)飽和,,而常規(guī)激光器功率普遍較高,,這使得大功率光束檢測(cè)成為激光應(yīng)用的難點(diǎn)。為解決這一問(wèn)題,,維度光電推出 BeamHere 光斑分析儀系列和大功率光束取樣系統(tǒng),。掃描狹縫式光斑分析儀憑借創(chuàng)新的狹縫物理衰減機(jī)制,可直接測(cè)量近 10W 高功率激光,,保障了測(cè)試過(guò)程的安全與高效,。為應(yīng)對(duì)更高功率,又推出單次和雙次取樣配件,,可疊加使用形成多次取樣系統(tǒng),。搭配合適衰減片,可測(cè)功率超 1000W,。單次取樣配件 DL - LBA - 1,,取樣率 4% - 5%,采用 45° 傾斜設(shè)計(jì)和 C 口安裝,,有鎖緊環(huán)可固定在任意方向測(cè)量不同角度入射激光,;雙次取樣配件 DL - LBA - 2,取樣率 0.16% - 0.25%,,內(nèi)部?jī)善油哥R緊湊安裝,,能應(yīng)對(duì) 400W 功率光束,多面體結(jié)構(gòu)便于工業(yè)或?qū)嶒?yàn)環(huán)境安裝,。組合安裝配件可獲得高衰減程度,,實(shí)現(xiàn)更高功率激光測(cè)量。同時(shí),其緊湊結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的取樣光程滿(mǎn)足聚焦光斑測(cè)量,,單次 68mm,,雙次 53mm,為激光生產(chǎn)提供了強(qiáng)大的檢測(cè)支持,。

維度光電聚焦激光領(lǐng)域應(yīng)用,,推出覆蓋千瓦高功率、微米小光斑及脈沖激光的光束質(zhì)量測(cè)量解決方案,。全系產(chǎn)品包含掃描狹縫式與相機(jī)式兩大技術(shù)平臺(tái):狹縫式通過(guò)正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪實(shí)現(xiàn) 0.1μm 超高分辨率,,可直接測(cè)量近 10W 激光,適用于半導(dǎo)體晶圓切割等亞微米級(jí)場(chǎng)景,;相機(jī)式采用面陣傳感器實(shí)時(shí)捕獲光斑形態(tài),,支持皮秒級(jí)觸發(fā)同步,分析脈沖激光能量分布,。技術(shù)突破包括:基于 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)的 M2 因子算法,,實(shí)現(xiàn)光束發(fā)散角、束腰位置等 18 項(xiàng)參數(shù)測(cè)量,;AI 缺陷診斷系統(tǒng)自動(dòng)識(shí)別光斑異常,,率達(dá) 97.2%。在工業(yè)實(shí)戰(zhàn)中,,狹縫式設(shè)備通過(guò)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)光斑橢圓率,,幫助某汽車(chē)零部件廠商將激光切割合格率提升至 99.6%;科研場(chǎng)景下,,相機(jī)式與 M2 模塊組合成功解析飛秒激光傳輸特性,,相關(guān)成果發(fā)表于《Nature Photonics》。針對(duì)不同需求,,維度光電提供 "檢測(cè)設(shè)備 + 自動(dòng)化接口 + 云平臺(tái)" 工業(yè)方案及 "全功能主機(jī) + 定制模塊" 科研方案,,助力客戶(hù)縮短周期 40% 以上。未來(lái)將多模態(tài)融合設(shè)備與手持式分析儀,,推動(dòng)激光測(cè)量技術(shù)智能化升級(jí),。用于準(zhǔn)直器生產(chǎn)的光斑質(zhì)量分析儀。

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維度光電致力于激光領(lǐng)域的應(yīng)用,,將展示一系列針對(duì)千瓦級(jí)高功率,、微米級(jí)小光斑以及脈沖激光的光束質(zhì)量測(cè)量解決方案。在此次展示中,,我們將拆解光斑分析儀的全系列產(chǎn)品,深度剖析其技術(shù),,從光學(xué)原理到智能算法,,為您層層揭秘。通過(guò)實(shí)際操作演示,直觀展現(xiàn)產(chǎn)品在復(fù)雜工況下的良好的穩(wěn)定性和超高測(cè)量精度,。 我們將詳細(xì)介紹光斑分析儀的工作原理,,包括其光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)、信號(hào)處理技術(shù)以及數(shù)據(jù)處理算法等環(huán)節(jié),。同時(shí),,我們還將展示光斑分析儀在不同應(yīng)用場(chǎng)景中的表現(xiàn),例如在工業(yè)生產(chǎn),、科研探索以及質(zhì)量檢測(cè)等方面的實(shí)際應(yīng)用案例,。通過(guò)這些案例,您可以了解到光斑分析儀如何在各種復(fù)雜環(huán)境下保持高穩(wěn)定性和高測(cè)量精度,。 此外,,針對(duì)工業(yè)生產(chǎn)和科研探索的不同需求,我們還將分享一系列精心打造的一站式完備方案,。這些方案不僅包括光斑分析儀,,還涵蓋了其他相關(guān)設(shè)備和軟件,旨在為您提供專(zhuān)業(yè)的技術(shù)支持和服務(wù),。我們的目標(biāo)是幫助您突破技術(shù)瓶頸,,在激光領(lǐng)域取得新的突破,從而推動(dòng)整個(gè)行業(yè)的發(fā)展,。光束發(fā)散角測(cè)量原理是什么,?大功率光斑分析儀測(cè)量

近場(chǎng)光斑測(cè)試方案,推進(jìn)半導(dǎo)體,,硅光行業(yè)優(yōu)化升級(jí),。小光斑光斑分析儀性能

相機(jī)式與狹縫式光斑分析儀對(duì)比指南 光斑分析儀的選擇需基于應(yīng)用場(chǎng)景的光斑尺寸、功率,、脈沖特性及形態(tài)復(fù)雜度: 1. 光斑尺寸 相機(jī)式:受限于 sensor 尺寸(≤10mm),,小光斑為 55μm(10 倍 5.5μm 像元)。 狹縫式:刀口模式可測(cè)小 2.5μm 光斑,,適合亞微米級(jí)檢測(cè),。 2. 功率范圍 相機(jī)式: 6 片衰減片(BeamHere 標(biāo)配),可測(cè) 1W,,需控制功率 < 10μW/cm2,。 狹縫式:狹縫物理衰減機(jī)制支持近 10W 直接測(cè)量,無(wú)需外置衰減片,。 3. 脈沖激光 相機(jī)式:觸發(fā)模式同步捕獲完整單脈沖光斑,,兼容性強(qiáng)。 狹縫式:需匹配掃描頻率與激光重頻,,易丟失脈沖信息,。 4. 光斑形態(tài) 相機(jī)式:面陣傳感器保留非高斯光束(如貝塞爾光束)及高階橫模細(xì)節(jié),。 狹縫式:狹縫累加導(dǎo)致復(fù)雜光斑失真,適合高斯或規(guī)則光斑,。 選擇建議 狹縫式:亞微米光斑,、高功率或高斯光斑檢測(cè)。 相機(jī)式:大光斑,、脈沖激光或復(fù)雜非高斯光束分析,。 維度光電 BeamHere 系列提供兩種技術(shù)方案,適配實(shí)驗(yàn)室與工業(yè)場(chǎng)景的全場(chǎng)景需求,。小光斑光斑分析儀性能