維度光電深刻認識到高功率光束檢測在激光應用中的性和難度,。大多數(shù)光斑分析儀使用的面陣傳感器在**功率下就會飽和,,而常規(guī)激光器功率普遍較高,這使得大功率光束檢測成為激光應用的難點,。為解決這一問題,,維度光電推出 BeamHere 光斑分析儀系列和大功率光束取樣系統(tǒng)。掃描狹縫式光斑分析儀憑借創(chuàng)新的狹縫物理衰減機制,,可直接測量近 10W 高功率激光,,保障了測試過程的安全與高效。為應對更高功率,,又推出單次和雙次取樣配件,,可疊加使用形成多次取樣系統(tǒng)。搭配合適衰減片,,可測功率超 1000W,。單次取樣配件 DL - LBA - 1,取樣率 4% - 5%,,采用 45° 傾斜設計和 C 口安裝,,有鎖緊環(huán)可固定在任意方向測量不同角度入射激光;雙次取樣配件 DL - LBA - 2,,取樣率 0.16% - 0.25%,,內部兩片取樣透鏡緊湊安裝,能應對 400W 功率光束,,多面體結構便于工業(yè)或實驗環(huán)境安裝,。組合安裝配件可獲得高衰減程度,實現(xiàn)更高功率激光測量,。同時,,其緊湊結構設計的取樣光程滿足聚焦光斑測量,單次 68mm,,雙次 53mm,,為激光生產提供了強大的檢測支持。光斑分析儀培訓服務,?維度光電提供線上 + 線下技術培訓,,包教包會。醫(yī)療激光系統(tǒng)校準
維度光電聚焦激光領域應用,,推出覆蓋千瓦高功率,、微米小光斑及脈沖激光的光束質量測量解決方案,。全系產品包含掃描狹縫式與相機式兩大技術平臺:狹縫式通過正交狹縫轉動輪實現(xiàn) 0.1μm 超高分辨率,可直接測量近 10W 激光,,適用于半導體晶圓切割等亞微米級場景,;相機式采用面陣傳感器實時捕獲光斑形態(tài),支持皮秒級觸發(fā)同步,,分析脈沖激光能量分布,。技術突破包括:基于 ISO 11146 標準的 M2 因子算法,實現(xiàn)光束發(fā)散角,、束腰位置等 18 項參數(shù)測量,;AI 缺陷診斷系統(tǒng)自動識別光斑異常,率達 97.2%,。在工業(yè)實戰(zhàn)中,,狹縫式設備通過實時監(jiān)測光斑橢圓率,幫助某汽車零部件廠商將激光切割合格率提升至 99.6%,;科研場景下,,相機式與 M2 模塊組合成功解析飛秒激光傳輸特性,相關成果發(fā)表于《Nature Photonics》,。針對不同需求,,維度光電提供 "檢測設備 + 自動化接口 + 云平臺" 工業(yè)方案及 "全功能主機 + 定制模塊" 科研方案,助力客戶縮短周期 40% 以上,。未來將多模態(tài)融合設備與手持式分析儀,,推動激光測量技術智能化升級。光通信光斑分析儀廠家用于準直器生產的光斑質量分析儀,。
Dimension-Labs 針對高功率激光檢測難題推出 BeamHere 大功率光束取樣系統(tǒng),,突破傳統(tǒng)面陣傳感器在 10μW/cm2 飽和閾值的限制,通過創(chuàng)新狹縫物理衰減機制實現(xiàn) 10W 級激光直接測量,,配合可疊加的單次(DL-LBA-1)與雙次(DL-LBA-2)取樣配件形成多級衰減方案,,衰減達 10??,可測功率超 1000W,。該系統(tǒng)采用 45° 傾斜設計的單次取樣配件支持 4%-5% 取樣率,,雙次配件內置雙片透鏡實現(xiàn) 0.16%-0.25% 取樣率,均配備 C 口通用接口和鎖緊環(huán)結構,,支持任意角度入射光束檢測,。其優(yōu)化設計的 68mm(單次)和 53mm(雙次)取樣光程確保聚焦光斑完整投射至傳感器,解決傳統(tǒng)外搭光路光程不足問題,,緊湊結構減少 70% 空間占用,。系統(tǒng)覆蓋 190-2500nm 寬光譜范圍,通過 CE/FCC 認證,可在 - 40℃至 85℃環(huán)境穩(wěn)定工作,,已成功應用于工業(yè)激光加工(熱影響區(qū)≤30μm),、科研超快激光(皮秒脈沖分析)及醫(yī)療設備校準(能量均勻性誤差<2%),幫助客戶提升 3 倍檢測效率并降** 30% 檢測成本,。
如何使用光斑分析儀 Step 1 準備設備 將 BeamHere 光斑分析儀固定在光具座上,,調整高度使激光束中心與 sensor 靶面重合。用 Type-C 線連接分析儀與電腦,,打開 BeamHere 軟件等待設備識別,。 Step 2 采集數(shù)據 開啟激光器預熱 10 分鐘,點擊軟件 "開始采集" 按鈕,。實時觀察 2D 成像界面,確保光斑無過曝或欠曝,,可通過轉輪調節(jié)衰減片至合適狀態(tài),。 Step 3 分析參數(shù) 在 "高級分析" 模塊勾選所需參數(shù),軟件自動計算光斑尺寸(±0.5μm 精度),、能量均勻性(CV 值)及光束質量因子,。3D 視圖支持手勢縮放,便于觀察高階橫模分布,。 Step 4 驗證結果 切換至 "歷史記錄" 對比多次測量數(shù)據,,使用 "統(tǒng)計分析" 功能生成標準差曲線。若發(fā)現(xiàn)異常,,可調用 "單點測量" 工具檢查特定位置能量值,。 Step 5 導出報告 在 "報告模板" 中選擇 "科研版" 或 "工業(yè)版",自動生成帶水印的 PDF 報告,,包含光斑圖像,、參數(shù)表格、趨勢圖表及 QC 判定結果,。光束發(fā)散角測量原理是什么,?
Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列以國內的刀口 / 狹縫雙模式切換技術為,覆蓋 190-2700nm 全光譜,,可測 2.5μm 至 10mm 光束直徑,。其 0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)設備極限,捕捉亞微米級光斑細節(jié),。 技術優(yōu)勢: 雙模式智能適配:軟件自主切換刀口 / 狹縫模式,,解決 < 20μm 極小光斑與 10mm 大光斑的測量難題 高功率安全檢測:創(chuàng)新狹縫物理衰減機制,無需外置衰減片即可直接測量近 10W 激光 超分辨率成像:基于狹縫掃描原理,,完整還原光斑能量分布,,避免特征丟失 設備內置正交狹縫轉動輪,通過旋轉掃描同步采集 XY 軸數(shù)據,經算法處理輸出 20 + 光束參數(shù),。緊湊模塊化設計適配工業(yè)與實驗室場景,,通過 CE/FCC 認證,在 - 40℃至 85℃環(huán)境穩(wěn)定工作,,應用于激光加工,、醫(yī)療設備及科研領域,助力客戶提升檢測精度與效率,。微弱信號光斑如何檢測,?維度光電動態(tài)范圍增強算法,突破探測器極限,,同步清晰成像,。國產光斑分析儀作用
激光發(fā)散角怎么測,維度光電M2測量系統(tǒng),。醫(yī)療激光系統(tǒng)校準
相機式與狹縫式光斑分析儀對比指南 光斑分析儀的選擇需基于應用場景的光斑尺寸,、功率、脈沖特性及形態(tài)復雜度: 光斑尺寸 ≤55μm → 狹縫式(2.5μm 精度) ≥55μm → 相機式(10mm 量程) 激光功率 ≥1W → 狹縫式(直接測量近 10W) ≤1W → 相機式(6 片衰減片適配) 光斑形態(tài) 高斯 / 規(guī)則 → 兩者均可(狹縫式更經濟) 非高斯 / 高階橫模 → 相機式(保留細節(jié)) 脈沖特性 需單脈沖分析 → 相機式(觸發(fā)同步) 連續(xù)或匹配重頻 → 狹縫式(高精度掃描) 推薦組合: 場景:相機式 + 狹縫式組合,,覆蓋全尺寸與復雜形態(tài) 工業(yè)產線:狹縫式(高功率)+ 相機式(動態(tài)監(jiān)測) 醫(yī)療設備:相機式(脈沖激光)+M2 模塊(光束質量評估) 維度光電 BeamHere 系列提供模塊化解決方案,,支持快速切換檢測模式,幫助用戶降**設備購置成本與檢測周期,。醫(yī)療激光系統(tǒng)校準