維度光電BeamHere 光斑分析儀系列,，提供全場景激光光束質(zhì)量分析解決方案,。產(chǎn)品覆蓋 190-2700nm 光譜，包括掃描狹縫式和相機(jī)式技術(shù)，實現(xiàn)亞微米至毫米級光斑測量。掃描狹縫式支持 2.5μm-10mm 光斑檢測，具備 0.1μm 分辨率,，適用于高功率激光。相機(jī)式提供 400-1700nm 響應(yīng),，實現(xiàn) 2D/3D 成像分析,，測量功率范圍 1μW-1W。M2 因子測試模塊基于 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn),，評估光束質(zhì)量,。軟件提供自動化分析和標(biāo)準(zhǔn)化報告。技術(shù)創(chuàng)新包括正交狹縫轉(zhuǎn)動輪結(jié)構(gòu)和適應(yīng)復(fù)雜光斑的面陣傳感器,。產(chǎn)品適用于光束整形檢驗,、光鑷系統(tǒng)檢測和準(zhǔn)直監(jiān)測。結(jié)構(gòu)設(shè)計優(yōu)化,，通過 CE/FCC 認(rèn)證,，應(yīng)用于多個領(lǐng)域，助力光束質(zhì)量分析和工藝優(yōu)化,。掃描和狹縫光斑分析儀怎么選,？光束質(zhì)量光斑分析儀優(yōu)勢

Dimension-Labs 推出的掃描狹縫式光斑分析儀，通過國內(nèi)的雙模式切換技術(shù),，實現(xiàn) 190-2700nm 寬光譜覆蓋與 2.5μm-10mm 光束直徑測量,。其 0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級光斑細(xì)節(jié)，創(chuàng)新設(shè)計解決三大檢測痛點： 小光斑測量：刀口模式分析 < 20μm 光斑形態(tài),，避免像素丟失 高功率檢測：狹縫物理衰減機(jī)制允許直接測量近 10W 激光,，無需衰減片 大光斑分析：狹縫模式支持 10mm 光斑能量分布檢測 設(shè)備采用正交狹縫轉(zhuǎn)動輪結(jié)構(gòu),，通過旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù),，經(jīng)算法處理輸出光束直徑,、橢圓率等參數(shù)。緊湊設(shè)計適配多場景安裝,，通過 CE/FCC 認(rèn)證,，適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域,，幫助客戶提升光束質(zhì)量檢測效率,，降**檢測成本。光斑分析儀制造商光斑分析儀保修期多長,？維度光電整機(jī) 3 年質(zhì)保,，部件 5 年延保。

維度光電 BeamHere 系列為激光光束質(zhì)量檢測提供高性價比解決方案： 掃描狹縫式：國內(nèi)刀口 / 狹縫雙模式切換,，覆蓋 190-2700nm 光譜,，可測 2.5μm-10mm 光束，0.1μm 分辨率實現(xiàn)亞微米級光斑分析,。創(chuàng)新狹縫衰減機(jī)制支持 10W 級高功率直接測量,，無需外置衰減片。 相機(jī)式：400-1700nm 寬譜響應(yīng),，支持實時 2D/3D 成像與非高斯光束測量,。六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計擴(kuò)展功率量程，可拆卸結(jié)構(gòu)兼顧工業(yè)檢測與科研成像需求,。 M2 測試模塊：通過 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法,，測量 M2 因子、發(fā)散角,、束腰位置等參數(shù),，適配全系產(chǎn)品。 配套 BeamHere 軟件提供直觀操作界面,，支持一鍵生成標(biāo)準(zhǔn)化報告,，滿足光通信、醫(yī)療,、工業(yè)等多場景需求,。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計實現(xiàn)高精度檢測，助力客戶提升效率與產(chǎn)品質(zhì)量,。

在激光應(yīng)用領(lǐng)域,，高功率光束檢測一直是個難題。傳統(tǒng)面陣傳感器十分靈敏,，在每平方厘米約 10μW 的功率水平下就會飽和,，常規(guī)激光器功率遠(yuǎn)超此強度,，不衰減光束不僅無法測量光斑信息，還可能損壞設(shè)備,。維度光電為此推出 BeamHere 光斑分析儀系列及適配的高功率光束取樣系統(tǒng),。其掃描狹縫式光斑分析儀采用創(chuàng)新的狹縫物理衰減機(jī)制，可直接測量近 10W 的高功率激光,，無需額外衰減片,。在此基礎(chǔ)上，還推出單次取樣與雙次取樣兩款衰減配件,，可組裝疊加形成多次取樣系統(tǒng),。與合適衰減片搭配，可測功率超 1000W,。單次取樣配件型號 DL - LBA - 1,，45° 傾斜設(shè)計，取樣率 4% - 5%,，有 C 口安裝方式和鎖緊環(huán)結(jié)構(gòu),，能測量任意角度入射激光；雙次取樣配件型號 DL - LBA - 2,，內(nèi)部緊湊安裝兩片取樣透鏡,，取樣率 0.16% - 0.25%，可應(yīng)對 400W 功率光束,，多面體結(jié)構(gòu)有多個支撐安裝孔位,。組合安裝配件可進(jìn)一步衰減更高功率激光，大衰減程度達(dá) 10??,。而且其緊湊結(jié)構(gòu)的取樣光程能滿足聚焦光斑測量需求,，單次取樣 68mm，雙次取樣 53mm,，為各類激光應(yīng)用場景的檢測提供了方案。光斑分析儀都有哪些類型,？

Dimension-Labs 維度光電相機(jī)式光斑分析儀系列覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍,，實現(xiàn)可見光與近紅外波段光斑的實時檢測,。其優(yōu)勢包括： 動態(tài)分析能力 支持 2D 光斑實時成像與 3D 功率分布動態(tài)顯示,，高幀率（100fps）連續(xù)測量模式可捕捉光斑瞬態(tài)變化，3D 視圖支持任意角度旋轉(zhuǎn)分析,，為光學(xué)系統(tǒng)調(diào)試提供直觀數(shù)據(jù)支持。 復(fù)雜光斑適應(yīng)性 基于面陣傳感器技術(shù),，可測量非高斯光束（如平頂、貝塞爾光束）及含高階橫模的復(fù)雜光斑,，突破傳統(tǒng)掃描式設(shè)備的局限性,。 功率調(diào)節(jié) 標(biāo)配 6 片不同衰減率的濾光片（0.1%-100%）,，通過轉(zhuǎn)輪結(jié)構(gòu)實現(xiàn)一鍵切換,，可測功率達(dá) 10W/cm2，滿足從弱光器件到高功率激光的全量程需求,。 科研級擴(kuò)展性 采用模塊化設(shè)計,，相機(jī)與濾光片轉(zhuǎn)輪可分離使用,。拆卸后的相機(jī)兼容通用驅(qū)動軟件,，支持科研成像,、光譜分析等擴(kuò)展應(yīng)用，實現(xiàn)工業(yè)檢測與實驗室的一機(jī)多用,。國產(chǎn)光斑分析儀哪個好,？維度光電光斑分析儀全系列,。光束質(zhì)量光斑分析儀原理

國產(chǎn)光斑分析儀廠家有哪些,？維度光電深耕18年,。光束質(zhì)量光斑分析儀優(yōu)勢

Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列采用國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù)，覆蓋 190-2700nm 寬光譜,，可測 2.5μm-10mm 光束直徑，0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)檢測極限,。其創(chuàng)新設(shè)計實現(xiàn)三大優(yōu)勢： 雙模式自適應(yīng)檢測 通過軟件切換刀口 / 狹縫模式，分析 < 20μm 極小光斑形態(tài)或 10mm 大光斑能量分布,，全量程無盲區(qū),。 高功率直接測量 狹縫物理衰減機(jī)制允許單次通過狹縫區(qū)域光,，無需外置衰減片即可安全測量近 10W 高功率激光,。 超分辨率成像 基于狹縫掃描原理實現(xiàn) 0.1μm 分辨率,，完整捕捉亞微米級光斑細(xì)節(jié),，避免能量分布特征丟失,。 設(shè)備內(nèi)置正交狹縫轉(zhuǎn)動輪，通過旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸功率數(shù)據(jù),，經(jīng)算法處理輸出光束直徑,、橢圓率等 20 + 參數(shù),。緊湊模塊化設(shè)計適配多場景安裝,，通過 CE/FCC 認(rèn)證,，適用于激光加工,、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域,，助力客戶提升光束質(zhì)量檢測精度與效率。光束質(zhì)量光斑分析儀優(yōu)勢