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浙江喬邦塑業(yè)有限公司2025-04-05
真空鍍膜以真空技術為基礎,，利用物理或化學方法，在真空中進行材料蒸發(fā)或濺射,，進而在基材表面形成薄膜,。
技術分為物***相沉積（PVD）和化學氣相沉積（CVD）兩大類。物***相沉積主要包括真空蒸發(fā)鍍,、真空濺射鍍等方法,，而化學氣相沉積則是通過化學反應在基體上制出金屬或化合物薄膜。
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