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是一種于半導(dǎo)體制造中金屬化工藝的精密設(shè)備,,主要用于在半導(dǎo)體晶圓,、芯片或微型元件表面沉積均勻的金屬鍍層。其在于通過(guò)可控的電化學(xué)或化學(xué)鍍工藝,,實(shí)現(xiàn)高精度,、高一致性的金屬覆蓋,滿(mǎn)足集成電路封裝,、先進(jìn)封裝及微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域的特定需求
與傳統(tǒng)滾鍍不同,,半導(dǎo)體滾鍍更注重工藝潔凈度、鍍層精度及與半導(dǎo)體材料的兼容性,。
1.金屬互連:在晶圓上形成銅導(dǎo)線(xiàn),。
2.凸塊制備:沉積錫、銅,、金等材料,,用于芯片與基板的電氣連接。
3.阻擋層/種子層鍍覆:鍍鈦,、鉭等材料,,防止金屬擴(kuò)散并增強(qiáng)附著力。
1.電鍍槽:
材質(zhì):耐腐蝕材料,,避免污染鍍液
鍍液循環(huán)系統(tǒng):維持鍍液成分均勻,過(guò)濾顆粒雜質(zhì)
2.旋轉(zhuǎn)載具:
晶圓固定裝置:真空吸附或機(jī)械夾持,,確保晶圓平穩(wěn)旋轉(zhuǎn)
轉(zhuǎn)速控制:通過(guò)伺服電機(jī)調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速,,優(yōu)化鍍層均勻性
3.陽(yáng)極系統(tǒng):
可溶性/不溶性陽(yáng)極:銅、鉑等材料,,依鍍層需求選擇
陽(yáng)極位置調(diào)節(jié):控制電場(chǎng)分布,,減少邊緣效應(yīng)
4.供液與噴淋系統(tǒng):
多點(diǎn)噴淋頭:均勻分配鍍液至晶圓表面,避免氣泡滯留
流量控制:精確調(diào)節(jié)鍍液流速,,匹配不同工藝需求
5.控制系統(tǒng):
PLC/工控機(jī):集成溫度,、pH值、電流密度等參數(shù)監(jiān)測(cè)與反饋,。
配方管理:存儲(chǔ)不同鍍層的工藝參數(shù) 鍍鉻設(shè)備配置鉛銻合金陽(yáng)極與陽(yáng)極袋,,過(guò)濾陽(yáng)極泥渣,防止雜質(zhì)污染鍍液,,維持硬鉻鍍層高硬度,。手動(dòng)電鍍?cè)O(shè)備價(jià)格
高精度定位
伺服系統(tǒng)+光柵尺反饋,確保工件浸鍍位置誤差<1mm適用于精密電子接插件,、汽車(chē)精密部件等對(duì)鍍層均勻性要求高的場(chǎng)景(厚度偏差±3-5%),。
多工藝兼容性
可集成除油、酸洗,、電鍍,、鈍化、烘干等20+工序支持掛鍍,、滾鍍(通過(guò)可切換掛具)混合生產(chǎn)
柔性化生產(chǎn)
通過(guò)編程快速切換工件類(lèi)型(換型時(shí)間<30分鐘)支持小批量多品種(如同時(shí)處理10種不同規(guī)格螺栓)
穩(wěn)定性強(qiáng)
故障率<0.5%(關(guān)鍵部件如電機(jī),、傳感器采用工業(yè)級(jí)防護(hù))連續(xù)運(yùn)行壽命>10萬(wàn)小時(shí)
行業(yè) 應(yīng)用案例 工藝要求 汽車(chē)制造 發(fā)動(dòng)機(jī)支架鍍鋅、輪轂鍍鉻 耐鹽霧>720小時(shí),,厚度10-15μm
電子行業(yè) 手機(jī)接口鍍金,、PCB接插件鍍鎳 鍍層 孔隙率<5個(gè)/cm2 五金 衛(wèi)浴鍍銅鎳鉻三鍍層 表面粗糙度Ra<0.2μm 貴州龍門(mén)電鍍?cè)O(shè)備滾鍍?cè)O(shè)備采用帶孔滾筒裝載小工件,旋轉(zhuǎn)翻滾中完成電鍍,,高效處理螺絲,、電子元件等批量小件。
提供穩(wěn)定直流電,,通常采用高頻開(kāi)關(guān)電源或硅整流器,,電壓范圍0-24V,電流可調(diào)至數(shù)千安培,,滿(mǎn)足不同鍍種需求,。
耐腐蝕材質(zhì)槽體(如PP/CPVC/PVDF),尺寸設(shè)計(jì)依據(jù)生產(chǎn)需求,,典型容積0.5-10m3,,配置防滲漏雙層結(jié)構(gòu)。
陽(yáng)極組件:可溶性金屬(如鎳板)或不溶性陽(yáng)極(鈦籃+金屬球),,配置陽(yáng)極袋防止雜質(zhì)擴(kuò)散
陰極掛具:定制化設(shè)計(jì),,確保工件均勻受鍍,接觸電阻<0.1Ω
溫控精度±1℃,,流量控制誤差<5%
在線(xiàn)pH監(jiān)測(cè)(±0.1精度)
安培小時(shí)計(jì)控制鍍層厚度
類(lèi)型 適用場(chǎng)景 產(chǎn)能(㎡/h) 厚度均勻性 典型配置
掛鍍線(xiàn) 精密零部件 0.5-2 ±5% 多工位龍門(mén)架,,PLC控制 滾鍍系統(tǒng) 小件批量處理 3-8 ±15% 六角滾筒,變頻驅(qū)動(dòng) 連續(xù)電鍍線(xiàn) 帶材/線(xiàn)材 10-30 ±8% 張力控制+多槽串聯(lián) 選擇性電鍍 局部強(qiáng)化 0.1-0.5 ±3% 數(shù)控噴射裝置,,微區(qū)控制
對(duì)比項(xiàng) 傳統(tǒng)滾鍍 半導(dǎo)體滾鍍 對(duì)象 小型金屬零件(螺絲,、紐扣等) 晶圓、芯片,、微型半導(dǎo)體元件 精度 微米級(jí) 納米級(jí)(≤100nm) 潔凈度 普通工業(yè)環(huán)境 無(wú)塵室(Class100~1000) 工藝控制 電流/時(shí)間粗調(diào) 實(shí)時(shí)閉環(huán)控制(電流,、流量、溫度) 鍍液類(lèi)型 酸性/堿性鍍液 高純度鍍液(低雜質(zhì))
大尺寸晶圓兼容:適配12英寸(300mm)晶圓,,向18英寸過(guò)渡,。環(huán)保鍍液:無(wú)物、低毒配方,,減少?gòu)U水處理壓力,。智能化集成:AI工藝優(yōu)化:通過(guò)機(jī)器學(xué)習(xí)預(yù)測(cè)鍍層缺陷。與CMP(化學(xué)機(jī)械拋光),、PVD設(shè)備聯(lián)動(dòng),,形成全自動(dòng)金屬化產(chǎn)線(xiàn)
半導(dǎo)體滾鍍?cè)O(shè)備是封裝與芯片制造的關(guān)鍵裝備,通過(guò)精密旋轉(zhuǎn)與鍍液控制,,實(shí)現(xiàn)納米級(jí)金屬鍍層的均勻沉積,。其技術(shù)在于潔凈環(huán)境下的高精度工藝控制 廢水處理設(shè)備分類(lèi)收集含鉻、鎳等廢水,,經(jīng)化學(xué)沉淀,、離子交換處理,確保重金屬達(dá)標(biāo)排放,。
掛鍍工藝:晶圓固定在掛具上,,浸入電鍍液,,通過(guò)精細(xì)控制電流、電壓及溶液成分,,在表面沉積均勻金屬層,。
電鍍槽:耐腐蝕材質(zhì),配備溫控,、循環(huán)過(guò)濾系統(tǒng),,維持鍍液均勻性
掛具與陽(yáng)極:鈦或鉑金陽(yáng)極,掛具設(shè)計(jì)適配晶圓尺寸,,確保電場(chǎng)分布均勻
自動(dòng)化傳輸:機(jī)械臂自動(dòng)上下料,,減少人工污染風(fēng)險(xiǎn)
控制系統(tǒng):PLC/計(jì)算機(jī)實(shí)時(shí)調(diào)控電流密度、電鍍時(shí)間,、pH值等參數(shù)
高均勻性:通過(guò)脈沖電鍍或水平電鍍技術(shù)(如ECP),,減少邊緣效應(yīng),實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)鍍層均勻性
低缺陷率:鍍液雜質(zhì)控制(<0.1ppm)與膜厚在線(xiàn)監(jiān)測(cè),,降低孔洞,、結(jié)節(jié)等缺陷
高產(chǎn)能:支持多晶圓并行處理
銅互連:在邏輯芯片中沉積多層銅導(dǎo)線(xiàn),替代傳統(tǒng)鋁工藝以降低電阻
TSV填充:為3D封裝提供垂直導(dǎo)電通道,,實(shí)現(xiàn)芯片堆疊
凸塊電鍍:在晶圓表面形成錫,、銅柱凸塊,用于Flip-Chip鍵合
RDL(重布線(xiàn)層):沉積銅層實(shí)現(xiàn)芯片I/O端口的重新布局
半導(dǎo)體掛鍍?cè)O(shè)備通過(guò)精密電化學(xué)控制與自動(dòng)化技術(shù),,解決了納米級(jí)金屬沉積的均勻性與可靠性難題,,是先進(jìn)芯片制造與封裝的裝備。其性能直接關(guān)聯(lián)芯片的導(dǎo)電性,、散熱及良率 自動(dòng)化電鍍線(xiàn)的機(jī)器人上下料系統(tǒng),,通過(guò)視覺(jué)識(shí)別定位工件,實(shí)現(xiàn)高精度無(wú)人化操作,。廣東微型電鍍?cè)O(shè)備
連續(xù)鍍生產(chǎn)線(xiàn)的導(dǎo)電輥鍍覆耐磨碳鎢涂層,,降低鋼帶傳輸摩擦,避免劃傷與鍍層缺陷,。手動(dòng)電鍍?cè)O(shè)備價(jià)格
1.鍍槽:是電鍍加工的設(shè)備,用于盛放電鍍液,,為電鍍提供反應(yīng)場(chǎng)所,。根據(jù)電鍍工藝和工件的不同,鍍槽的材質(zhì),、形狀和尺寸也各不相同,,常見(jiàn)的有聚丙烯、聚四氟乙烯等材質(zhì)制成的鍍槽。
2.整流器:其作用是將交流電轉(zhuǎn)換為直流電,,為電鍍過(guò)程提供穩(wěn)定的電流,。電鍍過(guò)程需要精確控制電流的大小和穩(wěn)定性,以確保電鍍層的質(zhì)量和性能,。
3.過(guò)濾機(jī):用于過(guò)濾電鍍液中的雜質(zhì),、顆粒和懸浮物,,保持電鍍液的清潔度,。過(guò)濾機(jī)通常采用濾芯式或?yàn)V袋式過(guò)濾,可根據(jù)電鍍液的性質(zhì)和過(guò)濾精度要求選擇不同的過(guò)濾材料,。
4.加熱和冷卻裝置:加熱裝置通常采用電加熱或蒸汽加熱的方式,,而冷卻裝置則多采用冷水機(jī)或冷卻塔進(jìn)行冷卻。
5.攪拌設(shè)備:包括機(jī)械攪拌和空氣攪拌等方式,。
6.掛具:用于懸掛和固定待電鍍的工件,,使工件能夠在電鍍槽中與電鍍液充分接觸,并保證電流均勻地通過(guò)工件,。7.行車(chē):主要用于在電鍍車(chē)間內(nèi)吊運(yùn)工件,、原材料和成品等重物。
8.廢氣處理設(shè)備:電鍍過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生各種有害氣體,,如酸霧,、堿霧和重金屬?gòu)U氣等。廢氣處理設(shè)備通常采用噴淋塔,、活性炭吸附裝置,、催化燃燒裝置等,對(duì)廢氣進(jìn)行凈化處理,,達(dá)標(biāo)后排放,。 手動(dòng)電鍍?cè)O(shè)備價(jià)格