TG242432-013LBT022QCME101BT022QVME102BT022QVME602BT022QCME103BT022QCME104BTL221722-276LBTG221722-003L-1BT022QCMQ101BT022QVMG003BT021LCME101BT020QVME101BT018QQME101BTL181216-296LBV015Z1E-NB0BV015Z2E-NB0BT015SQMM001240RGB204深圳市精通科技有限公司ShenzhenProficienttechnologylimited聯(lián)系電話：Contactphone:公司網(wǎng)址：Website:公司郵箱：jtkjlcm@Email:jtkjlcm@工廠地址：中國廣東省河源市龍川縣龍母鎮(zhèn)168號Factoryaddress:longmuzhen168th,LongchuaninHeyuancity,GuangdongProvince,China聯(lián)系人;胡雄兵Contactperson:HuXiongbing聯(lián)系手機：Contactphone:5039聯(lián)系QQ:ContactQQ:聯(lián)系郵箱：@Contactemail:@公司地址：中國廣東省深圳市龍崗區(qū)愛聯(lián)陂頭背村5巷5號Address:,LonggangDistrict,ShenzhenCity,GuangdongProvince,ChinalovethePo5thbeiCun5numbersCSTNTFTOLEDLCDLCM顯示屏模組制造商CSTNTFTOLEDLCDmoduleLCMdisplaymanufacturer我公司專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)銷售維修中小尺寸FT液晶顯示屏模組產(chǎn)品已廣泛應用于手機,、汽車,、工業(yè),、醫(yī)療、消費類產(chǎn)品等領域,。BOE蝕刻液的主要成分,。湖南工業(yè)級BOE蝕刻液供應商

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    本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液,，通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑,，來改善磷酸的浸潤性和表面張力，使之均勻蝕刻氮化硅,。背景技術：氮化硅是一種具有很高的化學穩(wěn)定性的絕緣材料,，氫氟酸和熱磷酸能對氮化硅進行緩慢地腐蝕。在半導體制造工藝中,，一般是采用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻,，一直到了90nm的制程也是采用熱磷酸來蝕刻氮化硅。但隨著半導體制程的飛速發(fā)展,，器件的特征尺寸越來越小,，集成度越來越高，對制造工藝中的各工藝節(jié)點要求也越來越高,，如蝕刻工藝中對蝕刻后晶圓表面的均勻性,、蝕刻殘留、下層薄膜的選擇性等都有要求,。在使用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻時,，晶圓表面會出現(xiàn)不均勻的現(xiàn)象，體現(xiàn)于在蝕刻前后進行相同位置取點的厚度測量時,，檢測點之間蝕刻前后的厚度差值存在明顯差異,。為了解決氮化硅蝕刻不均勻的問題，通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑可以實現(xiàn)氮化硅層的均勻蝕刻,。技術實現(xiàn)要素：本發(fā)明所要解決的技術問題是提供一種能均勻蝕刻氮化硅層的蝕刻液,。本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，所述蝕刻液的組成包括：占蝕刻液總重量≥88％的磷酸,、％的醇醚類,、％的表面活性劑。進一步地,，本發(fā)明涉及上述蝕刻液。

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