原料準(zhǔn)備
主要成分：樹脂（成膜劑,，如酚醛樹脂、聚酰亞胺等）,、感光劑（光引發(fā)劑或光敏化合物,，如重氮萘醌、光刻膠單體）,、溶劑（溶解成分,，如丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA））、添加劑（調(diào)節(jié)粘度,、感光度,、穩(wěn)定性等，如表面活性劑,、穩(wěn)定劑）,。
原料提純：對樹脂、感光劑等進(jìn)行高純度精制（純度通常要求99.9%以上）,，避免雜質(zhì)影響光刻精度,。
配料與混合
按配方比例精確稱量各組分，在潔凈環(huán)境,，如萬中通過攪拌機(jī)均勻混合,，形成膠狀溶液。
控制溫度（通常20-30℃）和攪拌速度,，避免氣泡產(chǎn)生或成分分解,。
過濾與純化
使用納米級濾膜（孔徑0.05-0.2μm）過濾，去除顆粒雜質(zhì)（如金屬離子,、灰塵）,，確保膠液潔凈度，避免光刻時(shí)產(chǎn)生缺陷,。
性能檢測
物理指標(biāo)：粘度,、固含量、表面張力,、分子量分布等,，影響涂布均勻性。
化學(xué)指標(biāo)：感光度,、分辨率,、對比度、耐蝕刻性,，通過曝光實(shí)驗(yàn)和顯影測試驗(yàn)證,。
可靠性：存儲穩(wěn)定性（常溫/低溫保存下的性能變化）、耐溫性（烘烤過程中的抗降解能力）,。
包裝與儲存
在惰性氣體（如氮?dú)猓┉h(huán)境下分裝至避光容器（如棕色玻璃瓶或鋁罐）,，防止感光劑氧化或光分解。
儲存條件：低溫（5-10℃）,、避光,、干燥，部分產(chǎn)品需零下環(huán)境（如EUV光刻膠）,。
東莞光刻膠廠家哪家好,？西安PCB光刻膠
關(guān)鍵工藝流程
涂布：
在晶圓/基板表面旋涂光刻膠，厚度控制在0.1-5μm（依制程精度調(diào)整）,，需均勻無氣泡（旋涂轉(zhuǎn)速500-5000rpm）,。
前烘（Soft Bake）：
加熱（80-120℃）去除溶劑，固化膠膜，增強(qiáng)附著力（避免顯影時(shí)邊緣剝離）,。
曝光：
光源匹配：
G/I線膠：汞燈（適用于≥1μm線寬,，如PCB、LCD）,。
DUV膠（248nm/193nm）：KrF/ArF準(zhǔn)分子激光（用于28nm-14nm制程,，如存儲芯片）。
EUV膠（13.5nm）：極紫外光源（用于7nm以下制程,，需控制納米級缺陷）,。
曝光能量：需精確控制（如ArF膠約50mJ/cm），避免過曝或欠曝導(dǎo)致圖案失真,。
顯影：
采用堿性溶液（如0.262N四甲基氫氧化銨,，TMAH），曝光區(qū)域膠膜溶解,，未曝光區(qū)域保留,，形成三維立體圖案。
后烘（Post-Exposure Bake, PEB）：
化學(xué)增幅型膠需此步驟,，通過加熱（90-130℃）激發(fā)光酸催化反應(yīng),，提高分辨率和耐蝕刻性。
西安PCB光刻膠納米壓印光刻膠哪家強(qiáng),？吉田半導(dǎo)體附著力提升 30%,！
憑借綠色產(chǎn)品與可持續(xù)生產(chǎn)模式，吉田半導(dǎo)體的材料遠(yuǎn)銷全球,，并與多家跨國企業(yè)建立長期合作,。其環(huán)保焊片與靶材被廣泛應(yīng)用于光伏、儲能等清潔能源領(lǐng)域,，助力客戶實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品全生命周期的環(huán)境友好,。公司通過導(dǎo)入國際標(biāo)準(zhǔn)認(rèn)證（如 ISO14001 環(huán)境管理體系），進(jìn)一步強(qiáng)化了在環(huán)保領(lǐng)域的競爭力,。
未來,，廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司將繼續(xù)以技術(shù)創(chuàng)新為驅(qū)動，深化綠色制造戰(zhàn)略,，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的低碳化,、可持續(xù)發(fā)展貢獻(xiàn)力量。以品質(zhì)為依托,，深化全球化布局,，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展注入持續(xù)動力。
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，主要涵蓋厚板,、負(fù)性,、正性、納米壓印及光刻膠等類別,，以滿足不同領(lǐng)域的需求,。
厚板光刻膠：JT-3001 型號，具有優(yōu)異的分辨率和感光度,，抗深蝕刻性能良好,，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),，保質(zhì)期 1 年,。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝，如特定電路板制造,。
負(fù)性光刻膠
-
SU-3 負(fù)性光刻膠：分辨率優(yōu)異,，對比度良好，曝光靈敏度高,，光源適應(yīng),，重量 100g。常用于對曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工,、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域,。
正性光刻膠
吉田半導(dǎo)體光刻膠，45nm 制程驗(yàn)證,，國產(chǎn)替代方案,！
-
LCD 正性光刻膠 YK-200：具有較大曝光、高分辨率,、良好涂布和附著力,，重量 100g。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝,，確保 LCD 生產(chǎn)中圖形精確轉(zhuǎn)移和良好涂布效果,。
-
半導(dǎo)體正性光刻膠 YK-300：具備耐熱耐酸、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,，重量 100g。主要用于半導(dǎo)體制造工藝,，滿足半導(dǎo)體器件對光刻膠在化學(xué)穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求,。
納米壓印光刻膠
微納光學(xué)器件制造：制作衍射光學(xué)元件、微透鏡陣列等微納光學(xué)器件時(shí),，納米壓印光刻膠可實(shí)現(xiàn)高精度的微納結(jié)構(gòu)復(fù)制,。通過納米壓印技術(shù)，將模板上的微納圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠上,，再經(jīng)過后續(xù)處理,，可制造出具有特定光學(xué)性能的微納光學(xué)器件,，應(yīng)用于光通信、光學(xué)成像等領(lǐng)域,。
生物芯片制造：在 DNA 芯片,、蛋白質(zhì)芯片等生物芯片的制造中，需要在芯片表面構(gòu)建高精度的微納結(jié)構(gòu),，用于生物分子的固定和檢測,。納米壓印光刻膠可幫助實(shí)現(xiàn)這些精細(xì)結(jié)構(gòu)的制作，提高生物芯片的檢測靈敏度和準(zhǔn)確性,。
光刻膠的關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域,。江蘇LCD光刻膠廠家
吉田半導(dǎo)體材料的綠色環(huán)保與可持續(xù)發(fā)展。西安PCB光刻膠
吉田半導(dǎo)體的自研產(chǎn)品已深度融入國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈：
-
芯片制造：YK-300 光刻膠服務(wù)中芯國際,、長江存儲,，支持國產(chǎn) 14nm 芯片量產(chǎn)。
-
顯示面板：YK-200 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%,，成為京東方,、華星光電戰(zhàn)略合作伙伴。
-
新能源領(lǐng)域：無鹵無鉛焊片通過 UL 認(rèn)證,，批量應(yīng)用于寧德時(shí)代儲能系統(tǒng),，年供貨量超 500 噸。
-
研發(fā)投入：年研發(fā)費(fèi)用占比超 15%,，承擔(dān)國家 02 專項(xiàng)課題,，獲 “國家技術(shù)發(fā)明二等獎”。
-
產(chǎn)能規(guī)模：光刻膠年產(chǎn)能 5000 噸,，納米壓印光刻膠占全球市場份額 15%,。
-
質(zhì)量體系：通過 ISO9001、IATF 16949 等認(rèn)證,，生產(chǎn)過程執(zhí)行 8S 管理,，批次穩(wěn)定性達(dá) 99.5%。
吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)聚焦光刻膠研發(fā),，加速 EUV 光刻膠與木基材料技術(shù)突破,，目標(biāo)在 2027 年前實(shí)現(xiàn) 7nm 制程材料量產(chǎn)。同時(shí),，深化國產(chǎn)供應(yīng)鏈協(xié)同,，構(gòu)建 “材料 - 設(shè)備 - 工藝” 一體化生態(tài)圈，為中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主化貢獻(xiàn) “吉田力量”,。
從突破國際壟斷到行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),，吉田半導(dǎo)體以自研自產(chǎn)為引擎，走出了一條中國半導(dǎo)體材料企業(yè)的崛起之路,。未來,，公司將以更具競爭力的產(chǎn)品與技術(shù),，助力中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁向更高臺階。
西安PCB光刻膠
