主要應(yīng)用場景
印刷電路板（PCB）：
通孔/線路加工：負(fù)性膠厚度可達(dá)20-50μm,，耐堿性蝕刻液（如氯化鐵,、堿性氯化銅），適合制作大尺寸線路（線寬/線距≥50μm）,，如雙面板,、多層板的外層電路。
阻焊層：作為絕緣保護(hù)層，覆蓋非焊盤區(qū)域,，需厚膠（50-100μm）和高耐焊接溫度（260℃以上）,，負(fù)性膠因工藝簡單、成本低而廣泛應(yīng)用,。
微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）：
深硅蝕刻（DRIE）：負(fù)性膠作為蝕刻掩膜,，厚度可達(dá)100μm以上，耐SF等強(qiáng)腐蝕性氣體,，用于制作加速度計(jì),、陀螺儀的高深寬比結(jié)構(gòu)（深寬比＞20:1）。
模具制造：在硅或玻璃基板上制作微流控芯片的通道模具,，利用負(fù)性膠的厚膠成型能力。
平板顯示（LCD）：
彩色濾光片（CF）基板預(yù)處理：在玻璃基板上制作絕緣層或緩沖層,，耐濕法蝕刻（如HF溶液）,，確保后續(xù)RGB色阻層的精確涂布。
功率半導(dǎo)體與分立器件：
IGBT,、MOSFET的隔離區(qū)蝕刻：負(fù)性膠用于制作較寬的隔離溝槽（寬度＞10μm）,，耐高濃度酸堿蝕刻，降低工藝成本,。
感光膠的工藝和應(yīng)用,。廣西網(wǎng)版光刻膠供應(yīng)商
技術(shù)趨勢與挑戰(zhàn)
半導(dǎo)體先進(jìn)制程：
EUV光刻膠需降低缺陷率（目前每平方厘米缺陷數(shù)＜10個(gè)），開發(fā)低粗糙度（≤5nm）材料,；
極紫外吸收問題：膠膜對(duì)13.5nm光吸收率高,，需厚度控制在50-100nm，挑戰(zhàn)化學(xué)增幅體系的靈敏度,。
環(huán)保與低成本：
水性負(fù)性膠替代溶劑型膠（如PCB阻焊膠）,，減少VOC排放；
單層膠工藝替代多層膠,，簡化流程（如MEMS厚膠的一次性涂布）,。
新興領(lǐng)域拓展：
柔性電子：開發(fā)耐彎曲（曲率半徑＜5mm）、低模量感光膠,，用于可穿戴設(shè)備電路,；
光子芯片：高折射率膠（n＞1.8）制作光波導(dǎo)，需低傳輸損耗（＜0.1dB/cm）,。
典型產(chǎn)品與廠商
半導(dǎo)體正性膠：
日本信越（Shin-Etsu）的ArF膠（分辨率22nm,，用于12nm制程）；
美國陶氏（Dow）的EUV膠（靈敏度10mJ/cm,，缺陷密度＜5個(gè)/cm）,。
PCB負(fù)性膠：
中國容大感光（LP系列）：耐堿性蝕刻，厚度20-50μm，國產(chǎn)化率超60%,；
日本東京應(yīng)化（TOK）的THMR-V：全球PCB膠市占率30%,，適用于高可靠性汽車板。
MEMS厚膠：
美國陶氏的SU-8：實(shí)驗(yàn)室常用,，厚度5-200μm,，分辨率1μm（需優(yōu)化交聯(lián)均勻性）；
德國Microresist的MR膠：耐深硅蝕刻,，線寬精度±2%,，用于工業(yè)級(jí)MEMS制造。
安徽LED光刻膠感光膠松山湖半導(dǎo)體材料廠家吉田,，全系列產(chǎn)品支持小批量試產(chǎn)!
吉田半導(dǎo)體水性感光膠 JT-1200：水油兼容,，鋼片加工精度 ±5μm
JT-1200 水性感光膠解決鋼片加工難題，提升汽車電子部件制造精度,。
針對(duì)汽車電子鋼片加工需求,，吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 JT-1200 水性感光膠實(shí)現(xiàn)水油兼容性達(dá) 100%，加工精度 ±5μm,。其高粘接強(qiáng)度與耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿特性,，確保復(fù)雜結(jié)構(gòu)的長期可靠性。其涂布性能優(yōu)良,，易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn),，適用于安全氣囊傳感器、車載攝像頭模組等精密部件,。產(chǎn)品通過 IATF 16949 汽車行業(yè)認(rèn)證,，生產(chǎn)過程嚴(yán)格控制金屬離子含量，確保電子產(chǎn)品可靠性,。
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司,，坐落于松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)，是半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的一顆璀璨明珠,。公司注冊(cè)資本 2000 萬元,，專注于半導(dǎo)體材料的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售,，是國家高新技術(shù)企業(yè),、廣東省專精特新企業(yè)以及廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè)。
強(qiáng)大的產(chǎn)品陣容：吉田半導(dǎo)體產(chǎn)品豐富且實(shí)力強(qiáng)勁,。芯片光刻膠,、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠精細(xì)滿足芯片制造,、微納加工等關(guān)鍵環(huán)節(jié)需求,；半導(dǎo)體錫膏,、焊片在電子焊接領(lǐng)域性能；靶材更是在材料濺射沉積工藝中發(fā)揮關(guān)鍵作用,。這些產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球,，與眾多世界 500 強(qiáng)企業(yè)及電子加工企業(yè)建立了長期穩(wěn)固的合作關(guān)系。
雄厚的研發(fā)生產(chǎn)實(shí)力：作為一家擁有 23 年研發(fā)與生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)的綜合性企業(yè),，吉田半導(dǎo)體具備行業(yè)前列規(guī)模與先進(jìn)的全自動(dòng)化生產(chǎn)設(shè)備,。23 年的深耕細(xì)作，使其在技術(shù)研發(fā),、工藝優(yōu)化等方面積累了深厚底蘊(yùn),，能夠快速響應(yīng)市場需求，不斷推出創(chuàng)新性產(chǎn)品,。
嚴(yán)格的質(zhì)量管控：公司始終將品質(zhì)視為生命線,，嚴(yán)格按照 ISO9001:2008 質(zhì)量體系標(biāo)準(zhǔn)監(jiān)控生產(chǎn)制程。生產(chǎn)環(huán)境執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理,，從源頭抓起,，所有生產(chǎn)材料均選用美國、德國,、日本等國家進(jìn)口的高質(zhì)量原料，確�,？蛻羰褂玫匠哔|(zhì)量且穩(wěn)定的產(chǎn)品,。
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吉田半導(dǎo)體柯圖泰全系列感光膠：進(jìn)口品牌品質(zhì),，本地化服務(wù)支持
柯圖泰全系列感光膠依托進(jìn)口技術(shù),，提供高性價(jià)比的絲網(wǎng)印刷解決方案。
吉田半導(dǎo)體代理的柯圖泰全系列感光膠（如 PLUS 6000,、Autosol 2000）,，源自美國先進(jìn)配方，分辨率達(dá) 120 線 / 英寸,，適用于玻璃,、陶瓷等多種基材。產(chǎn)品通過 SGS 認(rèn)證,，符合電子行業(yè)有害物質(zhì)限制要求,，其高感光度與耐摩擦性，確保絲網(wǎng)印刷的清晰度與耐久性,。公司提供技術(shù)參數(shù)匹配,、制版工藝指導(dǎo)等本地化服務(wù)，幫助客戶優(yōu)化生產(chǎn)流程,，降低材料損耗,。
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關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體制造：
在晶圓表面涂覆光刻膠,，通過掩膜曝光、顯影,，刻蝕出晶體管,、電路等納米級(jí)結(jié)構(gòu)（如EUV光刻膠用于7nm以下制程）。
印刷電路板（PCB）：
保護(hù)電路圖形或作為蝕刻抗蝕層,，制作線路和焊盤,。
顯示面板（LCD/OLED）：
用于制備彩色濾光片、電極圖案等,。
微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）：
加工微結(jié)構(gòu)（如傳感器,、執(zhí)行器）。
工作原理（以正性膠為例）
1. 涂膠：在基材（如硅片）表面均勻旋涂光刻膠,，烘干形成薄膜,。
2. 曝光：通過掩膜版，用特定波長光線照射,，曝光區(qū)域的光敏劑分解,，使樹脂變得易溶于顯影液。
3. 顯影：用顯影液溶解曝光區(qū)域,，留下未曝光的光刻膠圖案,，作為后續(xù)刻蝕或離子注入的掩蔽層。
4. 后續(xù)工藝：刻蝕基材（保留未被光刻膠保護(hù)的區(qū)域）,，或去除光刻膠（剝離工藝）,。
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