德國 Polos 光刻機(jī)系列的一大突出優(yōu)勢,，便是能夠輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。在科研工作中,，創(chuàng)新的設(shè)計(jì)理念往往需要快速驗(yàn)證,，而 Polos 光刻機(jī)正滿足了這一需求�,？蒲腥藛T無需花費(fèi)大量時(shí)間和成本制作掩模,，只需將設(shè)計(jì)圖案導(dǎo)入系統(tǒng)，就能迅速開始光刻作業(yè),。 在生物醫(yī)學(xué)工程領(lǐng)域,，研究人員利用這一特性，快速制作出具有特殊結(jié)構(gòu)的生物芯片,，用于疾病診斷和藥物篩選,。在材料科學(xué)研究中，可根據(jù)不同材料特性,，定制獨(dú)特的圖案結(jié)構(gòu),，探索材料的新性能。這種靈活的圖案輸入方式,，remarkable縮短了科研周期,，加速科研成果的產(chǎn)出，讓科研人員能夠?qū)⒏�多精力投入到�?chuàng)新研究中,。多材料兼容性：同步加工陶瓷 / PDMS / 金屬,，微流控芯片集成電極與通道一步成型。浙江德國POLOS桌面無掩模光刻機(jī)不需要緩慢且昂貴的光掩模

無掩模激光光刻：科研效率的revolution性提升,！Polos-BESM系列采用無掩模激光直寫技術(shù),，用戶可通過軟件直接輸入任意圖案，省去傳統(tǒng)光刻中掩膜制備的高昂成本與時(shí)間,。其405 nm紫外光源和亞微米分辨率（most小線寬0.8 m）支持5英寸晶圓的高精度加工,，特別適合實(shí)驗(yàn)室快速原型開發(fā),。閉環(huán)自動(dòng)對焦系統(tǒng)（1秒完成）和半自動(dòng)多層對準(zhǔn)功能，remarkable提升微流體芯片和MEMS器件的研發(fā)效率62,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。北京BEAM-XL光刻機(jī)分辨率1.5微米工業(yè)4.0協(xié)同創(chuàng)新：與弗勞恩霍夫ILT合作優(yōu)化激光能量分布,，提升制造精度。

柔性電子是未來可穿戴設(shè)備的core方向,，其電路圖案需適應(yīng)曲面基底,。Polos 光刻機(jī)的無掩模技術(shù)在聚酰亞胺柔性基板上實(shí)現(xiàn)了 2μm 線寬的precise曝光，解決了傳統(tǒng)掩模對準(zhǔn)偏差問題,。某柔性電子研究中心利用該設(shè)備,，開發(fā)出可貼合皮膚的健康監(jiān)測貼片，其傳感器陣列的信號噪聲比提升 60%,。相比光刻膠掩模工藝,，Polos 光刻機(jī)將打樣時(shí)間從 72 小時(shí)壓縮至 8 小時(shí)，加速了柔性電路的迭代優(yōu)化,，推動(dòng)柔性電子從實(shí)驗(yàn)室走向產(chǎn)業(yè)化落地,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。

形狀記憶合金、壓電陶瓷等智能材料的微結(jié)構(gòu)加工需要高精度圖案定位,。Polos 光刻機(jī)的亞微米級定位精度,，幫助科研團(tuán)隊(duì)在鎳鈦合金薄膜上刻制出復(fù)雜驅(qū)動(dòng)電路，成功制備出微型可編程抓手,。該抓手在 40℃溫場中可實(shí)現(xiàn) 0.1mm 行程的precise控制，抓取力達(dá) 50mN,，較傳統(tǒng)微加工方法性能提升 50%,。該技術(shù)被應(yīng)用于微納操作機(jī)器人，在單細(xì)胞膜片鉗實(shí)驗(yàn)中成功率從 40% 提升至 75%,，為細(xì)胞級precise操作提供了關(guān)鍵工具,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。Polos-BESM XL：大尺寸加工空間，保留緊湊設(shè)計(jì),，科研級精度實(shí)現(xiàn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)一次性成型,。

低成本桌面化光刻：SPS POLOS 的科研普惠！Polos系列在微流體領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)復(fù)雜3D流道結(jié)構(gòu)的快速成型,。例如,，中科院理化所利用類似技術(shù)制備跨尺度微盤陣列，研究細(xì)胞浸潤行為,，為組織工程提供新策略3,。Polos的高精度與靈活性支持仿生結(jié)構(gòu)批量生產(chǎn)，推動(dòng)醫(yī)療診斷芯片研發(fā),，如tumor篩查與藥物遞送系統(tǒng)的微型化64,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。亞微米級精度：0.8 mmost小線寬，支持高精度微流體芯片與MEMS器件制造,。安徽德國PSP-POLOS光刻機(jī)光源波長405微米

光束引擎高速掃描：SPS POLOS 單次寫入400 m區(qū)域,，壓電驅(qū)動(dòng)提升掃描速度。浙江德國POLOS桌面無掩模光刻機(jī)不需要緩慢且昂貴的光掩模

某生物力學(xué)實(shí)驗(yàn)室通過 Polos 光刻機(jī),，在單一芯片上集成了壓阻式和電容式細(xì)胞力傳感器,。其多材料曝光技術(shù)在 20μm 的懸臂梁上同時(shí)制備金屬電極與硅基壓阻元件，傳感器的力分辨率達(dá) 5pN,，位移檢測精度達(dá) 1nm,。在心肌細(xì)胞收縮力檢測中，該集成傳感器實(shí)現(xiàn)了力 - 電信號的*,，發(fā)現(xiàn)收縮力峰值與動(dòng)作電位時(shí)程的相關(guān)性達(dá) 0.92,，為心臟電機(jī)械耦合機(jī)制研究提供了全新工具，相關(guān)論文發(fā)表于《Biophysical Journal》,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。浙江德國POLOS桌面無掩模光刻機(jī)不需要緩慢且昂貴的光掩模