細(xì)胞培養(yǎng)芯片需根據(jù)不同細(xì)胞類(lèi)型設(shè)計(jì)表面微結(jié)構(gòu)，傳統(tǒng)光刻依賴(lài)掩模庫(kù),，難以滿(mǎn)足個(gè)性化需求,。Polos 光刻機(jī)支持 STL 模型直接導(dǎo)入，某干細(xì)胞研究所在 24 小時(shí)內(nèi)完成了神經(jīng)干細(xì)胞三維培養(yǎng)支架的定制加工,。其制造的微柱陣列間距可精確控制在 5-50μm,，適配不同分化階段的細(xì)胞黏附需求。實(shí)驗(yàn)顯示,，使用該支架的神經(jīng)細(xì)胞軸突生長(zhǎng)速度提升 30%,，為神經(jīng)再生機(jī)制研究提供了高效工具，相關(guān)技術(shù)已授權(quán)給生物芯片企業(yè)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。環(huán)保低能耗設(shè)計(jì)：固態(tài)光源能耗較傳統(tǒng)設(shè)備降低30%,，符合綠色實(shí)驗(yàn)室標(biāo)準(zhǔn)。北京德國(guó)PSP-POLOS光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化

某智能機(jī)器人實(shí)驗(yàn)室采用 Polos 光刻機(jī)制造了磁控微納機(jī)器人,。其激光直寫(xiě)技術(shù)在鎳鈦合金薄膜上刻制出 10μm 的螺旋槳結(jié)構(gòu),，機(jī)器人在旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)下的推進(jìn)速度達(dá) 50μm/s，轉(zhuǎn)向精度小于 5°,。通過(guò)自定義三維運(yùn)動(dòng)軌跡,，該機(jī)器人在微流控芯片中成功實(shí)現(xiàn)了單個(gè)紅細(xì)胞的捕獲與轉(zhuǎn)運(yùn)，操作成功率從傳統(tǒng)方法的 40% 提升至 85%,。其輕量化設(shè)計(jì)（質(zhì)量 < 1μg）還支持在活細(xì)胞表面進(jìn)行納米級(jí)手術(shù),，相關(guān)成果入選《Science Robotics》年度創(chuàng)新技術(shù)。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。江蘇POLOSBEAM光刻機(jī)光源波長(zhǎng)405微米Polos-Printer 入選《半導(dǎo)體技術(shù)》年度創(chuàng)新產(chǎn)品，推動(dòng)無(wú)掩模光刻技術(shù)普及,。

在科研領(lǐng)域,，設(shè)備的先進(jìn)程度往往決定了研究的深度與廣度。德國(guó)的 Polos - BESM,、Polos - BESM XL,、SPS 光刻機(jī) POLOS 帶來(lái)了革新之光,。它們運(yùn)用無(wú)掩模激光光刻技術(shù),，摒棄了傳統(tǒng)光刻中昂貴且制作周期長(zhǎng)的掩模，極大降低了成本,。這些光刻機(jī)可輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,，在微流體、電子學(xué)和納 / 微機(jī)械系統(tǒng)等領(lǐng)域大顯身手,。例如在微流體研究中,，能precise制造復(fù)雜的微通道網(wǎng)絡(luò)，助力藥物傳輸,、細(xì)胞培養(yǎng)等研究,。在電子學(xué)方面，可實(shí)現(xiàn)高精度的電路圖案曝光,，為芯片研發(fā)提供有力支持,。其占用空間小，對(duì)于空間有限的研究實(shí)驗(yàn)室來(lái)說(shuō)堪稱(chēng)完美,。憑借出色特性,，它們已助力眾多科研團(tuán)隊(duì)取得成果，成為科研創(chuàng)新的得力助手 ,。

超表面通過(guò)納米結(jié)構(gòu)調(diào)控光場(chǎng),，傳統(tǒng)電子束光刻成本高昂且效率低下。Polos 光刻機(jī)的激光直寫(xiě)技術(shù)在石英基底上實(shí)現(xiàn)了亞波長(zhǎng)量級(jí)的圖案曝光,，將超表面器件制備成本降低至傳統(tǒng)方法的 1/5,。某光子學(xué)實(shí)驗(yàn)室利用該設(shè)備,，研制出寬帶消色差超表面透鏡，在 400-1000nm 波長(zhǎng)范圍內(nèi)成像誤差小于 5μm,。其靈活的圖案編輯功能還支持實(shí)時(shí)優(yōu)化結(jié)構(gòu)參數(shù),，使器件研發(fā)周期從數(shù)周縮短至 24 小時(shí)，推動(dòng)超表面技術(shù)從理論走向集成光學(xué)應(yīng)用,。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。Polos-BESM XL：大尺寸加工空間,，保留緊湊設(shè)計(jì)，科研級(jí)精度實(shí)現(xiàn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)一次性成型,。

德國(guó) Polos 光刻機(jī)系列的一大突出優(yōu)勢(shì),，便是能夠輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。在科研工作中,，創(chuàng)新的設(shè)計(jì)理念往往需要快速驗(yàn)證,，而 Polos 光刻機(jī)正滿(mǎn)足了這一需求�,？蒲腥藛T無(wú)需花費(fèi)大量時(shí)間和成本制作掩模,，只需將設(shè)計(jì)圖案導(dǎo)入系統(tǒng)，就能迅速開(kāi)始光刻作業(yè),。 在生物醫(yī)學(xué)工程領(lǐng)域,，研究人員利用這一特性，快速制作出具有特殊結(jié)構(gòu)的生物芯片,，用于疾病診斷和藥物篩選,。在材料科學(xué)研究中，可根據(jù)不同材料特性,，定制獨(dú)特的圖案結(jié)構(gòu),，探索材料的新性能。這種靈活的圖案輸入方式，remarkable縮短了科研周期,，加速科研成果的產(chǎn)出,，讓科研人員能夠?qū)⒏�多精力投入到�?chuàng)新研究中�,？蒲谐晒�轉(zhuǎn)化：中科院利用同類(lèi)技術(shù)制備跨尺度微盤(pán)陣列,，研究細(xì)胞浸潤(rùn)機(jī)制。四川POLOSBEAM-XL光刻機(jī)分辨率1.5微米

Polos-BESM：基礎(chǔ)款高性?xún)r(jià)比,，適合高校實(shí)驗(yàn)室基礎(chǔ)微納加工,。北京德國(guó)PSP-POLOS光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化

可編程微流控芯片需要集成電路控制與流體通道，傳統(tǒng)工藝需多次掩模對(duì)準(zhǔn),，良率only 30%,。Polos 光刻機(jī)的多材料同步曝光技術(shù)，支持在同一塊基板上直接制備金屬電極與 PDMS 通道,，將良率提升至 85%,。某微系統(tǒng)實(shí)驗(yàn)室利用該特性，開(kāi)發(fā)出可實(shí)時(shí)切換流路的生化分析芯片,，通過(guò)軟件輸入不同圖案,，10 分鐘內(nèi)即可完成從 DNA 擴(kuò)增到蛋白質(zhì)檢測(cè)的模塊切換。該成果應(yīng)用于 POCT 設(shè)備,，使現(xiàn)場(chǎng)快速檢測(cè)系統(tǒng)的體積縮小 60%,，檢測(cè)時(shí)間縮短至傳統(tǒng)方法的 1/3。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。北京德國(guó)PSP-POLOS光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化