• YK-300 正性光刻膠：分辨率達(dá) 0.35μm,，線寬粗糙度（LWR）≤3nm,，適用于 45nm 及以上制程，良率達(dá) 98% 以上,，成本較進(jìn)口產(chǎn)品降低 40%,，已通過(guò)中芯國(guó)際量產(chǎn)驗(yàn)證。
• SU-3 負(fù)性光刻膠：支持 3μm 厚膜加工,，抗深蝕刻速率 > 500nm/min,，成功應(yīng)用于高通 5G 基帶芯片封裝，良率提升至 98.5%,。
• JT-2000 納米壓印光刻膠：突破 250℃耐高溫極限,，圖形保真度 > 95%，性能對(duì)標(biāo)德國(guó) MicroResist 系列,，已應(yīng)用于國(guó)產(chǎn) EUV 光刻機(jī)前道工藝,。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢(shì),，適用于不同領(lǐng)域,。

厚板光刻膠 JT - 3006：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好,，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),，保質(zhì)期 1 年。需保存在干燥區(qū)域并密封,，使用前要閱讀參考技術(shù)資料,。適用于厚板的光刻加工，在對(duì)精度,、感光度和抗蝕刻要求高的生產(chǎn)場(chǎng)景中發(fā)揮作用,，如特定的電路板制造領(lǐng)域。

水油光刻膠 SR - 3303：適用于光學(xué)儀器,、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域的光刻工藝,。品質(zhì)保障、性能穩(wěn)定的特點(diǎn),，由工廠研發(fā)且支持定制,，工廠直銷。 天津激光光刻膠多少錢吉田半導(dǎo)體強(qiáng)化研發(fā),，布局下一代光刻技術(shù),。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司以光刻膠為中心,，逐步拓展至半導(dǎo)體全材料領(lǐng)域，形成了 “技術(shù)驅(qū)動(dòng),、全產(chǎn)業(yè)鏈覆蓋” 的發(fā)展格局,。公司產(chǎn)品不僅包括芯片與 LCD 光刻膠，還延伸至錫膏,、焊片,、靶材等配套材料，為客戶提供一站式采購(gòu)服務(wù),。

• 產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球 50 多個(gè)地區(qū),，客戶包括電子制造服務(wù)商（EMS）及半導(dǎo)體廠商。
• 獲評(píng) “廣東省專精特新企業(yè)”“廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè)”,，并通過(guò)技術(shù)企業(yè)認(rèn)證,。
• 生產(chǎn)基地配備自動(dòng)化設(shè)備，年產(chǎn)能超千噸,，滿足大規(guī)模訂單需求,。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢(shì),，適用于不同領(lǐng)域,。

厚板光刻膠 JT - 3001：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好,。符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),，保質(zhì)期 1 年，適用于對(duì)光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場(chǎng)景,，如一些特殊的電路板制造,。

SU - 3 負(fù)性光刻膠：分辨率優(yōu)異，對(duì)比度良好,，曝光靈敏度高,，光源適應(yīng)。重量為 100g,，常用于對(duì)曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工,、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。

液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000：有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,，具有優(yōu)異的分辨率,，準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好。主要應(yīng)用于液晶平板顯示器的制造,，能滿足其對(duì)光刻膠高精度和穩(wěn)定性的需求,。

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠：耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿，耐高溫達(dá) 250°C,，長(zhǎng)期可靠性高,，粘接強(qiáng)度高。重量 100g,，適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝,，如一些半導(dǎo)體器件的制造。 發(fā)展戰(zhàn)略與行業(yè)地位,。合肥激光光刻膠工廠

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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，主要涵蓋厚板,、負(fù)性、正性,、納米壓印及光刻膠等類別,，以滿足不同領(lǐng)域的需求。

UV 納米壓印光刻膠：JT-2000 型號(hào)，耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,，耐高溫達(dá) 250°C,，長(zhǎng)期可靠性高，粘接強(qiáng)度高,，重量 100g,。適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝，如半導(dǎo)體器件制造,。

其他光刻膠

• 水油光刻膠 JT-2001：屬于水油兩用光刻膠,，具有工廠研發(fā)、可定制,、使用,、品質(zhì)保障、性能穩(wěn)定的特點(diǎn),，重量 1L,。
• 水油光刻膠 SR-3308：同樣為水油兩用光刻膠，重量 5L,，具備上述通用優(yōu)勢(shì),，應(yīng)用場(chǎng)景。

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