廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，各有特性與優(yōu)勢(shì),，適用于不同領(lǐng)域。
厚板光刻膠 JT - 3006：具有優(yōu)異的分辨率和感光度,，抗深蝕刻性能良好,，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年,。需保存在干燥區(qū)域并密封,，使用前要閱讀參考技術(shù)資料,。適用于厚板的光刻加工，在對(duì)精度,、感光度和抗蝕刻要求高的生產(chǎn)場(chǎng)景中發(fā)揮作用,，如特定的電路板制造領(lǐng)域。
水油光刻膠 SR - 3303：適用于光學(xué)儀器,、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域的光刻工藝,。品質(zhì)保障、性能穩(wěn)定的特點(diǎn),，由工廠研發(fā)且支持定制,，工廠直銷(xiāo)。
吉田半導(dǎo)體全系列產(chǎn)品覆蓋,，滿足多元化需求,。濟(jì)南厚膜光刻膠供應(yīng)商
差異化競(jìng)爭(zhēng)策略
在高級(jí)市場(chǎng)（如ArF浸沒(méi)式光刻膠），吉田半導(dǎo)體采取跟隨式創(chuàng)新,，通過(guò)優(yōu)化現(xiàn)有配方（如提高酸擴(kuò)散抑制效率）逐步縮小與國(guó)際巨頭的差距,；在中低端市場(chǎng)（如PCB光刻膠），則憑借性?xún)r(jià)比優(yōu)勢(shì)（價(jià)格較進(jìn)口產(chǎn)品低20%-30%）快速搶占份額,，2023年P(guān)CB光刻膠市占率突破10%,。
前沿技術(shù)儲(chǔ)備
公司設(shè)立納米材料研發(fā)中心，重點(diǎn)攻關(guān)分子玻璃光刻膠和金屬有機(jī)框架（MOF）光刻膠,，目標(biāo)在5年內(nèi)實(shí)現(xiàn)EUV光刻膠的實(shí)驗(yàn)室級(jí)突破。此外,，其納米壓印光刻膠已應(yīng)用于3D NAND存儲(chǔ)芯片的孔陣列加工,，分辨率達(dá)10nm，為國(guó)產(chǎn)存儲(chǔ)廠商提供了替代方案,。
四川水性光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家松山湖光刻膠廠家吉田,，2000 萬(wàn)級(jí)產(chǎn)能，48 小時(shí)極速交付!
定義與特性
負(fù)性光刻膠是一種在曝光后,，未曝光區(qū)域會(huì)溶解于顯影液的光敏材料,，形成與掩膜版（Mask）圖案相反的圖形。與正性光刻膠相比,，其主要特點(diǎn)是耐蝕刻性強(qiáng),、工藝簡(jiǎn)單、成本低,，但分辨率較低（通�,！�1μm），主要應(yīng)用于對(duì)精度要求相對(duì)較低,、需要厚膠或高耐腐蝕性的場(chǎng)景,。
化學(xué)組成與工作原理
主要成分
基體樹(shù)脂：
早期以聚異戊二烯橡膠（天然或合成）為主,，目前常用環(huán)化橡膠（Cyclized Rubber）或聚乙烯醇肉桂酸酯，提供膠膜的機(jī)械強(qiáng)度和耐蝕刻性,。
光敏劑：
主要為雙疊氮化合物（如雙疊氮芪）或重氮醌類(lèi)衍生物,，占比約5%-10%，吸收紫外光后引發(fā)交聯(lián)反應(yīng),。
交聯(lián)劑：
如六亞甲基四胺（烏洛托品）,，在曝光后與樹(shù)脂發(fā)生交聯(lián)，形成不溶性網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),。
溶劑：
多為有機(jī)溶劑（如二甲苯,、環(huán)己酮），溶解樹(shù)脂和光敏劑,，涂布后揮發(fā)形成均勻膠膜,。
工作原理
曝光前：光敏劑和交聯(lián)劑均勻分散在樹(shù)脂中，膠膜可溶于顯影液（有機(jī)溶劑）,。
曝光時(shí)：
光敏劑吸收紫外光（G線436nm為主）后產(chǎn)生活性自由基,，引發(fā)交聯(lián)劑與樹(shù)脂分子間的共價(jià)鍵交聯(lián)，使曝光區(qū)域形成不溶于顯影液的三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),。
顯影后：
未曝光區(qū)域的樹(shù)脂因未交聯(lián),，被顯影液溶解去除，曝光區(qū)域保留,，形成負(fù)性圖案（與掩膜版相反）,。
吉田半導(dǎo)體的自研產(chǎn)品已深度融入國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈：
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芯片制造：YK-300 光刻膠服務(wù)中芯國(guó)際、長(zhǎng)江存儲(chǔ),，支持國(guó)產(chǎn) 14nm 芯片量產(chǎn),。
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顯示面板：YK-200 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%，成為京東方,、華星光電戰(zhàn)略合作伙伴,。
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新能源領(lǐng)域：無(wú)鹵無(wú)鉛焊片通過(guò) UL 認(rèn)證，批量應(yīng)用于寧德時(shí)代儲(chǔ)能系統(tǒng),，年供貨量超 500 噸,。
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研發(fā)投入：年研發(fā)費(fèi)用占比超 15%，承擔(dān)國(guó)家 02 專(zhuān)項(xiàng)課題,，獲 “國(guó)家技術(shù)發(fā)明二等獎(jiǎng)”,。
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產(chǎn)能規(guī)模：光刻膠年產(chǎn)能 5000 噸，納米壓印光刻膠占全球市場(chǎng)份額 15%,。
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質(zhì)量體系：通過(guò) ISO9001,、IATF 16949 等認(rèn)證，生產(chǎn)過(guò)程執(zhí)行 8S 管理，批次穩(wěn)定性達(dá) 99.5%,。
吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)聚焦光刻膠研發(fā),，加速 EUV 光刻膠與木基材料技術(shù)突破，目標(biāo)在 2027 年前實(shí)現(xiàn) 7nm 制程材料量產(chǎn),。同時(shí),，深化國(guó)產(chǎn)供應(yīng)鏈協(xié)同，構(gòu)建 “材料 - 設(shè)備 - 工藝” 一體化生態(tài)圈,，為中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主化貢獻(xiàn) “吉田力量”,。
從突破國(guó)際壟斷到行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，吉田半導(dǎo)體以自研自產(chǎn)為引擎,，走出了一條中國(guó)半導(dǎo)體材料企業(yè)的崛起之路,。未來(lái)，公司將以更具競(jìng)爭(zhēng)力的產(chǎn)品與技術(shù),，助力中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁向更高臺(tái)階,。
納米級(jí)圖案化的主要工具。
工藝流程
目的：去除基板表面油污,、顆粒,，增強(qiáng)感光膠附著力。
方法：
化學(xué)清洗（硫酸/雙氧水,、去離子水）,；
表面處理（硅基板用六甲基二硅氮烷HMDS疏水化，PCB基板用粗化處理）,。
涂布（Coating）
方式：
旋涂：半導(dǎo)體/顯示領(lǐng)域,，厚度控制精確（納米至微米級(jí)），轉(zhuǎn)速500-5000rpm,；
噴涂/輥涂：PCB/MEMS領(lǐng)域,，適合大面積或厚膠（微米至百微米級(jí)，如負(fù)性膠可達(dá)100μm）,。
關(guān)鍵參數(shù)：膠液黏度、涂布速度,、基板溫度（影響厚度均勻性）,。
前烘（Soft Bake）
目的：揮發(fā)溶劑，固化膠膜,，增強(qiáng)附著力和穩(wěn)定性,。
條件：
溫度：60-120℃（正性膠通常更低，如90℃,；負(fù)性膠可至100℃以上）,；
時(shí)間：5-30分鐘（根據(jù)膠厚調(diào)整，厚膠需更長(zhǎng)時(shí)間）。
曝光（Exposure）
光源：
紫外光（UV）：G線（436nm）,、I線（365nm）用于傳統(tǒng)光刻（分辨率≥1μm）,；
深紫外（DUV）：248nm（KrF）、193nm（ArF）用于半導(dǎo)體先進(jìn)制程（分辨率至20nm）,；
極紫外（EUV）：13.5nm,，用于7nm以下制程（只能正性膠適用）。
曝光方式：
接觸式/接近式：掩膜版與膠膜直接接觸（PCB,、MEMS,，低成本但精度低）；
投影式：通過(guò)物鏡聚焦（半導(dǎo)體,，分辨率高,，如ArF光刻機(jī)精度達(dá)22nm）。
聚焦封裝需求,，吉田公司提供從光刻膠到配套材料的一姑式服務(wù),。濟(jì)南厚膜光刻膠供應(yīng)商
正性光刻膠的工藝和應(yīng)用場(chǎng)景。濟(jì)南厚膜光刻膠供應(yīng)商
關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體制造：
在晶圓表面涂覆光刻膠,，通過(guò)掩膜曝光,、顯影，刻蝕出晶體管,、電路等納米級(jí)結(jié)構(gòu)（如EUV光刻膠用于7nm以下制程）,。
印刷電路板（PCB）：
保護(hù)電路圖形或作為蝕刻抗蝕層，制作線路和焊盤(pán),。
顯示面板（LCD/OLED）：
用于制備彩色濾光片,、電極圖案等。
微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）：
加工微結(jié)構(gòu)（如傳感器,、執(zhí)行器）,。
工作原理（以正性膠為例）
1. 涂膠：在基材（如硅片）表面均勻旋涂光刻膠，烘干形成薄膜,。
2. 曝光：通過(guò)掩膜版,，用特定波長(zhǎng)光線照射，曝光區(qū)域的光敏劑分解,，使樹(shù)脂變得易溶于顯影液,。
3. 顯影：用顯影液溶解曝光區(qū)域，留下未曝光的光刻膠圖案,，作為后續(xù)刻蝕或離子注入的掩蔽層,。
4. 后續(xù)工藝：刻蝕基材（保留未被光刻膠保護(hù)的區(qū)域），或去除光刻膠（剝離工藝）,。
濟(jì)南厚膜光刻膠供應(yīng)商
