吉田半導(dǎo)體納米壓印光刻膠 JT-2000：國產(chǎn)技術(shù)突破耐高溫極限
自主研發(fā) JT-2000 納米壓印光刻膠耐受 250℃高溫，為國產(chǎn)納米器件制造提供關(guān)鍵材料,。吉田半導(dǎo)體 JT-2000 納米壓印光刻膠采用國產(chǎn)交聯(lián)樹脂,，在 250℃高溫下仍保持圖形保真度 > 95%。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與全自動化工藝,，其高粘接強度與耐強酸強堿特性，適用于光學(xué)元件,、傳感器等精密器件,。產(chǎn)品已通過國內(nèi)科研機構(gòu)驗證，應(yīng)用于國產(chǎn) EUV 光刻機前道工藝,，幫助客戶實現(xiàn)納米結(jié)構(gòu)加工自主化,。
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工藝流程
目的：去除基板表面油污,、顆粒，增強感光膠附著力,。
方法：
化學(xué)清洗（硫酸/雙氧水,、去離子水）；
表面處理（硅基板用六甲基二硅氮烷HMDS疏水化,，PCB基板用粗化處理）,。
涂布（Coating）
方式：
旋涂：半導(dǎo)體/顯示領(lǐng)域，厚度控制精確（納米至微米級）,，轉(zhuǎn)速500-5000rpm,；
噴涂/輥涂：PCB/MEMS領(lǐng)域，適合大面積或厚膠（微米至百微米級,，如負(fù)性膠可達(dá)100μm）,。
關(guān)鍵參數(shù)：膠液黏度、涂布速度,、基板溫度（影響厚度均勻性）,。
前烘（Soft Bake）
目的：揮發(fā)溶劑，固化膠膜,，增強附著力和穩(wěn)定性,。
條件：
溫度：60-120℃（正性膠通常更低，如90℃,；負(fù)性膠可至100℃以上）,；
時間：5-30分鐘（根據(jù)膠厚調(diào)整，厚膠需更長時間）。
曝光（Exposure）
光源：
紫外光（UV）：G線（436nm）,、I線（365nm）用于傳統(tǒng)光刻（分辨率≥1μm）,；
深紫外（DUV）：248nm（KrF）、193nm（ArF）用于半導(dǎo)體先進(jìn)制程（分辨率至20nm）,；
極紫外（EUV）：13.5nm,，用于7nm以下制程（只能正性膠適用）。
曝光方式：
接觸式/接近式：掩膜版與膠膜直接接觸（PCB,、MEMS,，低成本但精度低）；
投影式：通過物鏡聚焦（半導(dǎo)體,，分辨率高,，如ArF光刻機精度達(dá)22nm）。
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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢,，適用于不同領(lǐng)域,。
厚板光刻膠 JT - 3001：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好,。符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),，保質(zhì)期 1 年，適用于對光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場景,，如一些特殊的電路板制造,。
SU - 3 負(fù)性光刻膠：分辨率優(yōu)異，對比度良好,，曝光靈敏度高,，光源適應(yīng)。重量為 100g,，常用于對曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工,、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。
液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000：有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,，具有優(yōu)異的分辨率,，準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好。主要應(yīng)用于液晶平板顯示器的制造,，能滿足其對光刻膠高精度和穩(wěn)定性的需求,。
JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠：耐強酸強堿，耐高溫達(dá) 250°C,，長期可靠性高,，粘接強度高,。重量 100g，適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝,，如一些半導(dǎo)體器件的制造,。
研發(fā)投入
擁有自己實驗室和研發(fā)團隊，研發(fā)費用占比超15%,，聚焦EUV光刻膠前驅(qū)體,、低缺陷納米壓印膠等前沿領(lǐng)域，與中山大學(xué),、華南理工大學(xué)建立產(chǎn)學(xué)研合作,。
專項布局：累計申請光刻膠相關(guān)的項目30余項，涵蓋樹脂合成,、配方優(yōu)化,、涂布工藝等細(xì)致環(huán)節(jié)。
生產(chǎn)體系
全自動化產(chǎn)線：采用德國曼茨（Manz）涂布設(shè)備,、日本島津（Shimadzu）檢測儀器，年產(chǎn)能超500噸（光刻膠）,，支持小批量定制（小訂單100g）和大規(guī)模量產(chǎn),。
潔凈環(huán)境：生產(chǎn)車間達(dá)萬級潔凈標(biāo)準(zhǔn)（ISO 8級），避免顆粒污染,，確保光刻膠缺陷密度<5個/cm,。
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憑借多年研發(fā)積累,，公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料,、電子膠等領(lǐng)域的豐富產(chǎn)品線,。在焊接材料方面，不僅提供常規(guī)錫膏,、助焊膏,，還針對特殊場景開發(fā)了 BGA 助焊膏、針筒錫膏等定制化產(chǎn)品,，滿足精密電子組裝的多樣化需求,。同時，感光膠系列產(chǎn)品分為水性與油性兩類,，兼具耐潮性與易操作性,，廣泛應(yīng)用于印刷電路板制造。
公司產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球,，并與多家跨國企業(yè)及電子加工企業(yè)建立長期合作關(guān)系,。通過在重點區(qū)域設(shè)立辦事處,，提供快速響應(yīng)的技術(shù)支持與售后服務(wù)。依托東莞 “世界工廠” 的產(chǎn)業(yè)資源,，公司強化供應(yīng)鏈協(xié)同,，縮短交付周期，為客戶提供高效解決方案,。
未來,，廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司將繼續(xù)深化技術(shù)創(chuàng)新，拓展產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域,，以可靠的產(chǎn)品與專業(yè)的服務(wù),，持續(xù)鞏固其在半導(dǎo)體材料行業(yè)的重要地位。
吉田半導(dǎo)體：以技術(shù)革新驅(qū)動光刻膠產(chǎn)業(yè)升級,。中山納米壓印光刻膠多少錢
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納米制造與表面工程
納米結(jié)構(gòu)模板：作為納米壓印光刻（NIL）的母版制備材料，通過電子束光刻膠寫出高精度納米圖案（如50nm以下的柱陣列,、孔陣列）,，用于批量復(fù)制微流控芯片或柔性顯示基板。
表面功能化：在基底表面構(gòu)建納米級粗糙度（如仿生荷葉超疏水表面）或化學(xué)圖案（引導(dǎo)細(xì)胞定向生長的納米溝槽）,，用于生物醫(yī)學(xué)或能源材料（如電池電極的納米陣列結(jié)構(gòu)）,。
量子技術(shù)與精密測量
超導(dǎo)量子比特：在鈮酸鋰或硅基底上，通過光刻膠定義納米級約瑟夫森結(jié)陣列,，構(gòu)建量子電路,。
納米傳感器：制備納米級懸臂梁（表面鍍光刻膠圖案化的金屬電極），用于探測單個分子的質(zhì)量或電荷變化（分辨率達(dá)亞納米級）,。
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