IQAligner®NT曝光設(shè)定：硬接觸/軟接觸/接近模式/柔性模式楔形補(bǔ)償：全自動(dòng)軟件控制；非接觸式IQAligner®NT曝光選項(xiàng)：間隔曝光/洪水曝光先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能：自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)暗場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)功能/完整的明場(chǎng)掩模移動(dòng)（FCMM）大間隙對(duì)準(zhǔn)跳動(dòng)控制對(duì)準(zhǔn)IQAligner®NT系統(tǒng)控制：操作系統(tǒng)：Windows文件共享和備份解決方案/無(wú)限制程序和參數(shù)多語(yǔ)言用戶GUI和支持：CN,，DE,，F(xiàn)R,，IT,，JP,，KR實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問(wèn),，診斷和故障排除如果您需要確認(rèn)準(zhǔn)確的產(chǎn)品的信息,，請(qǐng)聯(lián)系我們,。如果需要鍵合機(jī),，請(qǐng)看官網(wǎng)信息。OmniSpray涂層技術(shù)是對(duì)高形晶圓表面進(jìn)行均勻涂層,。廣東半導(dǎo)體光刻機(jī)

   EVG®105—晶圓烘烤模塊設(shè)計(jì)理念：?jiǎn)螜C(jī)EVG®105烘烤模塊是專(zhuān)為軟或后曝光烘烤過(guò)程而設(shè)計(jì),。特點(diǎn)：可以在EVG105烘烤模塊上執(zhí)行軟烘烤，曝光后烘烤和硬烘烤過(guò)程,。受控的烘烤環(huán)境可確保均勻蒸發(fā),。可編程的接近銷(xiāo)可提供對(duì)光刻膠硬化過(guò)程和溫度曲線的蕞佳控制,。EVG105烘烤模塊可以同時(shí)處理300mm的晶圓尺寸或4個(gè)100mm的晶圓,。特征獨(dú)力烘烤模塊晶片尺寸蕞大為300毫米，或同時(shí)蕞多四個(gè)100毫米晶片溫度均勻性≤±1°C@100°C,，蕞高250°C烘烤溫度用于手動(dòng)和安全地裝載/卸載晶片的裝載銷(xiāo)烘烤定時(shí)器基材真空（直接接觸烘烤）N2吹掃和近程烘烤0-1mm距離晶片至加熱板可選不規(guī)則形狀的基材技術(shù)數(shù)據(jù)晶圓直徑（基板尺寸）：高達(dá)300毫米烤盤(pán)：溫度范圍：≤250°C手動(dòng)將升降桿調(diào)整到所需的接近間隙,。氮化鎵光刻機(jī)推薦產(chǎn)品EVG620 NT / EVG6200 NT可從手動(dòng)到自動(dòng)的基片處理，能夠?qū)崿F(xiàn)現(xiàn)場(chǎng)升級(jí),。

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的技術(shù)數(shù)據(jù)：可用模塊：旋涂/OmniSpray®/開(kāi)發(fā)分配選項(xiàng)：各種光刻膠分配泵,，可覆蓋高達(dá)52000cP的粘度；液體底漆/預(yù)濕/洗盤(pán),；去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）,；恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)。智能過(guò)程控制和數(shù)據(jù)分析功能（框架軟件平臺(tái)）用于過(guò)程和機(jī)器控制的集成分析功能并行任務(wù)/排隊(duì)任務(wù)處理功能,，提高效率設(shè)備和過(guò)程性能跟宗功能：智能處理功能,；事/故和警報(bào)分析/智能維護(hù)管理和跟宗晶圓直徑（基板尺寸）：高達(dá)300毫米

IQAligner工業(yè)自動(dòng)化功能：盒式磁帶/SMIF/FOUP/SECS/GEM/薄，彎曲,，翹曲,，邊緣晶圓處理晶圓直徑（基板尺寸）：高達(dá)200毫米對(duì)準(zhǔn)方式：上側(cè)對(duì)準(zhǔn)：≤±0.5μm底側(cè)對(duì)準(zhǔn)：≤±1,0μm紅外校準(zhǔn)：≤±2,0μm/具體取決于基板材料曝光設(shè)定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式曝光選項(xiàng)：間隔曝光/洪水曝光系統(tǒng)控制操作系統(tǒng)：Windows文件共享和備份解決方案/無(wú)限制程序和參數(shù)多語(yǔ)言用戶GUI和支持：CN，DE，F(xiàn)R,，IT,，JP，KR實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問(wèn),，診斷和故障排除產(chǎn)能全自動(dòng)：弟一批生產(chǎn)量：每小時(shí)85片全自動(dòng)：吞吐量對(duì)準(zhǔn)：每小時(shí)80片EVG101是光刻膠處理,，EVG105是光刻膠烘焙機(jī)，EVG120,、EVG150是光刻膠處理自動(dòng)化系統(tǒng),。

集成化光刻系統(tǒng)HERCULES光刻量產(chǎn)軌道系統(tǒng)通過(guò)完全集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合了掩模對(duì)準(zhǔn)和曝光以及集成的預(yù)處理和后處理功能的高度自動(dòng)化，完善了EVG光刻產(chǎn)品系列,。HERCULES光刻軌道系統(tǒng)基于模塊化平臺(tái),，將EVG已建立的光學(xué)掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)與集成的清潔，光刻膠涂層,，烘烤和光刻膠顯影模塊相結(jié)合,。這使HERCULES平臺(tái)變成了“一站式服務(wù)”，在這里將經(jīng)過(guò)預(yù)處理的晶圓裝載到工具中,，然后返回完全結(jié)構(gòu)化的經(jīng)過(guò)處理的晶圓,。目前可以預(yù)定的型號(hào)為：HERCULES。請(qǐng)?jiān)L問(wèn)官網(wǎng)獲取更多的信息,。HERCULES的橋接工具系統(tǒng)可對(duì)多種尺寸的晶圓進(jìn)行易碎,，薄或翹曲的晶圓處理。襯底光刻機(jī)有哪些應(yīng)用

在全球范圍內(nèi),，我們?yōu)樵S多用戶提供了量產(chǎn)型的光刻機(jī)系統(tǒng),，并得到了他們的無(wú)數(shù)好評(píng)。廣東半導(dǎo)體光刻機(jī)

這使得可以在工業(yè)水平上開(kāi)發(fā)新的設(shè)備或工藝,，這不僅需要高度的靈活性,，而且需要可控和可重復(fù)的處理。EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗(yàn),，并將這些知識(shí)技能整合到EVG100系列中,，可以利用我們的工藝知識(shí)為客戶提供支持。光刻膠處理設(shè)備有：EVG101光刻膠處理,，EVG105光刻膠烘焙機(jī),，EVG120光刻膠處理自動(dòng)化系統(tǒng)；EVG150光刻膠處理自動(dòng)化系統(tǒng),。如果您需要了解每個(gè)型號(hào)的特點(diǎn)和參數(shù),，請(qǐng)聯(lián)系我們，我們會(huì)給您提供蕞新的資料,?；蛘咴L問(wèn)我們的官網(wǎng)獲取相關(guān)信息。廣東半導(dǎo)體光刻機(jī)

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司一直專(zhuān)注于磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口,、傭金代理（拍賣(mài)除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù) ,，是一家儀器儀表的企業(yè)，擁有自己**的技術(shù)體系,。公司目前擁有較多的高技術(shù)人才,，以不斷增強(qiáng)企業(yè)重點(diǎn)競(jìng)爭(zhēng)力，加快企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新,，實(shí)現(xiàn)穩(wěn)健生產(chǎn)經(jīng)營(yíng),。公司業(yè)務(wù)范圍主要包括：半導(dǎo)體工藝設(shè)備，半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,，光刻機(jī) 鍵合機(jī),，膜厚測(cè)量?jī)x等。公司奉行顧客至上,、質(zhì)量為本的經(jīng)營(yíng)宗旨,，深受客戶好評(píng)。公司力求給客戶提供全數(shù)良好服務(wù),，我們相信誠(chéng)實(shí)正直,、開(kāi)拓進(jìn)取地為公司發(fā)展做正確的事情，將為公司和個(gè)人帶來(lái)共同的利益和進(jìn)步,。經(jīng)過(guò)幾年的發(fā)展,，已成為半導(dǎo)體工藝設(shè)備，半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,，光刻機(jī) 鍵合機(jī),，膜厚測(cè)量?jī)x行業(yè)出名企業(yè)。