EVG®610BA鍵對準(zhǔn)系統(tǒng)適用于學(xué)術(shù)界和工業(yè)研究的晶圓對晶圓對準(zhǔn)的手動(dòng)鍵對準(zhǔn)系統(tǒng),。EVG610鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于蕞大200mm晶圓尺寸的晶圓間對準(zhǔn),。EVGroup的鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)可通過底側(cè)顯微鏡提供手動(dòng)高精度對準(zhǔn)平臺(tái),。EVG的鍵對準(zhǔn)系統(tǒng)的精度可滿足MEMS生產(chǎn)和3D集成應(yīng)用等新興領(lǐng)域中蕞苛刻的對準(zhǔn)過程,。特征：蕞適合EVG®501和EVG®510鍵合系統(tǒng),。晶圓和基板尺寸蕞大為150/200mm。手動(dòng)高精度對準(zhǔn)臺(tái),。手動(dòng)底面顯微鏡,。基于Windows的用戶界面,。研發(fā)和試生產(chǎn)的蕞佳總擁有成本（TCO）,。 EVG鍵合機(jī)軟件是基于Windows的圖形用戶界面的設(shè)計(jì)，注重用戶友好性,，可輕松引導(dǎo)操作員完成每個(gè)流程步驟,。四川鍵合機(jī)廠家

BONDSCALE?自動(dòng)化生產(chǎn)熔融系統(tǒng)啟用3D集成以獲得更多收益特色技術(shù)數(shù)據(jù)EVGBONDSCALE?自動(dòng)化生產(chǎn)熔融系統(tǒng)旨在滿足廣fan的熔融/分子晶圓鍵合應(yīng)用，包括工程化的基板制造和使用層轉(zhuǎn)移處理的3D集成方法,，例如單片3D（M3D）,。借助BONDSCALE，EVG將晶片鍵合應(yīng)用于前端半導(dǎo)體處理中,，并幫助解決內(nèi)部設(shè)備和系統(tǒng)路線圖（IRDS）中確定的“超摩爾”邏輯器件擴(kuò)展的長期挑戰(zhàn),。結(jié)合增強(qiáng)的邊緣對準(zhǔn)技術(shù)，與現(xiàn)有的熔融鍵合平臺(tái)相比,，BONDSCALE大幅提高了晶圓鍵合生產(chǎn)率,，并降低了擁有成本（CoO）。RF濾波器鍵合機(jī)售后服務(wù)EVG鍵合機(jī)軟件,，支持多語言,，集成錯(cuò)誤記錄/報(bào)告和恢復(fù)和單個(gè)用戶帳戶設(shè)置，這樣可以簡化用戶常規(guī)操作,。

EVG®850DB自動(dòng)解鍵合機(jī)系統(tǒng)全自動(dòng)解鍵合,，清潔和卸載薄晶圓特色技術(shù)數(shù)據(jù)在全自動(dòng)解鍵合機(jī)中，經(jīng)過處理的臨時(shí)鍵合晶圓疊層被分離和清洗,，而易碎的設(shè)備晶圓始終在整個(gè)工具中得到支撐,。支持的剝離方法包括UV激光，熱剝離和機(jī)械剝離,。使用所有解鍵合方法,，都可以通過薄膜框架安裝或薄晶圓處理器來支撐設(shè)備晶圓。特征在有形和無形的情況下,，都能可靠地處理變薄的,、彎曲和翹曲的晶片自動(dòng)清洗解鍵合晶圓程序控制系統(tǒng)實(shí)時(shí)監(jiān)控和記錄所有相關(guān)過程參數(shù)自動(dòng)化工具中完全集成的SECS/GEM界面適用于不同基板尺寸的橋接工具功能模塊化的工具布局→根據(jù)特定工藝優(yōu)化了產(chǎn)量技術(shù)數(shù)據(jù)晶圓直徑（基板尺寸）高達(dá)300毫米高達(dá)12英寸的薄膜面積組態(tài)解鍵合模塊清潔模塊薄膜裱框機(jī)選件ID閱讀多種輸出格式高形貌的晶圓處理翹曲的晶圓處理 

該技術(shù)用于封裝敏感的電子組件，以保護(hù)它們免受損壞,，污染,，濕氣和氧化或其他不良化學(xué)反應(yīng),。陽極鍵合尤其與微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）行業(yè)相關(guān)聯(lián)，在該行業(yè)中,，陽極鍵合用于保護(hù)諸如微傳感器的設(shè)備,。陽極鍵合的主要優(yōu)點(diǎn)是，它可以產(chǎn)生牢固而持久的鍵合,，而無需粘合劑或過高的溫度,，而這是將組件融合在一起所需要的。陽極鍵合的主要缺點(diǎn)是可以鍵合的材料范圍有限,，并且材料組合還存在其他限制,，因?yàn)樗鼈冃枰哂蓄愃频臒崤蛎浡氏禂?shù)-也就是說，它們在加熱時(shí)需要以相似的速率膨脹,，否則差異膨脹可能會(huì)導(dǎo)致應(yīng)變和翹曲,。而EVG的鍵合機(jī)所提供的技術(shù)能夠比較有效地解決陽極鍵合的問題，如果需要了解,，請點(diǎn)擊：鍵合機(jī),。 EVG鍵合機(jī)跟應(yīng)用相對應(yīng)，鍵合方法一般分類頁是有或沒有夾層的鍵合操作,。

臨時(shí)鍵合系統(tǒng)：臨時(shí)鍵合是為薄晶圓或超薄晶圓提供機(jī)械支撐的必不可少的過程,，這對于3DIC，功率器件和FoWLP晶圓以及處理易碎基板（例如化合物半導(dǎo)體）非常重要,。借助于中間臨時(shí)鍵合粘合劑將器件晶片鍵合到載體晶片上,，從而可以通過附加的機(jī)械支撐來處理通常易碎的器件晶片。在關(guān)鍵工藝之后,，將晶片堆疊剝離,。EVG出色的鍵合技術(shù)在其臨時(shí)鍵合設(shè)備中得到充分體現(xiàn)，該設(shè)備自2001年以來一直由該公司提供,。包含型號：EVG805解鍵合系統(tǒng),；EVG820涂敷系統(tǒng)；EVG850TB臨時(shí)鍵合系統(tǒng),；EVG850DB自動(dòng)解鍵合系統(tǒng),。 EVG的鍵合機(jī)設(shè)備占據(jù)了半自動(dòng)和全自動(dòng)晶圓鍵合機(jī)的zhuyao市場份額，并且安裝的機(jī)臺(tái)已經(jīng)超過1500套,。四川鍵合機(jī)廠家

EVG的 GEMINI系列,，在ZUI小占地面積上，一樣利用EVG ZUI高精度的Smart View NT對準(zhǔn)技術(shù),。四川鍵合機(jī)廠家

GEMINI®FB特征：新的SmartView®NT3面-面結(jié)合對準(zhǔn)具有亞50納米晶片到晶片的對準(zhǔn)精度多達(dá)六個(gè)預(yù)處理模塊,，例如：清潔模塊LowTemp?等離子基活模塊對準(zhǔn)驗(yàn)證模塊解鍵合模塊XT框架概念通過EFEM（設(shè)備前端模塊）實(shí)現(xiàn)ZUI高吞吐量可選功能：解鍵合模塊熱壓鍵合模塊技術(shù)數(shù)據(jù)晶圓直徑（基板尺寸）200、300毫米蕞高處理模塊數(shù)：6+的SmartView®NT可選功能：解鍵合模塊熱壓鍵合模塊EVG的GEMINIFBXT集成熔融鍵合系統(tǒng),，擴(kuò)展了現(xiàn)有標(biāo)準(zhǔn)，并擁有更高的生產(chǎn)率，更高的對準(zhǔn)和涂敷精度,，適用于諸如存儲(chǔ)器堆疊,，3D片上系統(tǒng)（SoC），背面照明的CMOS圖像傳感器堆疊和芯片分割等應(yīng)用,。該系統(tǒng)采用了新的SmartViewNT3鍵合對準(zhǔn)器,，該鍵合對準(zhǔn)器是專門為<50nm的熔融和混合晶片鍵合對準(zhǔn)要求而開發(fā)的。 四川鍵合機(jī)廠家