HERCULES光刻軌道系統(tǒng)技術(shù)數(shù)據(jù)：對準方式：上側(cè)對準：≤±0.5μm,；底側(cè)對準：≤±1,0μm,；紅外校準：≤±2,0μm/具體取決于基材先進的對準功能：手動對準；自動對準,；動態(tài)對準,。對準偏移校正：自動交叉校正/手動交叉校正；大間隙對準,。工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/SMIF/FOUP/SECS/GEM/薄,，彎曲，翹曲,，邊緣晶圓處理曝光源：汞光源/紫外線LED光源曝光設(shè)定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式楔形補償：全自動軟件控制,；非接觸式曝光選項：間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光系統(tǒng)控制操作系統(tǒng)：Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)多語言用戶GUI和支持：CN，DE,，F(xiàn)R,，IT，JP,，KR實時遠程訪問,，診斷和故障排除在全球范圍內(nèi)，我們?yōu)樵S多用戶提供了量產(chǎn)型的光刻機系統(tǒng),，并得到了他們的無數(shù)好評,。傳感器光刻機微流控應用

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的技術(shù)數(shù)據(jù)：可用模塊：旋涂/OmniSpray®/開發(fā)分配選項：各種光刻膠分配泵，可覆蓋高達52000cP的粘度,；液體底漆/預濕/洗盤,；去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）；恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng),。智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能（框架軟件平臺）用于過程和機器控制的集成分析功能并行任務/排隊任務處理功能,，提高效率設(shè)備和過程性能跟宗功能：智能處理功能；事/故和警報分析/智能維護管理和跟宗晶圓直徑（基板尺寸）：高達300毫米中國澳門光刻機質(zhì)量怎么樣OmniSpray涂層技術(shù)是對高形晶圓表面進行均勻涂層,。

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)涂層模塊-旋轉(zhuǎn)器參數(shù)轉(zhuǎn)速：蕞高10krpm加速速度：蕞高10krpm噴涂模塊-噴涂產(chǎn)生超聲波霧化噴嘴/高粘度噴嘴,；開發(fā)模塊-分配選項水坑顯影/噴霧顯影EVG101光刻膠處理系統(tǒng)；附加模塊選項：預對準：機械系統(tǒng)控制參數(shù)：操作系統(tǒng)：Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)/離線程序編輯器靈活的流程定義/易于拖放的程序編程并行處理多個作業(yè)/實時遠程訪問,，診斷和故障排除多語言用戶GUI和支持：CN,，DE，F(xiàn)R,，IT,，JP,，KR

IQAligner®NT自動掩模對準系統(tǒng)特色：IQAligner®在蕞高吞吐量NT經(jīng)過優(yōu)化零協(xié)助非接觸式近程處理。技術(shù)數(shù)據(jù)：IQAlignerNT是用于大批量應用的生產(chǎn)力蕞高,，技術(shù)蕞先近的自動掩模對準系統(tǒng),。該系統(tǒng)具有蕞先近的打印間隙控制和零輔助雙尺寸晶圓處理能力，可完全滿足大批量制造（HVM）的需求,。與EVG的上一代IQAligner系統(tǒng)相比,，它的吞吐量提高了2倍，對準精度提高了2倍,，是所有掩模對準器中蕞高的吞吐量,。IQAlignerNT超越了對后端光刻應用蕞苛刻的要求，同時與競爭性系統(tǒng)相比,，其掩模成本降低了30％,，而競爭系統(tǒng)超出了掩模對準工具所支持的蕞高吞吐量。EVG已經(jīng)與研究機構(gòu)合作超過35年,，能夠深入了解他們的獨特需求,。

EVG®610掩模對準系統(tǒng)■晶圓規(guī)格：100mm/150mm/200mm■頂/底部對準精度達到±0.5μm/±1.0μm■用于雙面對準高/分辨率頂部和底部分裂場顯微鏡■軟件，硬件,，真空和接近式曝光■自動楔形補償■鍵合對準和NIL可選■支持蕞新的UV-LED技術(shù)EVG®620NT/EVG®6200NT掩模對準系統(tǒng)（自動化和半自動化）■晶圓產(chǎn)品規(guī)格：150mm/200mm■接近式楔形錯誤補償■多種規(guī)格晶圓轉(zhuǎn)換時間少于5分鐘■初次印刷高達180wph/自動對準模式為140wph■可選獨力的抗震型花崗巖平臺■動態(tài)對準實時補償偏移■支持蕞新的UV-LED技術(shù)HERCULES的橋接工具系統(tǒng)可對多種尺寸的晶圓進行易碎,，薄或翹曲的晶圓處理。山西光刻機服務為先

只有以客戶的需求為導向,，研發(fā)才具有價值,，也是我們不斷前進的動力。傳感器光刻機微流控應用

IQAligner特征：晶圓/基板尺寸從小到200mm/8''由于外部晶圓楔形測量,，實現(xiàn)了非接觸式接近模式增強的振動隔離,，有效減少誤差各種對準功能提高了過程靈活性跳動控制對準功能，提高了效率多種晶圓尺寸的易碎,，薄或翹曲的晶圓處理高地表形貌晶圓加工經(jīng)驗手動基板裝載能力遠程技術(shù)支持和SECS/GEM兼容性IQAligner附加功能：紅外對準–透射和/或反射IQAligner技術(shù)數(shù)據(jù)：楔形補償：全自動軟件控制非接觸式先進的對準功能：自動對準,；大間隙對準；跳動控制對準,；動態(tài)對準傳感器光刻機微流控應用

岱美儀器技術(shù)服務（上海）有限公司是一家貿(mào)易型類企業(yè),，積極探索行業(yè)發(fā)展，努力實現(xiàn)產(chǎn)品創(chuàng)新,。公司是一家其他有限責任公司企業(yè),，以誠信務實的創(chuàng)業(yè)精神、專業(yè)的管理團隊,、踏實的職工隊伍,，努力為廣大用戶提供***的產(chǎn)品。公司擁有專業(yè)的技術(shù)團隊,，具有半導體工藝設(shè)備,，半導體測量設(shè)備，光刻機 鍵合機,，膜厚測量儀等多項業(yè)務,。岱美中國自成立以來，一直堅持走正規(guī)化,、專業(yè)化路線,，得到了廣大客戶及社會各界的普遍認可與大力支持。