F50系列自動化薄膜測繪FilmetricsF50系列的產(chǎn)品能以每秒測繪兩個點的速度快速的測繪薄膜厚度。一個電動R-Theta平臺可接受標準和客制化夾盤，樣品直徑可達450毫米,。(耐用的平臺在我們的量產(chǎn)系統(tǒng)能夠執(zhí)行數(shù)百萬次的量測!)測繪圖案可以是極座標,、矩形或線性的,，您也可以創(chuàng)造自己的測繪方法,，并且不受測量點數(shù)量的限制,。內(nèi)建數(shù)十種預(yù)定義的測繪圖案。不同的F50儀器是根據(jù)波長范圍來加以區(qū)分的。標準的F50是很受歡迎的產(chǎn)品。一般較短的波長(例如，F(xiàn)50-UV)可用于測量較薄的薄膜,，而較長的波長則可以用來測量更厚、更不平整以及更不透明的薄膜,。 FSM拉曼的應(yīng)用：局部應(yīng)力； 局部化學(xué)成分,；局部損傷。官方授權(quán)分銷膜厚儀有哪些品牌

  其可測量薄膜厚度在1nm到1mm之間,，測量精度高達1埃,，測量穩(wěn)定性高達，測量時間只需一到二秒,并有手動及自動機型可選,?？蓱?yīng)用領(lǐng)域包括：生物醫(yī)學(xué)（Biomedical）,液晶顯示(Displays),硬涂層(Hardcoats),金屬膜(Metal),眼鏡涂層(Ophthalmic),聚對二甲笨(Parylene),電路板(PCBs&PWBs),多孔硅(PorousSilicon),光阻材料(ThickResist),半導(dǎo)體材料(Semiconductors),太陽光伏(Solarphotovoltaics),真空鍍層(VacuumCoatings),圈筒檢查(Webinspectionapplications)等。通過Filmetrics膜厚測量儀*新反射式光譜測量技術(shù),*多4層透明薄膜厚度,、n,、k值及粗糙度能在數(shù)秒鐘測得。其應(yīng)用光泛,，例如:半導(dǎo)體工業(yè):光阻,、氧化物、氮化物,。LCD工業(yè):間距(cellgaps),，ito電極、polyimide保護膜,。光電鍍膜應(yīng)用:硬化鍍膜,、抗反射鍍膜,、過濾片,。極易操作、快速,、準確、機身輕巧及價格便宜為其主要優(yōu)點,，F(xiàn)ilmetrics提供以下型號以供選擇:F20:這簡單入門型號有三種不同波長選擇(由220nm紫外線區(qū)至1700nm近紅外線區(qū))為任意攜帶型,，可以實現(xiàn)反射、膜厚,、n,、k值測量。F30:這型號可安裝在任何真空鍍膜機腔體外的窗口,?？蓪崟r監(jiān)控長晶速度、實時提供膜厚,、n,、k值。并可切定某一波長或固定測量時間間距,。ITO導(dǎo)電膜膜厚儀當(dāng)?shù)貎r格F50-NIR測厚范圍：100nm-250μm,；波長：950-1700nm。

集成電路故障分析故障分析(FA)技術(shù)用來尋找并確定集成電路內(nèi)的故障原因,。故障分析中需要進行薄膜厚度測量的兩種主要類型是正面去層(用于傳統(tǒng)的面朝上的電路封裝)和背面薄化(用于較新的覆晶技術(shù)正面朝下的電路封裝),。正面去層正面去層的工藝需要了解電介質(zhì)薄化后剩余電介質(zhì)的厚度。背面故障分析背面故障分析需要在電路系統(tǒng)成像前移除大部分硅晶粒的厚度,，并了解在每個薄化步驟后剩余的硅厚度是相當(dāng)關(guān)鍵的,。FilmetricsF3-sX是為了測量在不同的背面薄化過程的硅層厚度而專門設(shè)計的系統(tǒng)。厚度從5微米到1000微米能夠很容易的測量,，另外可選配模組來延伸蕞小測量厚度至0.1微米,，同時具有單點和多點測繪的版本可供選擇。測量范例現(xiàn)在我們使用我們的F3-s1550系統(tǒng)測量在不同的背面薄化過程的硅層厚度.具備特殊光學(xué)設(shè)計之F3-S1550利用比直徑更小於10μm的光斑尺寸得以測量拋光以及粗糙或不均勻表面的硅層厚度

電介質(zhì)成千上萬的電解質(zhì)薄膜被用于光學(xué),，半導(dǎo)體,，以及其它數(shù)十個行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜。常見的電介質(zhì)有:二氧化硅 – 蕞簡單的材料之一, 主要是因為它在大部分光譜上的無吸收性 (k=0),， 而且非常接近化學(xué)計量 (就是說,，硅：氧非常接近 1:2)。 受熱生長的二氧化硅對光譜反應(yīng)規(guī)范,，通常被用來做厚度和折射率標準,。 Filmetrics能測量3nm到1mm的二氧化硅厚度。氮化硅 – 對此薄膜的測量比很多電介質(zhì)困難,，因為硅：氮比率通常不是3：4, 而且折射率一般要與薄膜厚度同時測量,。 更麻煩的是，氧常常滲入薄膜,，生成一定程度的氮氧化硅,，增大測量難度,。 但是幸運的是，我們的系統(tǒng)能在幾秒鐘內(nèi) “一鍵” 測量氮化硅薄膜完整特征!只需按下一個按鈕,，您在不到一秒鐘的同時測量厚度和折射率,。

F10-AR易于使用而且經(jīng)濟有效地分析減反涂層和鏡頭上的硬涂層F10-AR是測試眼科減反涂層設(shè)計的儀器。雖然價格大達低于當(dāng)今絕大多數(shù)同類儀器,，應(yīng)用幾項技術(shù),，F(xiàn)10-AR使線上操作人員經(jīng)過幾分鐘的培訓(xùn)，就可以進行厚度測量,。在用戶定義的任何波長范圍內(nèi)都能進行蕞低,、蕞高和平均反射測試。我們有專門的算法對硬涂層的局部反射失真進行校正,。我們獨有的AutoBaseline能極大地增加基線間隔,，提供比其它光纖探頭反射儀高出五倍的精確度。利用可選的UPG-F10-AR-HC軟件升級能測量0.25-15um的硬涂層厚度,。在減反層存在的情況下也能對硬涂層厚度進行測量。 F10-AR在用戶定義的任何波長范圍內(nèi)都能進行蕞低,、蕞高和平均反射測試,。Filmetrics F10-ARc膜厚儀實際價格

F40-EXR范圍：20nm-120μm；波長：400-1700nm,。官方授權(quán)分銷膜厚儀有哪些品牌

測量有機發(fā)光顯示器有機發(fā)光顯示器(OLEDs)有機發(fā)光顯示器正迅速從實驗室轉(zhuǎn)向大規(guī)模生產(chǎn),。明亮，超薄,，動態(tài)的特性使它們成為從手機到電視顯示屏的手選,。組成顯示屏的多層薄膜的精密測量非常重要，但不能用傳統(tǒng)接觸型的輪廓儀,，因為它會破壞顯示屏表面,。我們的F20-UV，F(xiàn)40-UV,，和F10-RT-UV將提供廉價,，可靠，非侵入測量原型裝置和全像素化顯示屏,。我們的光譜儀還可以測量大氣敏感材料的化學(xué)變化,。測量透明導(dǎo)電氧化膜不論是銦錫氧化物，氧化鋅,，還是聚合物（3,4-乙烯基）,，我們獨有的ITO光學(xué)模型，加上可見/近紅外儀器,，可以測得厚度和光學(xué)常數(shù),，費用和操作難度瑾是光譜橢偏儀的一小部分,。官方授權(quán)分銷膜厚儀有哪些品牌

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于金高路2216弄35號6幢306-308室，是一家專業(yè)的磁記錄,、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù) 公司,。在岱美中國近多年發(fā)展歷史，公司旗下現(xiàn)有品牌EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Herzan,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB等,。公司堅持以客戶為中心,、磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù) 市場為導(dǎo)向,，重信譽,，保質(zhì)量，想客戶之所想,，急用戶之所急,，全力以赴滿足客戶的一切需要。誠實,、守信是對企業(yè)的經(jīng)營要求,，也是我們做人的基本準則。公司致力于打造***的半導(dǎo)體工藝設(shè)備,，半導(dǎo)體測量設(shè)備,，光刻機 鍵合機，膜厚測量儀,。