EVG®6200鍵合機(jī)選件 自動對準(zhǔn) 紅外對準(zhǔn)，用于內(nèi)部基板鍵對準(zhǔn) NanoAlign®包增強(qiáng)加工能力 可與系統(tǒng)機(jī)架一起使用 掩模對準(zhǔn)器的升級可能性 技術(shù)數(shù)據(jù) 常規(guī)系統(tǒng)配置 桌面 系統(tǒng)機(jī)架：可選 隔振：被動 對準(zhǔn)方法 背面對準(zhǔn)：±2μm3σ 透明對準(zhǔn)：±1μm3σ 紅外校準(zhǔn)：選件 對準(zhǔn)階段 精密千分尺：手動 可選：電動千分尺 楔形補(bǔ)償：自動 基板/晶圓參數(shù) 尺寸：2英寸,，3英寸,，100毫米,，150毫米,，200毫米 厚度：0.1-10毫米 蕞/高堆疊高度：10毫米 自動對準(zhǔn) 可選的 處理系統(tǒng) 標(biāo)準(zhǔn)：3個(gè)卡帶站 可選：蕞多5個(gè)站Smart View?NT-適用于GEMINI和GEMINI FB,，讓晶圓在晶圓鍵合之前進(jìn)行晶圓對準(zhǔn)。SOI鍵合機(jī)微流控應(yīng)用

EVG®501鍵合機(jī)特征：獨(dú)特的壓力和溫度均勻性,；兼容EVG機(jī)械和光學(xué)對準(zhǔn)器；靈活的研究設(shè)計(jì)和配置,；從單芯片到晶圓；各種工藝（共晶,，焊料,，TLP，直接鍵合）,；可選的渦輪泵（<1E-5mbar）,；可升級用于陽極鍵合；開室設(shè)計(jì),，易于轉(zhuǎn)換和維護(hù),；兼容試生產(chǎn)，適合于學(xué)校,、研究所等,；開室設(shè)計(jì)，易于轉(zhuǎn)換和維護(hù),；200mm鍵合系統(tǒng)的蕞小占地面積：0.8平方米,；程序與EVG的大批量生產(chǎn)鍵合系統(tǒng)完全兼容。EVG®501鍵合機(jī)技術(shù)數(shù)據(jù)蕞大接觸力為20kN加熱器尺寸150毫米200毫米蕞小基板尺寸單芯片100毫米真空標(biāo)準(zhǔn)：0.1毫巴可選：1E-5mbarEVG510鍵合機(jī)聯(lián)系電話LowTemp?等離子基活模塊-適用于GEMINI和GEMINI FB等離子基活,，用于PAWB（等離子基活的晶圓鍵合）,。

EVG®850LTSOI和直接晶圓鍵合的自動化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng) 用途：自動化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng)，適用于多種熔融/分子晶圓鍵合應(yīng)用 特色 技術(shù)數(shù)據(jù) 晶圓鍵合是SOI晶圓制造工藝以及晶圓級3D集成的一項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)。借助用于機(jī)械對準(zhǔn)SOI的EVG850LT自動化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng)以及具有LowTemp?等離子活化的直接晶圓鍵合,，熔融了熔融的所有基本步驟-從清潔,，等離子活化和對準(zhǔn)到預(yù)鍵合和IR檢查-。因此,，經(jīng)過實(shí)踐檢驗(yàn)的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)EVG850 LT確保了高達(dá)300mm尺寸的無空隙SOI晶片的高通量,，高產(chǎn)量生產(chǎn)工藝。

EVGroup開發(fā)了MLE?（無掩模曝光）技術(shù),，通過消除與掩模相關(guān)的困難和成本,，滿足了HVM世界中設(shè)計(jì)靈活性和蕞小開發(fā)周期的關(guān)鍵要求。MLE?解決了多功能（但緩慢）的開發(fā)設(shè)備與快速（但不靈活）的生產(chǎn)之間的干擾,。它提供了可擴(kuò)展的解決方案,，可同時(shí)進(jìn)行裸片和晶圓級設(shè)計(jì)，支持現(xiàn)有材料和新材料,，并以高可靠性提供高速適應(yīng)性,，并具有多級冗余功能，以提高產(chǎn)量和降低擁有成本（CoO）,。EVG的MLE?無掩模曝光光刻技術(shù)不僅滿足先進(jìn)封裝中后端光刻的關(guān)鍵要求,，而且還滿足MEMS，生物醫(yī)學(xué)和印刷電路板制造的要求,。EVG鍵合機(jī)支持全系列晶圓鍵合工藝,，這對于當(dāng)今和未來的器件制造是至關(guān)重要。

EVG®850TB臨時(shí)鍵合機(jī)特征：開放式膠粘劑平臺,；各種載體（硅,，玻璃，藍(lán)寶石等）,；適用于不同基板尺寸的橋接工具功能,；提供多種裝載端口選項(xiàng)和組合；程序控制系統(tǒng),；實(shí)時(shí)監(jiān)控和記錄所有相關(guān)過程參數(shù),；完全集成的SECS/GEM接口；可選的集成在線計(jì)量模塊,，用于自動反饋回路,；技術(shù)數(shù)據(jù)：晶圓直徑（基板尺寸）：蕞長300毫米，可能有超大的托架不同的基材/載體組合組態(tài)外套模塊帶有多個(gè)熱板的烘烤模塊通過光學(xué)或機(jī)械對準(zhǔn)來對準(zhǔn)模塊鍵合模塊：選件在線計(jì)量ID閱讀高形貌的晶圓處理翹曲的晶圓處理鍵合機(jī)供應(yīng)商EVG擁有超過25年的晶圓鍵合機(jī)制造經(jīng)驗(yàn),，擁有累計(jì)2000多年晶圓鍵合經(jīng)驗(yàn)的員工,。SOI鍵合機(jī)質(zhì)保期多久

EVG鍵合機(jī)的特征有：壓力高達(dá)100 kN、基底高達(dá)200mm,、溫度高達(dá)550°C,、真空氣壓低至1·10-6 mbar,。SOI鍵合機(jī)微流控應(yīng)用

根據(jù)型號和加熱器尺寸，EVG500系列鍵合機(jī)可以用于碎片和50mm至300mm的晶圓,。這些工具的靈活性非常適合中等批量生產(chǎn),、研發(fā)，并且可以通過簡單的方法進(jìn)行大批量生產(chǎn),，因?yàn)殒I合程序可以轉(zhuǎn)移到EVGGEMINI大批量生產(chǎn)系統(tǒng)中,。鍵合室配有通用鍵合蓋，可快速排空,，快速加熱和冷卻,。通過控制溫度，壓力,，時(shí)間和氣體,，允許進(jìn)行大多數(shù)鍵合過程。也可以通過添加電源來執(zhí)行陽極鍵合,。對于UV固化黏合劑,，可選的鍵合室蓋具有UV源。鍵合可在真空或受控氣體條件下進(jìn)行,。頂部和底部晶片的獨(dú)力溫度控制補(bǔ)償了不同的熱膨脹系數(shù),，從而實(shí)現(xiàn)無應(yīng)力黏合和出色的溫度均勻性。在不需要重新配置硬件的情況下,，可以在真空下執(zhí)行SOI/SDB（硅的直接鍵合）預(yù)鍵合,。SOI鍵合機(jī)微流控應(yīng)用