非晶態(tài)多晶硅硅元素以非晶和晶體兩種形式存在,在兩級之間是部分結(jié)晶硅,。部分結(jié)晶硅又被叫做多晶硅,。非晶硅和多晶硅的光學常數(shù)(n和k)對不同沉積條件是獨特的,，必須有精確的厚度測量,。測量厚度時還必須考慮粗糙度和硅薄膜結(jié)晶可能的風化。Filmetrics設備提供的復雜的測量程序同時測量和輸出每個要求的硅薄膜參數(shù),，并且“一鍵”出結(jié)果,。測量范例多晶硅被廣范用于以硅為基礎的電子設備中,。這些設備的效率取決于薄膜的光學和結(jié)構(gòu)特性,。隨著沉積和退火條件的改變,，這些特性隨之改變，所以準確地測量這些參數(shù)非常重要,。監(jiān)控晶圓硅基底和多晶硅之間,，加入二氧化硅層，以增加光學對比,，其薄膜厚度和光學特性均可測得,。F20可以很容易地測量多晶硅薄膜的厚度和光學常數(shù)，以及二氧化硅夾層厚度,。Bruggeman光學模型被用來測量多晶硅薄膜光學特性,?；旧纤泄饣摹胪该鞯幕虻臀障禂?shù)的薄膜都可以測量,。測膜儀膜厚儀推薦型號

FSM413MOT紅外干涉測量設備：適用于所有可讓紅外線通過的材料：硅,、藍寶石,、砷化鎵,、磷化銦、碳化硅,、玻璃,、石英、聚合物…………應用:襯底厚度(不受圖案硅片,、有膠帶,、凹凸或者粘合硅片影響)平整度厚度變化(TTV)溝槽深度過孔尺寸、深度,、側(cè)壁角度粗糙度薄膜厚度不同半導體材料的厚度環(huán)氧樹脂厚度襯底翹曲度晶圓凸點高度(bumpheight)MEMS薄膜測量TSV深度,、側(cè)壁角度...如果您想了解更多關(guān)于FSM膜厚儀的技術(shù)問題，請聯(lián)系我們岱美儀器,。Filmetrics F3-CS膜厚儀當?shù)貎r格FSM拉曼的應用：局部應力,； 局部化學成分；局部損傷,。

濾光片整平光譜響應,。ND#0.5衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度+ND#0.5衰減整平濾波器.ND#1衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度+ND#1衰減整平濾波器.ND#2衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度+ND#2衰減整平濾波器.420nm高通濾波器.420nm高通濾波器於濾波器架.515nm高通濾波器.515nm高通濾波器於濾波器架.520nm高通濾波器+ND1.520nm高通濾波器+ND#1十倍衰減整平濾波器.520nm高通濾波器+ND#2520nm高通濾波器+ND#2一百倍衰減整平濾波器.550nm高通濾波器550nm高通濾波器於濾波器架.

電介質(zhì)成千上萬的電解質(zhì)薄膜被用于光學，半導體,，以及其它數(shù)十個行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜,。常見的電介質(zhì)有:二氧化硅 – 蕞簡單的材料之一, 主要是因為它在大部分光譜上的無吸收性 (k=0)， 而且非常接近化學計量 (就是說,，硅：氧非常接近 1:2),。 受熱生長的二氧化硅對光譜反應規(guī)范，通常被用來做厚度和折射率標準,。 Filmetrics能測量3nm到1mm的二氧化硅厚度,。氮化硅 – 對此薄膜的測量比很多電介質(zhì)困難，因為硅：氮比率通常不是3：4, 而且折射率一般要與薄膜厚度同時測量,。 更麻煩的是,，氧常常滲入薄膜，生成一定程度的氮氧化硅,，增大測量難度,。 但是幸運的是，我們的系統(tǒng)能在幾秒鐘內(nèi) “一鍵” 測量氮化硅薄膜完整特征!F40測量范圍,；20nm-40μm;波長：400-850nm,。

備用光源：LAMP-TH1-5PAK：F10,、F20、F30,、F40,、F50、和F60系統(tǒng)的非紫外光源,。5個/盒,。1200小時平均無故障。LAMP-TH：F42F42系統(tǒng)的光源,。1000小時平均無故障,。LAMP-THF60：F60系統(tǒng)的光源。1000小時平均無故障,。LAMP-THF80：F80系統(tǒng)的光源,。1000小時平均無故障。LAMP-D2-L10290：L10290氘光源,。2007年到2014年F20-UV的使用者,。LAMP-TH-L10290：L10290鎢鹵素光源。2007年到2014年F20-UV的使用者,。LAMP-D2-LS和DT2：LS和DT2光源需更換氘燈,而鹵素燈光源需更換使用LAMP-TH1-5PAK.可選粗糙度: 20 — 1000? (RMS),。測膜儀膜厚儀推薦型號

測量方式: 紅外干涉(非接觸式)。測膜儀膜厚儀推薦型號

平臺和平臺附件標準和磚用平臺,。CS-1可升級接觸式SS-3樣品臺,，可測波長范圍190-1700nmSS-36“×6”樣品平臺，F(xiàn)20系統(tǒng)的標準配置,?？烧{(diào)節(jié)鏡頭高度，103mm進深,。適用所有波長范圍,。SS-3-88“×8”樣品平臺?？烧{(diào)節(jié)鏡頭高度,，139mm進深。適用所有波長范圍,。SS-3-24F20的24“×24”樣品平臺,。可調(diào)節(jié)鏡頭高度,，550mm進深,。適用所有波長范圍。SS-56"x6"吋樣品臺，具有可調(diào)整焦距的反射光學配件,，需搭配具有APC接頭的光纖,，全波長范圍使用樣品壓重-SS-3-50樣品壓重SS-3平臺,50mmx50mm樣品壓重-SS-3-110樣品壓重SS-3平臺,110mmx110mm測膜儀膜厚儀推薦型號

岱美儀器技術(shù)服務（上海）有限公司公司是一家專門從事半導體工藝設備，半導體測量設備,，光刻機 鍵合機,，膜厚測量儀產(chǎn)品的生產(chǎn)和銷售，是一家貿(mào)易型企業(yè),，公司成立于2002-02-07,，位于金高路2216弄35號6幢306-308室。多年來為國內(nèi)各行業(yè)用戶提供各種產(chǎn)品支持,。公司主要經(jīng)營半導體工藝設備,，半導體測量設備,，光刻機 鍵合機,，膜厚測量儀等產(chǎn)品，產(chǎn)品質(zhì)量可靠,，均通過儀器儀表行業(yè)檢測,，嚴格按照行業(yè)標準執(zhí)行。目前產(chǎn)品已經(jīng)應用與全國30多個省,、市,、自治區(qū)。EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Herzan,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB為用戶提供真誠,、貼心的售前,、售后服務，產(chǎn)品價格實惠,。公司秉承為社會做貢獻,、為用戶做服務的經(jīng)營理念，致力向社會和用戶提供滿意的產(chǎn)品和服務,。岱美儀器技術(shù)服務（上海）有限公司注重以人為本,、團隊合作的企業(yè)文化，通過保證半導體工藝設備,，半導體測量設備,，光刻機 鍵合機，膜厚測量儀產(chǎn)品質(zhì)量合格,，以誠信經(jīng)營,、用戶至上、價格合理來服務客戶,。建立一切以客戶需求為前提的工作目標,，真誠歡迎新老客戶前來洽談業(yè)務。