EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)涂層模塊-旋轉(zhuǎn)器參數(shù)轉(zhuǎn)速：蕞高10krpm加速速度：蕞高10krpm噴涂模塊-噴涂產(chǎn)生超聲波霧化噴嘴/高粘度噴嘴,；開(kāi)發(fā)模塊-分配選項(xiàng)水坑顯影/噴霧顯影EVG101光刻膠處理系統(tǒng),；附加模塊的選項(xiàng)：預(yù)對(duì)準(zhǔn)：機(jī)械系統(tǒng)控制參數(shù)：操作系統(tǒng)：Windows文件共享和備份解決方案/無(wú)限制程序和參數(shù)/離線(xiàn)程序編輯器靈活的流程定義/易于拖放的程序編程并行處理多個(gè)作業(yè)/實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪(fǎng)問(wèn)，診斷和故障排除多語(yǔ)言用戶(hù)GUI和支持：CN,，DE,，F(xiàn)R，IT,，JP,，KREVG的代理商岱美儀器能在全球范圍內(nèi)提供服務(wù)。河南光刻機(jī)美元價(jià)格

EVG®120--光刻膠自動(dòng)化處理系統(tǒng)EVG®120是用于當(dāng)潔凈室空間有限,，需要生產(chǎn)一種緊湊的，節(jié)省成本光刻膠處理系統(tǒng),。新型EVG120通用和全自動(dòng)光刻膠處理工具能夠處理各種形狀和尺寸達(dá)200mm/8“的基板,。新一代EVG120采用全新的超緊湊設(shè)計(jì)，并帶有新開(kāi)發(fā)的化學(xué)柜,，可用于外部存儲(chǔ)化學(xué)品,，同時(shí)提供更高的通量能力，針對(duì)大批量客戶(hù)需求進(jìn)行了優(yōu)化,，并準(zhǔn)備在大批量生產(chǎn)（HVM）中使用EVG120為用戶(hù)提供了一套詳盡的好處,，這是其他任何工具所無(wú)法比擬的，并保證了蕞高的質(zhì)量各個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域的標(biāo)準(zhǔn),，擁有成本卻非常低,。上海光刻機(jī)實(shí)際價(jià)格EVG通過(guò)不斷開(kāi)發(fā)掩模對(duì)準(zhǔn)器來(lái)為這些領(lǐng)域做出巨大的貢獻(xiàn)，以提高蕞重要的光刻技術(shù)的水平,。

EVG®610曝光源：汞光源/紫外線(xiàn)LED光源,；楔形補(bǔ)償全自動(dòng)軟件控制；晶圓直徑（基板尺寸）高達(dá)100/150/200毫米,；曝光設(shè)定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式,；曝光選項(xiàng)：間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光；先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能：手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)/原位對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證手動(dòng)交叉校正大間隙對(duì)準(zhǔn),；EVG®610光刻機(jī)系統(tǒng)控制：操作系統(tǒng)：Windows文件共享和備份解決方案/無(wú)限制程序和參數(shù)多語(yǔ)言用戶(hù)GUI和支持：CN,，DE，F(xiàn)R,，IT,，JP，KR實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪(fǎng)問(wèn),，診斷和故障排除使用的納米壓印光刻技術(shù)是“無(wú)紫外線(xiàn)”,。

EVG增強(qiáng)對(duì)準(zhǔn)：全電動(dòng)頂部和底部分離場(chǎng)顯微鏡支持實(shí)時(shí),，大間隙，晶圓平面或紅外對(duì)準(zhǔn),，在可編程位置自動(dòng)定位,。確保蕞好圖形對(duì)比度，并對(duì)明場(chǎng)和暗場(chǎng)照明進(jìn)行程序控制,。先進(jìn)的模式識(shí)別算法,，自動(dòng)原點(diǎn)功能，合成對(duì)準(zhǔn)鍵模式導(dǎo)入和培訓(xùn)可確保高度可重復(fù)的對(duì)準(zhǔn)結(jié)果,。曝光光學(xué)：提供不同配置的曝光光學(xué)系統(tǒng),，旨在實(shí)現(xiàn)任何應(yīng)用的蕞大靈活性。汞燈曝光光學(xué)系統(tǒng)針對(duì)150,，200和300 mm基片進(jìn)行了優(yōu)化,，可與各種濾光片一起用于窄帶曝光要求，例如i-,，g-和h-線(xiàn)濾光片,，甚至還有深紫外線(xiàn)。EVG100光刻膠處理系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板,，直徑從2寸到300 mm。

IQAligner®NT技術(shù)數(shù)據(jù)：產(chǎn)能：全自動(dòng)：手次生產(chǎn)量印刷：每小時(shí)200片全自動(dòng)：吞吐量對(duì)準(zhǔn)：每小時(shí)160片晶圓工業(yè)自動(dòng)化功能：盒式磁帶/SMIF/FOUP/SECS/GEM/薄,，彎曲，翹曲,，晶圓邊緣處理智能過(guò)程控制和數(shù)據(jù)分析功能（框架SW平臺(tái)）用于過(guò)程和機(jī)器控制的集成分析功能并行任務(wù)/排隊(duì)任務(wù)處理功能設(shè)備和過(guò)程性能根蹤功能智能處理功能事/故和警報(bào)分析/智能維護(hù)管理和根蹤晶圓直徑（基板尺寸）：高達(dá)300毫米對(duì)準(zhǔn)方式：頂部對(duì)準(zhǔn)：≤±0,25μm底側(cè)對(duì)準(zhǔn)：≤±0.5μm紅外對(duì)準(zhǔn)：≤±2,0μm/取決于基材EVG所有光刻設(shè)備平臺(tái)均為300mm。河南EVG610光刻機(jī)

HERCULES的橋接工具系統(tǒng)可對(duì)多種尺寸的晶圓進(jìn)行易碎,，薄或翹曲的晶圓處理,。河南光刻機(jī)美元價(jià)格

EVG®150--光刻膠自動(dòng)處理系統(tǒng)EVG®150是全自動(dòng)化光刻膠處理系統(tǒng)中提供高吞吐量的性能與在直徑承晶片高達(dá)300毫米,。EVG150設(shè)計(jì)為完全模塊化的平臺(tái),，可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)噴涂/旋轉(zhuǎn)/顯影過(guò)程和高通量性能,。EVG150可確保涂層高度均勻并提高重復(fù)性,。具有高形貌的晶片可以通過(guò)EVG的OmniSpray技術(shù)進(jìn)行均勻涂覆,，而傳統(tǒng)的旋涂技術(shù)則受到限制,。EVG®150特征：晶圓尺寸可達(dá)300毫米多達(dá)六個(gè)過(guò)程模塊可自定義的數(shù)量-多達(dá)二十個(gè)烘烤/冷卻/汽化堆多達(dá)四個(gè)FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載河南光刻機(jī)美元價(jià)格

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司是一家從事半導(dǎo)體工藝設(shè)備,，半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備，光刻機(jī) 鍵合機(jī),，膜厚測(cè)量?jī)x研發(fā),、生產(chǎn),、銷(xiāo)售及售后的貿(mào)易型企業(yè),。公司坐落在金高路2216弄35號(hào)6幢306-308室,，成立于2002-02-07。公司通過(guò)創(chuàng)新型可持續(xù)發(fā)展為重心理念,，以客戶(hù)滿(mǎn)意為重要標(biāo)準(zhǔn),。主要經(jīng)營(yíng)半導(dǎo)體工藝設(shè)備,，半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,，光刻機(jī) 鍵合機(jī),，膜厚測(cè)量?jī)x等產(chǎn)品服務(wù),，現(xiàn)在公司擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富的研發(fā)設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì),，對(duì)于產(chǎn)品研發(fā)和生產(chǎn)要求極為嚴(yán)格,，完全按照行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)研發(fā)和生產(chǎn)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司研發(fā)團(tuán)隊(duì)不斷緊跟半導(dǎo)體工藝設(shè)備,，半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備，光刻機(jī) 鍵合機(jī),，膜厚測(cè)量?jī)x行業(yè)發(fā)展趨勢(shì),，研發(fā)與改進(jìn)新的產(chǎn)品，從而保證公司在新技術(shù)研發(fā)方面不斷提升,，確保公司產(chǎn)品符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)和要求,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司注重以人為本,、團(tuán)隊(duì)合作的企業(yè)文化,，通過(guò)保證半導(dǎo)體工藝設(shè)備,，半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備，光刻機(jī) 鍵合機(jī),，膜厚測(cè)量?jī)x產(chǎn)品質(zhì)量合格,，以誠(chéng)信經(jīng)營(yíng),、用戶(hù)至上,、價(jià)格合理來(lái)服務(wù)客戶(hù),。建立一切以客戶(hù)需求為前提的工作目標(biāo)，真誠(chéng)歡迎新老客戶(hù)前來(lái)洽談業(yè)務(wù),。