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Filmetrics膜厚儀出廠價

來源: 發(fā)布時間:2021-07-14

非晶態(tài)多晶硅硅元素以非晶和晶體兩種形式存在, 在兩級之間是部分結(jié)晶硅,。部分結(jié)晶硅又被叫做多晶硅。


非晶硅和多晶硅的光學(xué)常數(shù)(n和k)對不同沉積條件是獨特的,,必須有精確的厚度測量。 測量厚度時還必須考慮粗糙度和硅薄膜結(jié)晶可能的風化,。

Filmetrics 設(shè)備提供的復(fù)雜的測量程序同時測量和輸出每個要求的硅薄膜參數(shù),, 并且“一鍵”出結(jié)果。

測量范例多晶硅被***用于以硅為基礎(chǔ)的電子設(shè)備中,。這些設(shè)備的效率取決于薄膜的光學(xué)和結(jié)構(gòu)特性,。隨著沉積和退火條件的改變,這些特性隨之改變,,所以準確地測量這些參數(shù)非常重要,。監(jiān)控晶圓硅基底和多晶硅之間,加入二氧化硅層,,以增加光學(xué)對比,,其薄膜厚度和光學(xué)特性均可測得。F20可以很容易地測量多晶硅薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù),,以及二氧化硅夾層厚度,。Bruggeman光學(xué)模型被用來測量多晶硅薄膜光學(xué)特性,。


產(chǎn)品名稱:紅外干涉厚度測量設(shè)備,。Filmetrics膜厚儀出廠價

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厚度測量產(chǎn)品:我們的膜厚測量產(chǎn)品可適用于各種應(yīng)用。我們大部分的產(chǎn)品皆備有庫存以便快速交貨,。請瀏覽本公司網(wǎng)頁產(chǎn)品資訊或聯(lián)系我們的應(yīng)用工程師針對您的厚度測量需求提供立即協(xié)助,。


單點厚度測量:

一鍵搞定的薄膜厚度和折射率臺式測量系統(tǒng)。 測量 1nm 到 13mm 的單層薄膜或多層薄膜堆,。

大多數(shù)產(chǎn)品都有庫存而且可立即出貨,。

F20全世界銷量**hao的薄膜測量系統(tǒng)。有各種不同附件和波長覆蓋范圍,。


微米(顯微)級別光斑尺寸厚度測量當測量斑點只有1微米(μm)時,,需要用您自己的顯微鏡或者用我們提供的整個系統(tǒng)。 Filmetrics膜厚儀出廠價測量SU-8 其它厚光刻膠的厚度有特別重要的應(yīng)用,。

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測量復(fù)雜的有機材料典型的有機發(fā)光顯示膜包括幾層: 空穴注入層,,空穴傳輸層,,以及重組/發(fā)光層。所有這些層都有不尋常有機分子(小分子和/或聚合物),。雖然有機分子高度反常色散,,測量這些物質(zhì)的光譜反射充滿挑戰(zhàn),但對Filmetrics卻不盡然,。我們的材料數(shù)據(jù)庫覆蓋整個OLED的開發(fā)歷史,,能夠處理隨著有機分子而來的高折射散射和多種紫外光譜特征。軟基底上的薄膜有機發(fā)光顯示器具有真正柔性顯示的潛力,,要求測量像PET(聚乙烯)塑料這樣有高雙折射的基準,,這對托偏儀測量是個嚴重的挑戰(zhàn): 或者模擬額外的復(fù)雜光學(xué),或者打磨PET背面,。 而這些對我們非偏振反射光譜來說都不需要,,極大地節(jié)約了人員培訓(xùn)和測量時間。操作箱中測量有機發(fā)光顯示器材料對水和氧極度敏感,。 很多科研小組都要求在控制的干燥氮氣操作箱中測量,。 而我們體積小,模塊化,,光纖設(shè)計的儀器提供非密封,、實時“操作箱”測量。

F10-AR易于使用而且經(jīng)濟有效地分析減反涂層和鏡頭上的硬涂層F10-AR 是測試眼科減反涂層設(shè)計的儀器,。 雖然價格**低于當今絕大多數(shù)同類儀器,,應(yīng)用幾項技術(shù), F10-AR 使線上操作人員經(jīng)過幾分鐘的培訓(xùn),,就可以進行厚度測量,。

在用戶定義的任何波長范圍內(nèi)都能進行比較低、比較高和平均反射測試,。

我們有專門的算法對硬涂層的局部反射失真進行校正,。 我們獨有的 AutoBaseline 能極大地增加基線間隔,提供比其它光纖探頭反射儀高出五倍的精確度,。

利用可選的 UPG-F10-AR-HC 軟件升級能測量 0.25-15um 的硬涂層厚度,。 在減反層存在的情況下也能對硬涂層厚度進行測量。 基本上所有光滑的,、半透明的或低吸收系數(shù)的薄膜都可以測量,。

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厚度標準:

所有 Filmetrics 厚度標準都是得到驗證可追溯的 NIST 標準。

S-Custom-NIST:在客戶提供的樣品上定制可追溯的 NIST 厚度校準,。 

TS-Focus-SiO2-4-3100SiO2-on-Si :厚度標準,,外加調(diào)焦區(qū)和單晶硅基準,厚度大約 3100A,4" 晶圓,。

TS-Focus-SiO2-4-10000SiO2-on-Si :厚度標準,,外加調(diào)焦區(qū)和單晶硅基準,厚度大約 10000A,,4" 晶圓,。

TS-Hardcoat-4μm:丙烯酸塑料硬涂層厚度標準,厚度大約 4um,,直徑 2",。

TS-Hardcoat-Trans:背面透明的硬涂層,可用于透射測量,。

TS-Parylene-4um:丙烯酸塑料上的聚對二甲苯厚度標準,,厚度大約 4um ,直徑2",。

TS-Parylene-8um:硅基上的聚對二甲苯厚度標準,,厚度大約 8um,23mm x 23mm,。

TS-SiO2-4-7200:硅基上的二氧化硅厚度標準,,厚度大約 7200A,4" 晶圓,。

TS-SiO2-4-7200-NIST:可追溯的 NIST SiO2-4-7200 厚度標準,。

TS-SiO2-6-Multi:多厚度硅基上的二氧化硅標準: 125埃米,250埃米,,500埃米,,1000埃米,5000埃米,,和 10000埃米 (+/-10%誤差),,6英寸晶圓。TS-SS3-SiO2-8000:專為SS-3樣品平臺設(shè)計之二氧化硅厚度標準片,厚度大約為 8000A,。 F50-NIR測厚范圍:100nm-250μm,;波長:950-1700nm。Filmetrics膜厚儀出廠價

厚度變化 (TTV) ,;溝槽深度,;過孔尺寸,、深度,、側(cè)壁角度。Filmetrics膜厚儀出廠價

由于在重大工程,、工業(yè)裝備和質(zhì)量保證,、基礎(chǔ)科研中,儀器儀表都是必不可少的基礎(chǔ)技術(shù)和裝備重點,除傳統(tǒng)領(lǐng)域的需求外,,新興的智能制造,、離散自動化、生命科學(xué),、新能源,、海洋工程、軌道交通等領(lǐng)域也會產(chǎn)生巨大需求,。隨著互聯(lián)網(wǎng)的逐步發(fā)展,,為半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測量設(shè)備,,光刻機 鍵合機,,膜厚測量儀等產(chǎn)品的傳播提供了一個飛速的平臺。讓儀器儀表行業(yè)從傳統(tǒng)的銷售模式到以互聯(lián)網(wǎng)電子商務(wù)為主的營銷方式的轉(zhuǎn)變,,促進了儀器儀表行業(yè)與互聯(lián)網(wǎng)的結(jié)合,,推動產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展。目前我國磁記錄,、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口,、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),,國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,,商務(wù)信息咨詢服務(wù) 產(chǎn)品,,主要集中在中低檔市場,而市場則主要被國外品牌所占據(jù),。在某些領(lǐng)域,,國產(chǎn)產(chǎn)品甚至是空白,這就需要未來我國儀器儀表向市場進軍,,擴大產(chǎn)品占比,。從貿(mào)易廣義角度來說,儀器儀表也可具有自動操控,、報警,、信號傳遞和數(shù)據(jù)處理等功能,例如用于工業(yè)生產(chǎn)過程自動操控中的氣動調(diào)節(jié)儀表,,和電動調(diào)節(jié)儀表,,以及集散型儀表操控系統(tǒng)也皆屬于儀器儀表。Filmetrics膜厚儀出廠價