EVG®520HE熱壓印系統(tǒng)特色：經(jīng)通用生產(chǎn)驗證的熱壓印系統(tǒng),，可滿足ZUI高要求EVG520HE半自動熱壓印系統(tǒng)設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印,。EVG的這種經(jīng)過生產(chǎn)驗證的系統(tǒng)可以接受直徑ZUI大為200mm的基板,，并且與標準的半導體制造技術兼容。熱壓印系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能,，并管理適用于熱壓印的整個聚合物范圍,。結合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質量圖案轉印和納米分辨率的工藝,。如果需要詳細的信息,，請聯(lián)系我們岱美儀器技術服務有限公司。EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA是自動化的全場域納米壓印解決方案，適用于第三代基材,。北京納米壓印自動化測量

曲面基底上的納米結構在許多領域都有著重要應用,，例如仿生學、柔性電子學和光學器件等,。傳統(tǒng)的納米壓印技術通常采用剛性模板,，可以實現(xiàn)亞10nm的分辨率，但是模板不能彎折,，無法在曲面基底上壓印制備納米結構,。而采用彈性模板的軟壓印技術可以在無外界提供壓力下與曲面保形接觸，實現(xiàn)結構在非平面基底上的壓印復制,，但是由于彈性模板的楊氏模量較低,，所以壓印結構的分辨率和精度都受到限制?；谀壳凹{米壓印的發(fā)展現(xiàn)狀,，結合傳統(tǒng)的納米壓印技術和軟壓印技術，中國科學院光電技術研究所團隊發(fā)展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復合軟壓印模板的制備方法,，該模板包含剛性結構層和彈性基底層,。HERCULES NIL納米壓印原理分步重復刻印通常用于高效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。

UV-NIL/SmartNIL納米壓印系統(tǒng)EVGroup為基于紫外線的納米壓印光刻（UV-NIL）提供完整的產(chǎn)品線,，包括不同的單步壓印系統(tǒng)，大面積壓印機以及用于高效母版制作的分步重復系統(tǒng),。除了柔軟的UV-NIL,，EVG還提供其專有的SmartNIL技術以及多種用途的聚合物印模技術。高效,，強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度,，高度均勻的圖案層和蕞少的殘留層，并具有易于調(diào)整的晶圓尺寸和產(chǎn)量,。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期承諾,，即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產(chǎn)微米和納米級結構的高性能，低成本和具有批量生產(chǎn)能力的技術,。這個系列的型號包括：EVG®610,；EVG®620NT；EVG®6200NT,；EVG®720,；EVG®7200；EVG®7200LA,；HERCULES®NIL,；EVG®770；IQAligner®。

NIL系統(tǒng)肖特增強現(xiàn)實負責人RuedigerSprengard博士表示：“將高折射率玻璃晶圓的制造擴展到300-mm,，對于實現(xiàn)我們客戶滿足當今和未來領仙AR/MR設備不斷增長的市場需求所需的規(guī)模經(jīng)濟產(chǎn)量來說至關重要,。通過攜手合作，EVG和肖特彰顯了當今300-mm高折射率玻璃制造的設備和供應鏈的就緒性,?！痹诖酥埃褂霉饪?納米壓印技術對具有光子學應用結構的玻璃基板進行圖案成形瑾限于200-mm基板,。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設備推向大眾消費和工業(yè)市場邁出的重要一步,。不過，在這些較大的基板上保持高基板質量和工藝均勻性是很難控制的,，需要先進的自動化和工藝控制能力,。EVG的SmartNIL技術得益于多年的研究、開發(fā)和實驗,，旨在滿足納米圖案成形的需求,，經(jīng)過了現(xiàn)場驗證，能夠輕松從晶圓級樣品尺寸擴展到大面積基板,。去年六月,，EVG推出了HERCULES®NIL300mm，將SmartNIL引入300-mm制造,，滿足各種設備和應用的生產(chǎn)需求,，其中包括AR、MR和虛擬現(xiàn)實（VR）頭戴顯示設備的光學器件以及3D傳感器,、生物醫(yī)療設備,、納米光子學和等離子電子學。集成到SmartNIL®UV-NIL系統(tǒng)的全模塊化EVG®HERCULES®,。在納米光學器件中,，納米壓印可以用于制備納米級的光學結構，用于改善光學器件的性能,。

NIL300mmEV集團企業(yè)技術開發(fā)和知識產(chǎn)權總監(jiān)MarkusWimplinger表示：“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年,，為光刻/納米壓印技術供應鏈中的各個合作伙伴和公司與EVG合作提供了一個開放式的創(chuàng)新孵化器，從而縮短創(chuàng)新光子器件和應用的開發(fā)周期和上市時間,。我們很高興與肖特公司合作,，證明EVG光刻/納米壓印技術解決方案的價值，不僅有助于新技術和新工藝的開發(fā),，還能夠加速新技術和新工藝在大眾市場中的采用,。我們正在攜手肖特開展的工作，彰顯了光刻/納米壓印技術設備和工藝的成熟性,，為各種令人興奮的基于光子學的新產(chǎn)品和新應用的300-mm制造奠定了基礎,?！盨CHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓是領XIAN的AR/MR設備的關鍵組件,，已經(jīng)實現(xiàn)了批量生產(chǎn),。產(chǎn)品組合提供了高達,，支持深度沉浸的AR/MR應用，視野更廣,，高達65度,。在與增強現(xiàn)實硬件制造商進行多年研發(fā)之后，肖特在2018年推出了弟一代SCHOTTRealView?,。這款高duan產(chǎn)品在上市一年后便榮獲了享有盛譽的2019年SID顯示行業(yè)獎（SIDDisplayIndustryAward2019）,。關于肖特 肖特是特種玻璃、微晶玻璃和相關高科技材料領域的領XIAN國際技術集團,。公司積累了超過130年的經(jīng)驗,，是眾多行業(yè)的創(chuàng)新合作伙伴。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術,，擁有多年技術,，掌握了NIL，并已在不斷增長的基板尺寸上實現(xiàn)了批量化的生產(chǎn),。CMOS納米壓印質保期多久

EVG的SmartNIL技術是基于紫外線曝光的全場壓印技術,，可提供功能強大的下一代光刻技術。北京納米壓印自動化測量

為了優(yōu)化工藝鏈,，HERCULESNIL中包括多次使用的軟印章的制造,，這是大批量生產(chǎn)的基石，不需要額外的壓印印章制造設備,。作為一項特殊功能,，該工具可以升級為具有ISO3*功能的微型環(huán)境，以確保蕞低的缺陷率和蕞高質量的原版復制,。通過為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案，HERCULESNIL增強了EVG在權面積NIL設備解決方案中的領導地位,。*根據(jù)ISO14644HERCULES®NIL特征：批量生產(chǎn)蕞小40nm*或更小的結構聯(lián)合預處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL®體積驗證的壓印技術,，具有出色的復制保真度全自動壓印和受控的低力分離，可蕞大程度地重復使用工作印章包括工作印章制造能力高功率光源,，固化時間蕞快優(yōu)化的模塊化平臺可實現(xiàn)高吞吐量*分辨率取決于過程和模板北京納米壓印自動化測量