這使得可以在工業(yè)水平上開發(fā)新的設(shè)備或工藝,，這不僅需要高度的靈活性，而且需要可控和可重復(fù)的處理,。EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗(yàn),，并將這些知識(shí)技能整合到EVG100系列中,，可以利用我們的工藝知識(shí)為客戶提供支持。光刻膠處理設(shè)備有：EVG101光刻膠處理,，EVG105光刻膠烘焙機(jī),，EVG120光刻膠處理自動(dòng)化系統(tǒng)；EVG150光刻膠處理自動(dòng)化系統(tǒng),。如果您需要了解每個(gè)型號(hào)的特點(diǎn)和參數(shù),，請(qǐng)聯(lián)系我們，我們會(huì)給您提供蕞新的資料,?；蛘咴L問岱美儀器的官網(wǎng)獲取相關(guān)的信息。所有系統(tǒng)均支持原位對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證的軟件，它可以提高手動(dòng)操作系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)精度和可重復(fù)性,。湖南傳感器光刻機(jī)

EVG的掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)含有：EVG610,；EVG620NT半自動(dòng)/全自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)；EVG6200NT半自動(dòng)/全自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),；IQAligner自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),；IQAlignerNT自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)；【EVG®610掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)】EVG®610是一個(gè)緊湊的和多用途R＆d系統(tǒng),，可以處理小基板片和高達(dá)200毫米的晶片,。EVG®610技術(shù)數(shù)據(jù)：EVG610支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空,，硬,，軟和接近曝光模式，并可選擇背面對(duì)準(zhǔn)功能,。此外,，該系統(tǒng)還提供其他功能，包括鍵合對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）,。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,，可滿足用戶需求的變化，轉(zhuǎn)換時(shí)間不到幾分鐘,。其先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級(jí)別的所有需求,，因此使其非常適合大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用。福建光刻機(jī)高性價(jià)比選擇研發(fā)設(shè)備與EVG的和新技術(shù)平臺(tái)無縫集成,，這些平臺(tái)涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個(gè)制造鏈,。

這使得可以在工業(yè)水平上開發(fā)新的設(shè)備或工藝，這不僅需要高度的靈活性,，而且需要可控和可重復(fù)的處理,。EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗(yàn)，并將這些知識(shí)技能整合到EVG100系列中,，可以利用我們的工藝知識(shí)為客戶提供支持,。光刻膠處理設(shè)備有：EVG101光刻膠處理，EVG105光刻膠烘焙機(jī),，EVG120光刻膠處理自動(dòng)化系統(tǒng),；EVG150光刻膠處理自動(dòng)化系統(tǒng)。如果您需要了解每個(gè)型號(hào)的特點(diǎn)和參數(shù),，請(qǐng)聯(lián)系我們,，我們會(huì)給您提供蕞新的資料?；蛘咴L問岱美儀器的官網(wǎng)獲取相關(guān)信息。

EV集團(tuán)（EVG）是面向MEMS，納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場(chǎng)的晶圓鍵合機(jī)和光刻設(shè)備的LINGXIAN供應(yīng)商,，日前宣布已收到其制造設(shè)備和服務(wù)組合的多個(gè)訂單,，這些產(chǎn)品和服務(wù)旨在滿足對(duì)晶圓的新興需求，水平光學(xué)（WLO）和3D感應(yīng),。市場(chǎng)lingxian的產(chǎn)品組合包括EVG®770自動(dòng)UV-納米壓印光刻（UV-NIL）步進(jìn)器,，用于步進(jìn)重復(fù)式主圖章制造，用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的IQAligner®UV壓印系統(tǒng)以及EVG®40NT自動(dòng)測(cè)量系統(tǒng),，用于對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證,。EVG的WLO解決方案由該公司的NILPhotonics®能力中心提供支持。使用ZUIXIN的壓印光刻技術(shù)和鍵合對(duì)準(zhǔn)技術(shù)在晶圓級(jí)制造微透鏡,，衍射光學(xué)元件和其他光學(xué)組件可帶來諸多好處,。這些措施包括通過高度并行的制造工藝降低擁有成本，以及通過堆疊使ZUI終器件的外形尺寸更小,。EVG是納米壓印光刻和微成型領(lǐng)域的先驅(qū)和市場(chǎng)LINGDAOZHE,，擁有全球ZUI大的工具安裝基礎(chǔ)。可在眾多應(yīng)用場(chǎng)景中找到EVG的設(shè)備應(yīng)用,，包括先進(jìn)封裝,，化合物半導(dǎo)體，功率器件,，LED,，傳感器和MEMS。

我們可以根據(jù)您的需求提供進(jìn)行優(yōu)化的多用途系統(tǒng),。我們的掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于從掩模對(duì)準(zhǔn)到鍵合對(duì)準(zhǔn)的快速簡(jiǎn)便轉(zhuǎn)換,。此外，可以使用用于壓印光刻的可選工具集,，例如UV-納米壓印光刻,，熱壓印或微接觸印刷。所有系統(tǒng)均支持原位對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證軟件,，以提高手動(dòng)操作系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)精度和可重復(fù)性,。EVG620NT/EVG6200NT可從手動(dòng)到自動(dòng)基片處理，實(shí)現(xiàn)現(xiàn)場(chǎng)升級(jí),。此外,，所有掩模對(duì)準(zhǔn)器都支持EVG專有的NIL技術(shù)。如果您需要納米壓印設(shè)備,，請(qǐng)?jiān)L問我們的官網(wǎng),，或者直接聯(lián)系我們。EVG100光刻膠處理系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板,，直徑從2寸到300 mm,。湖南傳感器光刻機(jī)

EVG光刻機(jī)關(guān)注未來市場(chǎng)趨勢(shì) - 例如光子學(xué) ,、光學(xué)3D傳感- 并為這些應(yīng)用開發(fā)新的方案和調(diào)整現(xiàn)有的解決方案。湖南傳感器光刻機(jī)

EVG®6200NT掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)（半自動(dòng)/自動(dòng)）特色：EVG®6200NT掩模對(duì)準(zhǔn)器為光學(xué)雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達(dá)200毫米,。技術(shù)數(shù)據(jù)：EVG6200NT以其自動(dòng)化靈活性和可靠性而著稱,，可在蕞小的占位面積上提供蕞先近的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)，并具有蕞高的產(chǎn)能,，先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能和優(yōu)化的總擁有成本,。操作員友好型軟件，蕞短的掩模和工具更換時(shí)間以及高/效的全球服務(wù)和支持使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案,。EVG6200NT或完全安裝的EVG6200NTGen2掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)有半自動(dòng)或自動(dòng)配置,，并配有集成的振動(dòng)隔離功能，可在獷泛的應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)出色的曝光效果,，例如薄和厚光刻膠的曝光,，深腔和類似地形的圖案，以及薄而易碎的材料（例如化合物半導(dǎo)體）的加工,。此外,，半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。湖南傳感器光刻機(jī)