EVG770自動UV-NIL納米壓印步進機,，用于制作主圖章。母模是晶圓大小的模板,，里面完全裝有微透鏡模具,，每個模具都采用分步重復的方法從一個透鏡模板中復制。EVG從金屬或玻璃制成的單鏡頭母版開始,，提供了涵蓋了制作母模的所有基本工藝步驟的工藝流程,，具有WUYULUNBI的鏡片位置精度和GAODUAN鏡片制造所需的高鏡片形狀可重復性晶圓級相機模塊。IQAligner自動UV-NIL納米壓印系統(tǒng),，用于UV微透鏡成型,。軟UV壓印光刻技術是用于制造聚合物微透鏡（WLO系統(tǒng)的關鍵要素）的高度并行技術。EVG從晶圓尺寸的主圖章復制的軟性圖章開始，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,，可以輕松地將其應用于工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合,。此外，EVGroup提供合格的微透鏡成型工藝,，包括所有相關的材料專業(yè)知識,。EVG40NT自動測量系統(tǒng)。支持非常高的分辨率和精度的垂直和橫向測量,，計量對于驗證是否符合嚴格的工藝規(guī)范并立即優(yōu)化集成的工藝參數(shù)至關重要,。在WLO制造中，EVG的度量衡解決方案可用于關鍵尺寸（CD）測量和透鏡疊層對準驗證,，以及許多其他應用,。IQ Aligner光刻機支持的晶圓尺寸高達200 mm / 300 mm。官方授權(quán)經(jīng)銷光刻機聯(lián)系電話

光刻膠處理系統(tǒng)：EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新標準,。EVG100系列的設計旨在提供蕞廣范的工藝變革,，其模塊化功能可提供旋涂和噴涂，顯影,，烘烤和冷卻模塊,，以滿足個性化生產(chǎn)需求。這些系統(tǒng)可處理各種材料,，例如正性和負性光刻膠,，聚酰亞胺，薄光刻膠層的雙面涂層,，高粘度光刻膠和邊緣保護涂層,。這些系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板，直徑從2寸到300mm,，矩形,，正方形甚至不規(guī)則形狀的基板，而無需或只需很短的加工時間,。青海光刻機有哪些應用EVG已經(jīng)與研究機構(gòu)合作超過35年,，能夠深入了解他們的獨特需求。

EVG620NT或完全容納的EVG620NTGen2掩模對準系統(tǒng)配備了集成的振動隔離功能,，可在各種應用中實現(xiàn)出色的曝光效果,，例如，對薄而厚的光刻膠進行曝光,，對深腔進行構(gòu)圖并形成可比的形貌,，以及對薄而易碎的材料（例如化合物半導體）進行加工。此外,，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術,。EVG620NT特征：晶圓/基板尺寸從小到150mm/6''系統(tǒng)設計支持光刻工藝的多功能性易碎,，薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理，更換時間短帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列

我們的研發(fā)實力：EVG已經(jīng)與研究機構(gòu)合作超過35年,，讓我們深入了解他們的獨特需求,。我們專業(yè)的研發(fā)工具提供zhuo越的技術和ZUI大的靈活性，使大學,、研究機構(gòu)和技術開發(fā)合作伙伴能夠參與多個研究項目和應用項目,。此外，研發(fā)設備與EVG的合心技術平臺無縫集成,，這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個制造鏈,。研發(fā)和權(quán)面生產(chǎn)系統(tǒng)之間的軟件和程序兼容性使研究人員能夠?qū)⑵淞鞒踢w移到批量生產(chǎn)環(huán)境。以客戶的需求為導向,，研發(fā)才具有價值,，也是我們不斷前進的動力。EVG150光刻膠處理系統(tǒng)擁有：Ergo裝載盒式工作站/ SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口,。

HERCULES光刻軌道系統(tǒng)技術數(shù)據(jù)：對準方式：上側(cè)對準：≤±0.5μm,；底側(cè)對準：≤±1,0μm；紅外校準：≤±2,0μm/具體取決于基材先進的對準功能：手動對準,；自動對準,；動態(tài)對準。對準偏移校正：自動交叉校正/手動交叉校正,；大間隙對準,。工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/SMIF/FOUP/SECS/GEM/薄,，彎曲,，翹曲，邊緣晶圓處理曝光源：汞光源/紫外線LED光源曝光設定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式楔形補償：全自動軟件控制,；非接觸式曝光選項：間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光系統(tǒng)控制操作系統(tǒng)：Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)多語言用戶GUI和支持：CN,，DE，F(xiàn)R,，IT,，JP，KR實時遠程訪問,，診斷和故障排除EVG101是光刻膠處理,，EVG105是光刻膠烘焙機，EVG120,、EVG150是光刻膠處理自動化系統(tǒng),。ABM光刻機原理

EVG所有光刻設備平臺均為300mm,。官方授權(quán)經(jīng)銷光刻機聯(lián)系電話

EVG120特征：晶圓尺寸可達200毫米超緊湊設計,，占用空間蕞小蕞多2個涂布/顯影室和10個加熱/冷卻板用于旋涂和噴涂，顯影，烘烤和冷卻的多功能模塊的多功能組合為許多應用領域提供了巨大的機會化學柜,，用于化學品的外部存儲EV集團專有的OmniSpray®超聲波霧化技術提供了沒人可比的處理結(jié)果,，當涉及到極端地形的保形涂層CoverSpinTM旋轉(zhuǎn)蓋可降低光刻膠消耗并優(yōu)化光刻膠涂層的均勻性Megasonic技術用于清潔，聲波化學處理和顯影,，可提高處理效率并將處理時間從數(shù)小時縮短至數(shù)分鐘,。官方授權(quán)經(jīng)銷光刻機聯(lián)系電話