集成化光刻系統(tǒng)HERCULES光刻量產(chǎn)軌道系統(tǒng)通過完全集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合了掩模對準和曝光以及集成的預處理和后處理功能的高度自動化,，完善了EVG光刻產(chǎn)品系列,。HERCULES光刻軌道系統(tǒng)基于模塊化平臺，將EVG已建立的光學掩模對準技術(shù)與集成的清潔,，光刻膠涂層,，烘烤和光刻膠顯影模塊相結(jié)合。這使HERCULES平臺變成了“一站式服務”,，在這里將經(jīng)過預處理的晶圓裝載到工具中,，然后返回完全結(jié)構(gòu)化的經(jīng)過處理的晶圓。目前可以預定的型號為：HERCULES,。請訪問岱美儀器的官網(wǎng)獲取更多的信息。除了光刻機之外,，岱美還代理了EVG的鍵合機等設備,。進口光刻機技術(shù)支持

EVG的掩模對準系統(tǒng)含有：EVG610；EVG620NT半自動/全自動掩模對準系統(tǒng),；EVG6200NT半自動/全自動掩模對準系統(tǒng),；IQAligner自動掩模對準系統(tǒng)；IQAlignerNT自動掩模對準系統(tǒng),；【EVG®610掩模對準系統(tǒng)】EVG®610是一個緊湊的和多用途R＆d系統(tǒng),，可以處理小基板片和高達200毫米的晶片。EVG®610技術(shù)數(shù)據(jù)：EVG610支持多種標準光刻工藝,，例如真空,，硬，軟和接近曝光模式,，并可選擇背面對準功能,。此外，該系統(tǒng)還提供其他功能,，包括鍵合對準和納米壓印光刻（NIL）,。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,，可滿足用戶需求的變化，轉(zhuǎn)換時間不到幾分鐘,。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求,，因此使其非常適合大學和研發(fā)應用。廣東光刻機可以用于研發(fā)嗎EVG的代理商岱美儀器能在全球范圍內(nèi)提供服務,。

EVG®610特征：晶圓/基板尺寸從小到200mm/8''頂側(cè)和底側(cè)對準能力高精度對準臺自動楔形補償序列電動和程序控制的曝光間隙支持ZUI新的UV-LED技術(shù)ZUI小化系統(tǒng)占地面積和設施要求分步流程指導遠程技術(shù)支持多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）便捷處理和轉(zhuǎn)換重組臺式或帶防震花崗巖臺的單機版EVG®610附加功能：鍵對準紅外對準納米壓印光刻（NIL）EVG®610技術(shù)數(shù)據(jù)：對準方式上側(cè)對準：≤±0.5μm底面要求：≤±2,0μm紅外校準：≤±2,0μm/具體取決于基板材料鍵對準：≤±2,0μmNIL對準：≤±2,0μm

光刻機軟件支持基于Windows的圖形用戶界面的設計,，注重用戶友好性,，并可輕松引導操作員完成每個流程步驟,。多語言支持，單個用戶帳戶設置和集成錯誤記錄/報告和恢復,，可以簡化用戶的日常操作。所有EVG系統(tǒng)都可以遠程通信,。因此，我們的服務包括通過安全連接,，電話或電子郵件，對包括經(jīng)過現(xiàn)場驗證的,，實時遠程診斷和排除故障,。EVG經(jīng)驗豐富的工藝工程師隨時準備為您提供支持,，這得益于我們較分散的全球支持機構(gòu),，包括三大洲的潔凈室空間：歐洲(HQ),亞洲(日本)和北美(美國).我們可以根據(jù)您的需求提供優(yōu)化的多用途系統(tǒng),。

EVG6200NT附加功能：鍵對準紅外對準納米壓印光刻（NIL）EVG6200NT技術(shù)數(shù)據(jù)：曝光源汞光源/紫外線LED光源先進的對準功能手動對準/原位對準驗證自動對準動態(tài)對準/自動邊緣對準對準偏移校正算法EVG6200NT產(chǎn)能：全自動：弟一批生產(chǎn)量：每小時180片全自動：吞吐量對準：每小時140片晶圓晶圓直徑（基板尺寸）：高達200毫米對準方式：上側(cè)對準：≤±0.5μm底側(cè)對準：≤±1,0μm紅外校準：≤±2,0μm/具體取決于基板材料鍵對準：≤±2,0μmNIL對準：≤±3.0μm曝光設定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式楔形補償：全自動軟件控制曝光選項：間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光系統(tǒng)控制操作系統(tǒng)：Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)多語言用戶GUI和支持：CN,，DE,，F(xiàn)R,，IT,，JP,，KR實時遠程訪問，診斷和故障排除工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/SMIF/FOUP/SECS/GEM/薄,，彎曲,，翹曲,，邊緣晶圓處理納米壓印光刻技術(shù)：SmartNIL在全球范圍內(nèi),，我們?yōu)樵S多用戶提供了量產(chǎn)型的光刻機系統(tǒng)，并得到了用戶的無數(shù)好評。山東光刻機美元報價

HERCULES 全電動頂部和底部分離場顯微鏡支持實時,、大間隙、晶圓平面或紅外對準,，在可編程位置自動定位。進口光刻機技術(shù)支持

EVG6200NT特征：晶圓/基板尺寸從小到200mm/8''系統(tǒng)設計支持光刻工藝的多功能性在弟一次光刻模式下的吞吐量高達180WPH,，在自動對準模式下的吞吐量高達140WPH易碎,，薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,，更換時間短帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列自動原點功能,，用于對準鍵的精確居中具有實時偏移校正功能的動態(tài)對準功能支持蕞新的UV-LED技術(shù)返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)自動化系統(tǒng)上的手動基板裝載功能可以從半自動版本升級到全自動版本蕞小化系統(tǒng)占地面積和設施要求多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）先進的軟件功能以及研發(fā)與權(quán)面生產(chǎn)之間的兼容性便捷處理和轉(zhuǎn)換重組遠程技術(shù)支持和SECS/GEM兼容性臺式或帶防震花崗巖臺的單機版,。進口光刻機技術(shù)支持