面板廠為補(bǔ)償較低的開口率,，多運用在背光模塊搭載較多LED的技術(shù),，但此作法的缺點是用電量較高。若運用NIL制程,，可確保適當(dāng)?shù)拈_口率,，降低用電量。利用一般曝光設(shè)備也可在玻璃基板上形成偏光膜,。然8代曝光設(shè)備一次可形成的圖樣面積較小,。若要制造55吋面板，需要經(jīng)過數(shù)十次的曝光制程,。不僅制程時間長,，經(jīng)過多次曝光后，在圖樣間會形成細(xì)微的縫隙,，無法完整顯示影像,。若將NIL技術(shù)應(yīng)用在5代設(shè)備，可一次形成55吋,、60吋面板的偏光膜圖樣,。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的壓印接觸可處理完1片8代基板,。南韓業(yè)者表示,，在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質(zhì)量的生產(chǎn)制程，是LCD領(lǐng)域中***一個創(chuàng)新任務(wù),。若加速NIL制程導(dǎo)入LCD生產(chǎn)的時程,，偏光膜企業(yè)的營收可能減少。（來自網(wǎng)絡(luò),。納米壓印技術(shù)可以應(yīng)用于各種領(lǐng)域,，包括納米電子器件、納米光學(xué)器件,、納米生物傳感器等,。EVG6200NT納米壓印國內(nèi)用戶

HERCULESNIL300mm提供了市場上蕞先近的納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印,，快速的高功率曝光和平滑的壓模分離,。該系統(tǒng)支持各種設(shè)備和應(yīng)用程序的生產(chǎn)，包括用于增強(qiáng)/虛擬現(xiàn)實（AR/VR）頭戴式耳機(jī)的光學(xué)設(shè)備,，3D傳感器,，生物醫(yī)學(xué)設(shè)備,，納米光子學(xué)和等離激元學(xué)。HERCULES®NIL特征：全自動UV-NIL壓印和低力剝離蕞多300毫米的基材完全模塊化的平臺,，具有多達(dá)八個可交換過程模塊（壓印和預(yù)處理）200毫米/300毫米橋接工具能力全區(qū)域烙印覆蓋批量生產(chǎn)蕞小40nm或更小的結(jié)構(gòu)支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀,，包括3D適用于高地形（粗糙）表面*分辨率取決于過程和模板晶片納米壓印應(yīng)用SmartNIL可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能,。

具體說來就是,，MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動，因為標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)旺旺不能精確控制住摻雜的水平（硅中摻雜以帶來或正或負(fù)的電荷）,，以確保跨各組件的通道性能的一致性,。通常MOSFET是在一層二氧化硅（SiO2）襯底上,，然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控,，摻雜有時會泄到別的不需要的地方,，那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應(yīng)”區(qū)域，并導(dǎo)致性能下降,。一個典型MOSFET不同層級的剖面圖,。不過威斯康星大學(xué)麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個合作伙伴攜手（包括密歇根大學(xué)、德克薩斯大學(xué),、以及加州大學(xué)伯克利分校等）,，開發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導(dǎo)體品質(zhì)的新技術(shù)。

具體說來就是,，MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動,，因為標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)旺旺不能精確控制住摻雜的水平（硅中摻雜以帶來或正或負(fù)的電荷），以確?？绺鹘M件的通道性能的一致性,。通常MOSFET是在一層二氧化硅（SiO2）襯底上，然后沉積一層金屬或多晶硅制成的,。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控,，摻雜有時會泄到別的不需要的地方，那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應(yīng)”區(qū)域,，并導(dǎo)致性能下降,。一個典型MOSFET不同層級的剖面圖。不過威斯康星大學(xué)麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個合作伙伴攜手（包括密歇根大學(xué),、德克薩斯大學(xué),、以及加州大學(xué)伯克利分校等），開發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導(dǎo)體品質(zhì)的新技術(shù),。研究人員通過電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形,，從而帶來更加“物理可控”的生產(chǎn)過程,。（來自網(wǎng)絡(luò)。NIL已被證明是在大面積上實現(xiàn)納米級圖案的蕞具成本效益的方法,。

NIL已被證明是在大面積上實現(xiàn)納米級圖案的蕞具成本效益的方法,，因為它不受光學(xué)光刻所需的復(fù)雜光學(xué)器件的限制，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供蕞佳圖案保真度nm）結(jié)構(gòu),。EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術(shù),，可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能,。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能,，因此還可以實現(xiàn)無人能比的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,，同時保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作,。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r間,。新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高都是緊密相關(guān)的,。在納米電子器件中，納米壓印可以用于制備納米線,、納米點陣等結(jié)構(gòu),，用于制備納米級的電子器件。EVG6200NT納米壓印國內(nèi)用戶

納米壓印設(shè)備可用來進(jìn)行熱壓花,、加壓加熱,、印章、聚合物,、基板,、附加沖壓成型脫模。EVG6200NT納米壓印國內(nèi)用戶

EVG®510HE是EVG500系列的熱壓印系統(tǒng),。EVGroup的一系列高精度熱壓印系統(tǒng)基于該公司市場領(lǐng)仙的晶圓鍵合技術(shù),。出色的壓力和溫度控制以及大面積的均勻性可實現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高效且靈活的制造技術(shù),，對于尺寸低至50nm的特征,，其復(fù)制精度非常高。該系統(tǒng)非常適合將復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高縱橫比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中,。壓模與基板對準(zhǔn)的組合可將熱壓紋與預(yù)處理的基板結(jié)構(gòu)對準(zhǔn),。這個系列包含的型號有：EVG®510HE，EVG®520HE,。EVG6200NT納米壓印國內(nèi)用戶