EVG®720自動(dòng)SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)自動(dòng)全視野的UV納米壓印溶液達(dá)150毫米,，設(shè)有EVGs專(zhuān)有SmartNIL®技術(shù)EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專(zhuān)業(yè)知識(shí),，能夠大規(guī)模制造微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu),。具有SmartNIL技術(shù)的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40nm*的納米結(jié)構(gòu),，具有無(wú)人能比的吞吐量,，非常適合批量生產(chǎn)下一代微流控和光子器件,，例如衍射光學(xué)元件（DOEs）,。*分辨率取決于過(guò)程和模板如果需要詳細(xì)的信息,，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司,。也可以訪問(wèn)岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司的官網(wǎng),，獲得更多信息。EVG的SmartNIL技術(shù)是基于紫外線(xiàn)曝光的全場(chǎng)壓印技術(shù),，可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù),。江西納米壓印出廠價(jià)

為了優(yōu)化工藝鏈,，HERCULESNIL中包括多次使用的軟印章的制造，這是大批量生產(chǎn)的基石,，不需要額外的壓印印章制造設(shè)備,。作為一項(xiàng)特殊功能，該工具可以升級(jí)為具有ISO3*功能的微型環(huán)境,，以確保蕞低的缺陷率和蕞高質(zhì)量的原版復(fù)制,。通過(guò)為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案，HERCULESNIL增強(qiáng)了EVG在權(quán)面積NIL設(shè)備解決方案中的領(lǐng)導(dǎo)地位,。*根據(jù)ISO14644HERCULES®NIL特征：批量生產(chǎn)蕞小40nm*或更小的結(jié)構(gòu)聯(lián)合預(yù)處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL®體積驗(yàn)證的壓印技術(shù),，具有出色的復(fù)制保真度全自動(dòng)壓印和受控的低力分離，可蕞大程度地重復(fù)使用工作印章包括工作印章制造能力高功率光源,，固化時(shí)間蕞快優(yōu)化的模塊化平臺(tái)可實(shí)現(xiàn)高吞吐量*分辨率取決于過(guò)程和模板廣西納米壓印研發(fā)生產(chǎn)納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本的技術(shù),，大批量替代光刻技術(shù)。

具體說(shuō)來(lái)就是,，MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動(dòng),，因?yàn)闃?biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)旺旺不能精確控制住摻雜的水平（硅中摻雜以帶來(lái)或正或負(fù)的電荷），以確?？绺鹘M件的通道性能的一致性,。通常MOSFET是在一層二氧化硅（SiO2）襯底上，然后沉積一層金屬或多晶硅制成的,。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控,，摻雜有時(shí)會(huì)泄到別的不需要的地方，那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應(yīng)”區(qū)域,，并導(dǎo)致性能下降,。一個(gè)典型MOSFET不同層級(jí)的剖面圖。不過(guò)威斯康星大學(xué)麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個(gè)合作伙伴攜手（包括密歇根大學(xué),、德克薩斯大學(xué),、以及加州大學(xué)伯克利分校等），開(kāi)發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導(dǎo)體品質(zhì)的新技術(shù),。研究人員通過(guò)電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形,，從而帶來(lái)更加“物理可控”的生產(chǎn)過(guò)程。（來(lái)自網(wǎng)絡(luò),。

HERCULES®NIL特征：全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離蕞多300毫米的基材完全模塊化的平臺(tái),，具有多達(dá)八個(gè)可交換過(guò)程模塊（壓印和預(yù)處理）200毫米/300毫米橋接工具能力全區(qū)域烙印覆蓋批量生產(chǎn)ZUI小40nm或更小的結(jié)構(gòu)支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D適用于高地形（粗糙）表面*分辨率取決于過(guò)程和模板HERCULES®NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/200和300毫米解析度：≤40nm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：SmartNIL®曝光源：大功率LED（i線(xiàn)）>400mW/cm2對(duì)準(zhǔn)：≤±3微米自動(dòng)分離：支持的前處理：提供所有預(yù)處理模塊迷你環(huán)境和氣候控制：可選的工作印章制作：支持的SmartNIL集成多次使用的軟標(biāo)記處理功能,，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢(shì),，同時(shí)保留可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的特點(diǎn)。

HERCULES®NIL：完全集成的納米壓印光刻解決方案,，可實(shí)現(xiàn)300mm的大批量生產(chǎn)■批量生產(chǎn)低至40nm的結(jié)構(gòu)或更小尺寸（分辨率取決于過(guò)程和模板）■結(jié)合了預(yù)處理（清潔/涂布/烘烤/冷卻）和SmartNIL®技術(shù)■全自動(dòng)壓印和受控的低力分離,，可蕞大程度地重復(fù)使用工作印章■具備工作印章制造能力EVG®770：連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù),，可進(jìn)行有效的母版制作■用于晶圓級(jí)光學(xué)器件的微透鏡的高效母模制造，直至SmartNIL®的納米結(jié)構(gòu)■不同類(lèi)型的母版的簡(jiǎn)單實(shí)現(xiàn)■可變的光刻膠分配模式■分配,，壓印和脫模過(guò)程中的實(shí)時(shí)圖像■用于壓印和脫模的原位力控制EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng),。遼寧納米壓印現(xiàn)場(chǎng)服務(wù)

EVG?770可用于連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作,。江西納米壓印出廠價(jià)

在EVG的NILPhotonics®解決方案支援中心,，雙方合作研發(fā)用于制造光學(xué)傳感器的新材料，以及適用于大眾化市場(chǎng)的晶圓級(jí)光學(xué)元件,。（奧地利）與WINDACH（德國(guó)），2019年11月27日――EV集團(tuán)(EVG)這一全球領(lǐng)仙的為微機(jī)電系統(tǒng),、納米技術(shù)與半導(dǎo)體市場(chǎng)提供晶圓鍵合與光刻設(shè)備的供應(yīng)商,，金天宣布與高科技工業(yè)粘合劑制造商DELO在晶圓級(jí)光學(xué)元件(WLO)領(lǐng)域開(kāi)展合作。這兩家公司均在光學(xué)傳感器制造領(lǐng)域處于領(lǐng)仙地位,。它們的合作將充分利用EVG的透鏡注塑成型與納米壓印光刻(NIL)加工設(shè)備與DELO先進(jìn)的粘合劑與抗蝕材料,，在工業(yè)，汽車(chē),，消費(fèi)類(lèi)電子產(chǎn)品市場(chǎng)開(kāi)發(fā)與應(yīng)用新型光學(xué)設(shè)備,，例如生物特征身份認(rèn)證，面部識(shí)別,。目前雙方正在EVG的NILPhotonics®解決方案支援中心（位于EVG總部,，奧地利Florian）以及DELO在德國(guó)Windach的總部展開(kāi)合作。雙方致力于改善與加快材料研發(fā)周期,。EVG的NILPhotonics解決方案支援中心為NIL供應(yīng)鏈的客戶(hù)與合作伙伴提供了開(kāi)放的創(chuàng)新孵化器,，旨在通過(guò)合作來(lái)縮短創(chuàng)新設(shè)備與應(yīng)用的研發(fā)與推廣周期。該中心的基礎(chǔ)設(shè)施包括領(lǐng)仙技術(shù)的潔凈室與支持NIL制造的主要步驟的設(shè)備,，例如分步重復(fù)母版,，透鏡模制，以及EVG的SmartNIL®技術(shù),，晶圓鍵合與必要的測(cè)量設(shè)備,。江西納米壓印出廠價(jià)