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來源: 發(fā)布時間:2024-09-12

GEMINI ® FB自動化生產(chǎn)晶圓鍵合系統(tǒng) 集成平臺可實現(xiàn)高精度對準和熔融 特色 技術數(shù)據(jù) 半導體器件的垂直堆疊已經(jīng)成為使器件密度和性能不斷提高的日益可行的方法。晶圓間鍵合是實現(xiàn)3D堆疊設備的重要工藝步驟,。EVG的GEMINI FB XT集成熔融系統(tǒng)擴展了當前標準,,并結合了更高的生產(chǎn)率,更高的對準度和覆蓋精度,,適用于諸如存儲器堆疊,,3D片上系統(tǒng)(SoC),背面照明CMOS圖像傳感器堆疊和芯片分割等應用,。該系統(tǒng)具有新的Smart View NT3鍵合對準器,,該鍵合對準器是專門為 <50 nm的熔融和混合晶片鍵合對準要求而開發(fā)的。EVG鍵合可選功能:陽極,,UV固化,,650℃加熱器。河南鍵合機美元價格

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EVG®810LT技術數(shù)據(jù)晶圓直徑(基板尺寸)50-200,、100-300毫米LowTemp?等離子活化室工藝氣體:2種標準工藝氣體(N2和O2)通用質(zhì)量流量控制器:自校準(高達20.000sccm)真空系統(tǒng):9x10-2mbar腔室的打開/關閉:自動化腔室的加載/卸載:手動(將晶圓/基板放置在加載銷上)可選功能:卡盤適用于不同的晶圓尺寸無金屬離子活化混合氣體的其他工藝氣體帶有渦輪泵的高真空系統(tǒng):9x10-3mbar基本壓力符合LowTemp?等離子活化粘結的材料系統(tǒng)Si:Si/Si,,Si/Si(熱氧化,Si(熱氧化)/Si(熱氧化)TEOS/TEOS(熱氧化)絕緣體鍺(GeOI)的Si/GeSi/Si3N4玻璃(無堿浮法):硅/玻璃,,玻璃/玻璃化合物半導體:GaAs,,GaP,,InP聚合物:PMMA,環(huán)烯烴聚合物用戶可以使用上述和其他材料的“ZUI佳已知方法”配方(可根據(jù)要求提供完整列表)微流控鍵合機售后服務EVG鍵合機鍵合工藝可在真空或受控氣體條件下進行,。

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EVG的晶圓鍵合機鍵合室配有通用鍵合蓋,,可快速排空,快速加熱和冷卻,。通過控制溫度,,壓力,時間和氣體,,允許進行大多數(shù)鍵合過程,。也可以通過添加電源來執(zhí)行陽極鍵合。對于UV固化黏合劑,,可選的鍵合室蓋具有UV源,。鍵合可在真空或受控氣體條件下進行。頂部和底部晶片的獨li溫度控制補償了不同的熱膨脹系數(shù),,從而實現(xiàn)無應力黏合和出色的溫度均勻性。在不需要重新配置硬件的情況下,,可以在真空下執(zhí)行SOI/SDB(硅的直接鍵合)預鍵合,。以上的鍵合機由岱美儀器供應并提供技術支持。 

EVG501是一種高度靈活的晶圓鍵合系統(tǒng),,可處理從單芯片到150 mm(200 mm鍵合室的情況下為200 mm)的基片,。該工具支持所有常見的晶圓鍵合工藝,如陽極,,玻璃料,,焊料,共晶,,瞬態(tài)液相和直接鍵合,。易于操作的鍵合室和工具設計,讓用戶能快速,,輕松地重新裝配不同的晶圓尺寸和工藝,,轉換時間小于5分鐘。這種多功能性非常適合大學,,研發(fā)機構或小批量生產(chǎn),。鍵合室的基本設計在EVG的HVM(量產(chǎn))工具上是相同的,例如GEMINI,,鍵合程序很容易轉移,,這樣可以輕松擴大生產(chǎn)量。 EVG服務:高真空對準鍵合,、集體D2W鍵合,、臨時鍵合和熱,、混合鍵合、機械或者激光剖離,、黏合劑鍵合,。

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EVG®520IS晶圓鍵合機系統(tǒng):單腔或雙腔晶圓鍵合系統(tǒng),用于小批量生產(chǎn),。EVG520IS單腔單元可半自動操作ZUI大200mm的晶圓,,適用于小批量生產(chǎn)應用。EVG520IS根據(jù)客戶反饋和EVGroup的持續(xù)技術創(chuàng)新進行了重新設計,,具有EVGroup專有的對稱快速加熱和冷卻卡盤設計,。諸如獨LI的頂側和底側加熱器,高壓鍵合能力以及與手動系統(tǒng)相同的材料和工藝靈活性等優(yōu)勢,,為所有晶圓鍵合工藝的成功做出了貢獻,。特征:全自動處理,手動裝卸,,包括外部冷卻站兼容EVG機械和光學對準器單室或雙室自動化系統(tǒng)全自動的鍵合工藝執(zhí)行和鍵合蓋移動集成式冷卻站可實現(xiàn)高產(chǎn)量選項:高真空能力(1E-6毫巴)可編程質(zhì)量流量控制器集成冷卻技術數(shù)據(jù)ZUI大接觸力10,、20、60,、100kN加熱器尺寸150毫米200毫米ZUI小基板尺寸單芯片100毫米真空標準:1E-5mbar可選:1E-6mbar EVG鍵合機軟件是基于Windows的圖形用戶界面的設計,,注重用戶友好性,可輕松引導操作員完成每個流程步驟,。江西EVG540鍵合機

EVG的鍵合機設備占據(jù)了半自動和全自動晶圓鍵合機的zhuyao市場份額,,并且安裝的機臺已經(jīng)超過1500套。河南鍵合機美元價格

Abouie M 等人[4]針對金—硅共晶鍵合過程中凹坑對鍵合質(zhì)量的影響展開研究,,提出一種以非晶硅為基材的金—硅共晶鍵合工藝以減少凹坑的形成,,但非晶硅的實際應用限制較大??蹬d華等人[5]加工了簡單的多層硅—硅結構,,但不涉及對準問題,實際應用的價值較小,。陳穎慧等人[6]以金— 硅共晶鍵合技術對 MEMS 器件進行了圓片級封裝[6],,其鍵合強度可以達到 36 MPa,但鍵合面積以及鍵合密封性不太理想,,不適用一些敏感器件的封裝處理,。袁星等人[7]對帶有微結構的硅—硅直接鍵合進行了研究,但其硅片不涉及光刻,、深刻蝕,、清洗等對硅片表面質(zhì)量影響較大的工藝,故其鍵合工藝限制較大。 河南鍵合機美元價格