光刻機處理結果:EVG在光刻技術方面的合心競爭力在于其掩模對準系統(tǒng)（EVG6xx和IQAligner系列）以及高度集成的涂層平臺（EVG1xx系列）的高吞吐量的接近和接觸曝光能力,。EVG的所有光刻設備平臺均為300mm,，可完全集成到HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中，并輔以其用于從上到下側對準驗證的計量工具,。高級封裝：在EVG®IQAligner®上結合NanoSpray?曝光的涂層TSV底部開口；在EVG的IQAlignerNT®上進行撞擊40μm厚抗蝕劑,；負側壁,，帶有金屬兼容的剝離抗蝕劑涂層;金屬墊在結構的中間；用于LIGA結構的高縱橫比結構,，用EVG®IQAligner®曝光200μm厚的抗蝕劑的結果,；西門子星狀測試圖暴露在EVG®6200NT上，展示了高分辨率的厚抗蝕劑圖形處理能力,；MEMS結構在20μm厚的抗蝕劑圖形化的結果,。EVG150光刻膠處理系統(tǒng)擁有：Ergo裝載盒式工作站/ SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口,。青海光刻機國內代理

IQAligner工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/SMIF/FOUP/SECS/GEM/薄，彎曲,，翹曲,，邊緣晶圓處理晶圓直徑（基板尺寸）：高達200毫米對準方式：上側對準：≤±0.5μm底側對準：≤±1,0μm紅外校準：≤±2,0μm/具體取決于基板材料曝光設定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式曝光選項：間隔曝光/洪水曝光系統(tǒng)控制操作系統(tǒng)：Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)多語言用戶GUI和支持：CN，DE,，F(xiàn)R,，IT，JP,，KR實時遠程訪問,，診斷和故障排除產能全自動：弟一批生產量：每小時85片全自動：吞吐量對準：每小時80片福建LED光刻機EVG大批量制造系統(tǒng)目的是在以蕞佳的成本效率與蕞高的技術標準相結合，為全球服務基礎設施提供支持,。

EVG620NT技術數(shù)據(jù)：曝光源：汞光源/紫外線LED光源先進的對準功能：手動對準/原位對準驗證自動對準動態(tài)對準/自動邊緣對準對準偏移校正算法EVG620NT產量:全自動：弟一批生產量：每小時180片全自動：吞吐量對準：每小時140片晶圓晶圓直徑（基板尺寸）：高達150毫米對準方式：上側對準：≤±0.5μm底側對準：≤±1,0μm紅外校準：≤±2,0μm/具體取決于基材鍵對準：≤±2,0μmNIL對準：≤±3.0μm曝光設定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式楔形補償：全自動軟件控制曝光選項：間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光系統(tǒng)控制：操作系統(tǒng)：Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)多語言用戶GUI和支持：CN,，DE，F(xiàn)R,，IT,，JP，KR實時遠程訪問,，診斷和故障排除工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/SMIF/FOUP/SECS/GEM/薄,，彎曲，翹曲,，邊緣晶圓處理納米壓印光刻技術：SmartNIL®

EVG的掩模對準系統(tǒng)含有：EVG610,；EVG620NT半自動/全自動掩模對準系統(tǒng)；EVG6200NT半自動/全自動掩模對準系統(tǒng),；IQAligner自動掩模對準系統(tǒng),；IQAlignerNT自動掩模對準系統(tǒng)；【EVG®610掩模對準系統(tǒng)】EVG®610是一個緊湊的和多用途R＆d系統(tǒng),，可以處理小基板片和高達200毫米的晶片,。EVG®610技術數(shù)據(jù)：EVG610支持多種標準光刻工藝，例如真空,，硬,，軟和接近曝光模式，并可選擇背面對準功能,。此外,，該系統(tǒng)還提供其他功能，包括鍵合對準和納米壓印光刻（NIL）,。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,，可滿足用戶需求的變化，轉換時間不到幾分鐘,。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求,，因此使其非常適合大學和研發(fā)應用,。只有以客戶的需求為導向，研發(fā)才具有價值,，也是我們不斷前進的動力,。

這使得可以在工業(yè)水平上開發(fā)新的設備或工藝，這不僅需要高度的靈活性,，而且需要可控和可重復的處理。EVG在要求苛刻的應用中積累了多年的旋涂和噴涂經驗,，并將這些知識技能整合到EVG100系列中,，可以利用我們的工藝知識為客戶提供支持,。光刻膠處理設備有：EVG101光刻膠處理,，EVG105光刻膠烘焙機，EVG120光刻膠處理自動化系統(tǒng),；EVG150光刻膠處理自動化系統(tǒng),。如果您需要了解每個型號的特點和參數(shù)，請聯(lián)系我們,，我們會給您提供蕞新的資料,。或者訪問岱美儀器的官網(wǎng)獲取相關的信息,。EVG已經與研究機構合作超過35年,，能夠深入了解他們的獨特需求。天津低溫光刻機

HERCULES平臺是“一站式服務”平臺,。青海光刻機國內代理

EVG6200NT附加功能：鍵對準紅外對準納米壓印光刻（NIL）EVG6200NT技術數(shù)據(jù)：曝光源汞光源/紫外線LED光源先進的對準功能手動對準/原位對準驗證自動對準動態(tài)對準/自動邊緣對準對準偏移校正算法EVG6200NT產能：全自動：弟一批生產量：每小時180片全自動：吞吐量對準：每小時140片晶圓晶圓直徑（基板尺寸）：高達200毫米對準方式：上側對準：≤±0.5μm底側對準：≤±1,0μm紅外校準：≤±2,0μm/具體取決于基板材料鍵對準：≤±2,0μmNIL對準：≤±3.0μm曝光設定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式楔形補償：全自動軟件控制曝光選項：間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光系統(tǒng)控制操作系統(tǒng)：Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)多語言用戶GUI和支持：CN,，DE，F(xiàn)R,，IT,，JP，KR實時遠程訪問,，診斷和故障排除工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/SMIF/FOUP/SECS/GEM/薄，彎曲,，翹曲,，邊緣晶圓處理納米壓印光刻技術：SmartNIL青海光刻機國內代理