這使得可以在工業(yè)水平上開發(fā)新的設(shè)備或工藝，這不僅需要高度的靈活性，而且需要可控和可重復(fù)的處理,。EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗(yàn)，并將這些知識技能整合到EVG100系列中，可以利用我們的工藝知識為客戶提供支持,。光刻膠處理設(shè)備有：EVG101光刻膠處理,，EVG105光刻膠烘焙機(jī)，EVG120光刻膠處理自動化系統(tǒng),；EVG150光刻膠處理自動化系統(tǒng),。如果您需要了解每個型號的特點(diǎn)和參數(shù),，請聯(lián)系我們，我們會給您提供蕞新的資料,?；蛘咴L問岱美儀器的官網(wǎng)獲取相關(guān)的信息。研發(fā)設(shè)備與EVG的和新技術(shù)平臺無縫集成,，這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個制造鏈,。湖北芯片光刻機(jī)

我們可以根據(jù)您的需求提供進(jìn)行優(yōu)化的多用途系統(tǒng)。我們的掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計用于從掩模對準(zhǔn)到鍵合對準(zhǔn)的快速簡便轉(zhuǎn)換,。此外,，可以使用用于壓印光刻的可選工具集，例如UV-納米壓印光刻,，熱壓印或微接觸印刷,。所有系統(tǒng)均支持原位對準(zhǔn)驗(yàn)證軟件，以提高手動操作系統(tǒng)的對準(zhǔn)精度和可重復(fù)性,。EVG620NT/EVG6200NT可從手動到自動基片處理,，實(shí)現(xiàn)現(xiàn)場升級。此外,，所有掩模對準(zhǔn)器都支持EVG專有的NIL技術(shù),。如果您需要納米壓印設(shè)備，請訪問岱美一起官網(wǎng),，或者直接聯(lián)系我們,。EVG光刻機(jī)有誰在用可在眾多應(yīng)用場景中找到EVG的設(shè)備應(yīng)用，包括先進(jìn)封裝,，化合物半導(dǎo)體,，功率器件，LED,，傳感器和MEMS,。

此外，EVG光刻機(jī)不斷關(guān)注未來的市場趨勢 - 例如光學(xué)3D傳感和光子學(xué) - 并為這些應(yīng)用開發(fā)新的方案和調(diào)整現(xiàn)有的解決方案,，以滿足客戶不斷變化的需求,。我們用持續(xù)的技術(shù)和市場地位證明了這一點(diǎn)，包括EVG在使用各種非標(biāo)準(zhǔn)抗蝕劑方面的無人能比的經(jīng)驗(yàn),，這些抗蝕劑針對獨(dú)特的要求和參數(shù)進(jìn)行了優(yōu)化,。了解客戶需求和有效的全球支持是我們提供優(yōu)先解決方案的重要基礎(chǔ)。只有接近客戶,，才能得知客戶的真實(shí)需求,，這是我們一直時刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一。

我們的研發(fā)實(shí)力：EVG已經(jīng)與研究機(jī)構(gòu)合作超過35年，讓我們深入了解他們的獨(dú)特需求,。我們專業(yè)的研發(fā)工具提供zhuo越的技術(shù)和*大的靈活性,，使大學(xué)、研究機(jī)構(gòu)和技術(shù)開發(fā)合作伙伴能夠參與多個研究項目和應(yīng)用項目,。此外,，研發(fā)設(shè)備與EVG的合心技術(shù)平臺無縫集成，這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個制造鏈,。研發(fā)和權(quán)面生產(chǎn)系統(tǒng)之間的軟件和程序兼容性使研究人員能夠?qū)⑵淞鞒踢w移到批量生產(chǎn)環(huán)境,。以客戶的需求為導(dǎo)向，研發(fā)才具有價值,，也是我們不斷前進(jìn)的動力,。EVG所有掩模對準(zhǔn)器都支持EVG專有的NIL技術(shù)。

EVG770自動UV-NIL納米壓印步進(jìn)機(jī),，用于制作主圖章,。母模是晶圓大小的模板，里面完全裝有微透鏡模具,，每個模具都采用分步重復(fù)的方法從一個透鏡模板中復(fù)制,。EVG從金屬或玻璃制成的單鏡頭母版開始，提供了涵蓋了制作母模的所有基本工藝步驟的工藝流程,，具有WUYULUNBI的鏡片位置精度和GAODUAN鏡片制造所需的高鏡片形狀可重復(fù)性晶圓級相機(jī)模塊,。IQAligner自動UV-NIL納米壓印系統(tǒng)，用于UV微透鏡成型,。軟UV壓印光刻技術(shù)是用于制造聚合物微透鏡（WLO系統(tǒng)的關(guān)鍵要素）的高度并行技術(shù),。EVG從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開始，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,，可以輕松地將其應(yīng)用于工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合,。此外，EVGroup提供合格的微透鏡成型工藝,，包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識,。EVG40NT自動測量系統(tǒng)。支持非常高的分辨率和精度的垂直和橫向測量,，計量對于驗(yàn)證是否符合嚴(yán)格的工藝規(guī)范并立即優(yōu)化集成的工藝參數(shù)至關(guān)重要,。在WLO制造中，EVG的度量衡解決方案可用于關(guān)鍵尺寸（CD）測量和透鏡疊層對準(zhǔn)驗(yàn)證,，以及許多其他應(yīng)用,。EVG已經(jīng)與研究機(jī)構(gòu)合作超過35年，能夠深入了解他們的獨(dú)特需求,。湖北芯片光刻機(jī)

EVG150光刻膠處理系統(tǒng)擁有：Ergo裝載盒式工作站/ SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口,。湖北芯片光刻機(jī)

光刻機(jī)軟件支持基于Windows的圖形用戶界面的設(shè)計,，注重用戶友好性，并可輕松引導(dǎo)操作員完成每個流程步驟,。多語言支持，單個用戶帳戶設(shè)置和集成錯誤記錄/報告和恢復(fù),，可以簡化用戶的日常操作,。所有EVG系統(tǒng)都可以遠(yuǎn)程通信。因此,，我們的服務(wù)包括通過安全連接,，電話或電子郵件，對包括經(jīng)過現(xiàn)場驗(yàn)證的,，實(shí)時遠(yuǎn)程診斷和排除故障,。EVG經(jīng)驗(yàn)豐富的工藝工程師隨時準(zhǔn)備為您提供支持，這得益于我們分散的全球支持機(jī)構(gòu),，包括三大洲的潔凈室空間：歐洲(HQ),亞洲(日本)和北美(美國).湖北芯片光刻機(jī)